【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）

【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置３に対し、低圧水銀ランプの光を照射して表面処理を行う表面処理部９と、半導体装置３の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置３上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】基材を加熱しながら、基材表面に紫外線照射を行うことにより基材表面の改質を行うことが可能な基材表面の改質装置、およびそれを備えた印刷装置を提供する。
【解決手段】基材表面の改質装置１００は、基材としての半導体装置３の表面を加熱する赤外線照射ユニット１０３と、半導体装置３と相対して設けられ、半導体装置３に紫外線Ｖを照射する紫外線ランプ１０６と、紫外線Ｖを透過し、且つ半導体装置３から放射される熱エネルギーおよび赤外線照射ユニット１０３から照射される加熱エネルギーを遮断するように、半導体装置３および赤外線照射ユニット１０３と紫外線ランプ１０６との間に設けられた遮蔽部としての合成石英ガラス板１０５と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置３に対し、オゾンを含有する雰囲気で紫外線を照射して表面処理を行う表面処理部９と、半導体装置３の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置３上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】ステージに載置する基材のいずれの面にアライメントマークが設けられる場合であっても、１つのカメラで撮像可能な印刷装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッドのノズルから液体の液滴が吐出される基材１を載置するステージ３７Ａと、基材１の一方面側或いは他方面側のいずれかに設けられたアライメントマークＭを撮像するカメラ６１と、一方面側からアライメントマークＭを撮像する第１の状態と、他方面側からアライメントマークＭを撮像する第２の状態とを切り替え可能とするようにカメラ６１の位置を制御するカメラ位置制御機構６５と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する前処理後、塗布までの間に基板の表面の状態が変化するのを抑えること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記液状体が塗布される前の前記基板に対して前処理を行う前処理部と、前記塗布部によって前記液状体が塗布される塗布空間と前記前処理部によって前記前処理が行われる前処理空間とを接続する接続空間を有し、前記接続空間の雰囲気が不活性ガスの雰囲気となるように調整可能に設けられた接続部とを備える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚制御、特に塗布膜の周縁部の膜厚均一化を容易に行うこと。
【解決手段】この面状塗布ユニット（ＡＣＴ）４０では、ステージ８０の上に基板Ｇを載置して、レジスト液供給機構８６およびノズル移動機構８８を動作させると、長尺ノズル８２の塗布走査により基板Ｇ上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜１００が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式を用いた微細パターンの形成におけるパターンのにじみが防止され、好ましい微細パターン形成が実現されるパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】基板(10)のパターン形成面(10A)に形成されるパターン(12)に対応して、パターンの幅方向の両側の外縁を含む処理対象領域に対して、当該パターンを構成するドット(26)の直径未満の幅を有する光線(20)を照射して、当該処理対象領域に改質処理が施される改質処理工程と、改質処理が施された処理対象領域を含むパターンが形成される領域に対してインクジェット方式により機能性液体が打滴される打滴工程と、を含むことを特徴とする。改質処理の露光解像度はドット解像度の１０倍以上とする態様が好ましい。また、改質処理中の基板に対して反応ガスを供給する反応ガス供給工程を含む態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】レンズを変形することなくかつ脱落することもないような適正な保持力で保持できるレンズ保持用治具を提供する。
【解決手段】レンズ基材２の外周部を挟持することによってレンズ基材２を略垂直に保持する第１〜第３のアーム３〜５を備える。これらのアームの上端部を支持する保持具本体６を備える。保持具本体６は、前記複数のアームのうち少なくとも一つのアーム（第１のアーム３）をレンズ基材２に対して接離する方向に揺動自在に支持する支持部材７を備える。保持具本体６は、前記揺動可能なアーム（第１のアーム３）をレンズ基材２に接近する方向に付勢するばね部材（捩りコイルばね２１）と、このばね部材のばね力を調整する調整機構２７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 省力化され且つ新規の塗装と遜色のない美観的に美しい再塗装が可能な、そのための表面処理方法及び該方法を実施するための装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ウォータージェット装置Ａの高圧噴射ノズル１９から鋼構造物に対して高圧液を噴射してその表面の塗装を剥離させ且つ錆を除去する表面処理方法において、前記高圧液中に方解石又はシラスを混入させて噴射する。 （もっと読む）

【課題】ワークに対して表面処理を行う表面前処理作業からインクを吐出して、当該インクの硬化作業までの時間を短縮させることができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】ワークに機能液を吐出するノズルを有する液滴吐出ヘッドと、前記ワークに表面処理を施す表面処理部と、前記ワークに対して、前記液滴吐出ヘッドと前記表面処理部を、相対的に走査する走査部と、を備えた液滴吐出装置であって、前記表面処理部は、前記ノズルと所定の距離をおいて配置され、前記走査部により、前記液滴吐出ヘッドより先に、前記ワークと対向するように走査される。 （もっと読む）

【課題】粒径の大きなインクを用いる場合であっても安定した印字品質が得られる、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板にインクを吐出する液滴吐出ヘッドと、液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクパック１５０，１５１と、液滴吐出ヘッド及びインクパック１５０，１５１を保持するキャリッジ６９と、インクパック１５０，１５１をキャリッジ６９に対して回動させる回動機構１６５と、を備えた液滴吐出装置である。 （もっと読む）

【課題】ミストに起因するキャリッジの動作不良を防止できる、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】紫外線硬化型の液滴を基板に吐出する液滴吐出ヘッド６０と、液滴が吐出された基板に紫外線を照射するランプ部を含むランプユニットと、液滴吐出ヘッド６０を保持するキャリッジ６９を移動可能に保持するヘッド移動機構と、キャリッジ６９の移動領域に沿って配置されるスケール部材６８ｂと、スケール部材６８ｂを読み取ることでキャリッジ６９の位置を検出する検出部６８ａと、を備えた液滴吐出装置である。ランプユニットの基板入口又は基板出口からの紫外線の漏れ光をスケール部材６８ｂに反射する領域に紫外線の反射を防止する反射防止膜１５０が設けられる。 （もっと読む）

【課題】表面にマークを描画する基板の裏面に位置検出用マークが形成されているときにも、基板の位置及び角度を検出して、生産性良く描画する装置を提供する。
【解決手段】表裏面を有する半導体基板１の表面２ａに液滴を吐出する塗布部１３と、裏面２ｂに形成された第１位置検出用マーク７及び第２位置検出用マーク８を撮影しての位置及び角度を検出する基板位置検出部１２と、基板位置検出部１２が検出した半導体基板１の位置及び角度の情報を用いて塗布部１３の所定の場所へ所定の角度で半導体基板１を移動する搬送部１６と、を有し、基板位置検出部１２は、塗布部１３が液滴を吐出する向きと反対の向きから第１位置検出用マーク７及び第２位置検出用マーク８を撮影する。 （もっと読む）

【課題】２液以上を混合してなる塗布液の塗布性に優れ、高品質の製品を安定的に提供し得る塗布方法及び塗布装置を提供すること。
【解決手段】塗布装置５０は、被塗布物１０に塗布液を塗布する装置であり、塗布液の塗布前に被塗布物１０に切り込み１１を設ける切り込み形成手段５１と、塗布液の塗布直前に複数種の流体を混合して該塗布液を調製する塗布液調製手段６３と、切り込み１１が設けられた被塗布物１０に塗布液を吐出する複数のノズル６５と、を備えている。複数のノズル６５は、被塗布物１０の複数箇所に塗布液を塗布可能に配列され且つ少なくとも該塗布液の吐出口が格子状に区画されている。 （もっと読む）

【課題】複数の処理部と搬送部とから構成された液滴吐出装置にかかわる。搬送部が各処理部にワークを搬入し難い構造であるときにも、各処理部にワークを搬入して膜を形成できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】半導体基板１に液滴を吐出して塗布する塗布部１０と、液滴を吐出する前に半導体基板１に前処理を施す前処理部９と、液滴が吐出された半導体基板１に後処理を施す後処理部１１と、塗布部１０と前処理部９と後処理部１１との間で半導体基板１を移動させる搬送部１３と、を備え、搬送部１３は半導体基板１を把持する把持部１３ａを有し、塗布部１０と前処理部９と後処理部１１とは半導体基板１を受け渡しする中継場所９ａ，１０ａ，１１ａを有し、中継場所９ａ，１０ａ，１１ａは把持部１３ａの移動範囲内に位置している。 （もっと読む）

【課題】ＵＶインクを用いる場合において装置構成の小型化が図られた液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板に前処理を施す前処理部と、前処理が施された基板に液滴を吐出して所定のパターンを描画する液滴吐出ヘッドを含む液滴吐出部と、液滴が吐出された基板に後処理を施す後処理部と、を備えた液滴吐出装置である。前処理部及び後処理部は、液滴吐出ヘッドの描画位置より下層に配置される。 （もっと読む）

【課題】ＵＶインクを用いる場合に起因する不具合の発生が防止された、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板に前処理を施す前処理部と、前処理を施した基板に液滴を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出部と、液滴吐出部を移動可能に保持するガイド部と、液滴が吐出された前記基板に後処理を行う後処理部と、を備えた液滴吐出装置である。そして、ガイド部は前処理部側に配置される。 （もっと読む）

【課題】画像の絵柄と画像の凹凸パターンとが対応し、且つ高画質な印刷物を容易に得る画像記録方法を提供する。
【解決手段】支持体上に画像と該画像に対応した凹凸形状とを記録する画像記録方法であって、画像の画像データに含まれる明度データに基づいて、予め定めた明度の閾値を境に多値化した下地層データを生成する工程と、下地層データに基づいて、支持体上に選択的に下地層を形成する工程と、画像データに基づいて、下地層及び支持体の表面に接する画像層を形成する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）