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Fターム[4F042DB00]の内容

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【課題】塗布膜に含まれる溶媒を凝縮して塗布膜を乾燥させる際に、冷却板と塗布膜の膜面との間隔を均一にし、且つ、搬送風の乱れを少なくすることでムラの発生を抑制することのできる乾燥方法、乾燥装置及び凝縮液の回収方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る乾燥方法は、シート状基材4に形成された塗布膜4aから蒸発した溶媒を冷却板1で凝縮することで塗布膜4aを乾燥させる方法である。そして、本乾燥方法は、シート状基材4の搬送方向に沿って複数配置され、且つ、塗布膜4aの膜面と平行になるように配置された冷却板1に塗布膜4aから蒸発した溶媒を凝縮して凝縮液とし、その凝縮液を冷却板1間の隙間を塞ぐ多孔質体ブロック2に含浸させる工程を含むものである。なお、冷却板1のそれぞれは、塗布膜4aと冷却板1との間の距離が同じである。また、塗布膜4aと冷却板1との間の距離は、塗布膜4aと多孔質体ブロック2との間の距離と同じである。 (もっと読む)


【課題】基板の箇所毎に気流の流れ具合を微調整して、塗布膜の乾燥ムラを少なくできる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】減圧乾燥装置1は、塗布膜を形成した基板14を収容するチャンバー10と、チャンバー10の天面の排気口11に接続された減圧配管12と、チャンバー10内で基板14と排気口11の間に配置されるものであって、複数の通気孔17が形成された分散板16を備える。複数の通気孔17のうち、少なくとも一部の通気孔17は開度可変である。開度可変とされた通気孔17は、絞り機構18により開度を変える。分散板16は、複数の区画19a、19b、19cを設定し、区画毎に通気孔17を複数ずつ配置し、区画毎に通気孔17の開度を設定するという構成が可能である。 (もっと読む)


【課題】精密な膜厚制御を必要とする成膜工程において、効率的な乾燥能力を保ちつつ、乾燥ムラの発生を抑制することができる塗布膜の乾燥装置を提供する。
【解決手段】走行する帯状可撓性支持体に塗布液を連続的に塗布手段により塗布し、塗布された塗布膜を乾燥させる塗布膜の乾燥装置において、塗布膜面側の支持体に近接した位置に、支持体幅方向に開いたスリットを有するスリット板が支持体流れ方向に連続して配置され、そのスリットの角度が支持体垂直方向に対して、隣接のスリット角度が、交互に鋭角と鈍角となっていることを特徴とする乾燥装置。 (もっと読む)


【課題】金型移動手段を使用する、ある特定の形状を有する2層成形製品の金型内塗装において、金型分割面がフラットな構造で、且つ、金型キャビティから塗料等の被覆剤が漏れ出すことを防止するシール目的の不要部分等が無くても、被覆剤が漏れ出すことを防止することができ、被覆剤注入後に被覆剤に直接型締力を作用させることができる2層成形品用の金型内塗装用金型及び金型内塗装方法を提供する。
【解決手段】コア金型と、前記コア金型と組み合わされて第1キャビティが形成される第1キャビティ金型と、前記第1キャビティ内に第1樹脂を射出充填させて成形される1次成形体が保持された前記コア金型と組み合わされて、前記1次成形体の外周部全周に前記1次成形体が内包される第2キャビティが形成される第2キャビティ金型と、を備えたことを特徴とする2層成形製品用の金型内塗装用金型によって達成される。 (もっと読む)


【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されるのを抑えることができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収容し、内部を減圧環境にすることにより基板Wの乾燥を行うチャンバ部と、チャンバ部の内外に基板Wを搬送する搬送装置と、乾燥時に基板Wを支持する基板支持部30と、基板Wの下面近傍の気流を制御する整流板41と、を備える減圧乾燥装置であって、チャンバ部に収容された基板Wの乾燥時には、搬送装置、基板支持部30、および整流板41を相対移動させることにより、基板支持部30の上端の乾燥当接点32が基板を支持し、かつ整流板41の上面が搬送装置の搬送当接点22よりも上方に位置する状態を形成して乾燥を行う構成とする。 (もっと読む)


【課題】気流を抑制することで基板面に形成される膜パターンの形状のばらつきを低減させ、各膜パターンにおける膜厚を均一にすること。
【解決手段】液体塗布装置100は、液体吐出ヘッド10を備えており、液体吐出ヘッド10を基板1に対して相対的に移動させて基板1の片面1aに液体を塗布する。この液体塗布装置100は、液体吐出ヘッド10の基板1の片面1aにおける液体2が塗布されている部位に配置されたプレート4を備えている。プレート4には、基板1の片面1aとプレート4の一方の面4aとで挟まれた空間Rに揮発した液体揮発成分を、プレート4の基板と対向しない面4b側に通過させる複数の細孔が設けられている。 (もっと読む)


【課題】互いに異なる毛管力を有する複数の領域からなる被印字物全体を目標とする色で容易に染色することができる印字方法および印字装置を提供することにある。
【解決手段】凝集によりゲル化する被凝集体の凝集反応を促進させる凝集剤を凝集剤供給装置4が被印字物の少なくとも低い毛管力を有する領域に供給し、印字ヘッド6がインクジェット法で被凝集体を含むインクを被印字物の少なくとも低い毛管力を有する領域に向けて打滴し、被凝集体と凝集剤との凝集反応によりゲル化したインクを加熱装置7が被印字物に定着させる。 (もっと読む)


【課題】ウエブ自体に長手方向における湾曲や、部分的な弛み等の癖が存在する場合にあっても、それらに起因する塗布むらの発生を防止し、塗液を薄膜で均一に塗布することが可能なウエブ塗工装置を提供する。
【解決手段】走行中のウエブの表面に、該ウエブの幅方向に延びる塗液供給手段のスリット状吐出口から吐出される所定の塗液を連続的または間欠的に塗布していくウエブ塗工装置において、ウエブ走行方向に見てスリット状吐出口の上流側および下流側の少なくとも一方の位置に、一面が走行中のウエブによって形成される加圧室または減圧室を設けるとともに、該加圧室または減圧室を通過中のウエブを、該加圧室または減圧室の内部に対して離反、接近する方向に局所的に変位可能に支持することを特徴とするウエブ塗工装置。 (もっと読む)


【課題】複数の画面が面付けされて製造されるガラス基板上に塗布された塗布膜の溶媒を乾燥する減圧乾燥装置において、画面サイズ変更に伴う基板保持ピンの配置位置変更の作業負荷の低減と停止ロスを抑制できる省スペースな乾燥装置を提供する。
【解決手段】溶媒を含む塗布液が塗布されたガラス基板を乾燥する減圧乾燥装置であって、真空吸引可能なチャンバー内に前記ガラス基板を保持する複数の可動基板受けピンを有し、且つ、前記可動基板受けピンの各々のピン配置位置を所望する位置に自動で変更するピン位置自動変更機構を具備している。 (もっと読む)


【課題】液状体の塗布領域上部において均一性の高い蒸気濃度分布を実現する。
【解決手段】乾燥炉外形5の内のステージ4の上に設置された基板1の上には、機能膜の溶液を塗布する塗布領域2の外側に立て板3が設けられている。立て板3の材質はステンレス鋼などの金属が用いられ、基板1上に設置される。基板1端部は、塗布領域2内では蒸気が発生し続けるのに対し、塗布領域外には蒸気の発生源がなく、塗布領域2外への拡散が起こるために濃度差が発生する。立て板3を設けることにより、基板1と平行な方向への蒸気の拡散が抑制され、塗布領域2端部の蒸気濃度が基板1中央部の蒸気濃度に近づいていく。立て板3の高さの選択により拡散の抑制効果を得られ、塗布領域2上で均一性の高い蒸気濃度分布を実現できる。 (もっと読む)


【課題】スリットノズルを使用するスピンレス塗布法において塗布処理直後に行われる減圧乾燥処理の効率性の向上および処理時間の短縮化を実現するとともに、減圧乾燥処理後のレジスト塗布膜の膜質均一性を向上させる。
【解決手段】レジスト塗布ユニットで当該基板Gに対して右辺GRから左辺GLに向かって塗布走査する第2モードが選択されたときは、減圧乾燥ユニット(VD)52では、減圧乾燥処理中に左側のガス噴出部102を選択的に作動させて右側のガス噴出部104を止めておくような気流制御が行われる。この場合、手前(左側)の排気ポート100a,100bの排気流路が閉められ、向かい側(右側)の排気ポート100c,100dを通じてチャンバ内の排気が行われる。 (もっと読む)


【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に複数回塗布し前記基板上に複数の液状体層を積層する塗布ステップと、前記塗布ステップによって前記液状体の塗布される塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整ステップとを備える。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも一つの防食性、液体、金属粒子含有コーティング剤を加工品(2)に塗布するための方法に関し、次の工程、コーティング剤の第1層を加工品(2)に塗布すること、第1層にコーティング剤の第2層を塗布すること、を有する。防食性、液体、金属粒子含有コーティング剤から構成される二つの層のコーティングの時間効率的塗布を可能とする方策を示唆するために、第2層は、第1層がまだ乾燥を必要としている間に塗布されることが提示される。

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【課題】導電性又は半導電性塗布液の塗膜に交流電界を付与しない場合に比べ、コーヒーステイン現象の発生を抑制した導電性又は半導電性膜が形成される導電性又は半導電性膜の形成装置を提供すること。
【解決手段】基板10の表面に、導電性又は半導電性塗布液の液滴を吐出する液滴吐出ヘッド20と、導電性又は半導電性塗布液の液滴が基板10の表面に着弾して形成された導電性又は半導電性塗布液の塗膜11Aに対して、交流電界を付与するための一対の交流電界付与電極40と、一対の交流電界付与電極40に交流電圧を印加するための交流電圧印加装置41と、を備える導電性又は半導電性膜の形成装置。 (もっと読む)


本発明は、基材4に塗布された塗装膜5の乾燥度を非接触的に、それゆえ非破壊的に測定するための装置1に関する。本発明においては、前記装置が、電磁波放射のための少なくとも1つの送信機2と、塗装膜5へと放射された電磁波の吸収を測定するための少なくとも1つの受信機7と、測定手段8とを備えている。測定手段8においては、受信機7によって測定されたそのままの測定値が処理され、そして、そこから計算された塗装膜5の乾燥度が表示される。マイクロ波又は近赤外領域の赤外線が測定用電磁波として用いられ、どちらの場合でも、一定波長にて吸収A(t)の時間依存的な少なくとも1種の測定が行われる。赤外線放射機を備えた乾燥手段は、乾燥度が予め設定したものに到達したときに、制御及び調整手段9によって自動的に電源が切られ得る。前記乾燥手段は、乾燥度の測定の結果、高水準の正確さで電源が切られ、これによって、非常に優れた再現性及び高品質な塗装という結果になる。さらに、本発明は、前記装置1を用いて塗装膜5の乾燥度を決定するための方法であり、近赤外領域における赤外線又はマイクロ波を用いるものである。 (もっと読む)


【課題】一の基板上の各部において、処理条件を変えることができる処理装置を提供する。また、一の基板上の各部において、処理条件を変えることができる処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る処理装置は、天井部(105a)と、側壁部(105b)と、前記天井部と側壁とで構成される処理空間を複数の処理室に分割する仕切り壁(105c)と、前記複数の処理室にそれぞれ接続された複数のガスライン(107)と、を有するカバー(105)で、基板(100)の処理領域(E)を覆い、前記基板上に吐出された複数の吐出液(d)を前記処理室毎に処理する。かかる構成(方法)によれば、複数の処理室毎に処理条件を変化させることができ、成膜条件の最適化を容易に行うことができる。また、各処理室において、処理条件を変化させることで異なる膜を形成することができる。よって、半導体装置などの製造工程において、工程の簡略化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】一の基板上の各部において、処理条件を変えることができる処理装置を提供する。また、一の基板上の各部において、処理条件を変えることができる処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る処理装置は、天井部(105a)と、側壁部(105b)と、前記天井部と側壁部とで構成される処理空間を複数の処理室に分割する仕切り壁(105c)と、前記側壁部に設けられた排出孔(110)と、前記複数の処理室にそれぞれ接続された複数の第1のガスライン(107)と、を有するカバー(105)で、基板(100)の処理領域(E)を覆い、前記基板上に吐出された複数の吐出液(d)を前記処理室毎に処理する。かかる構成(方法)によれば、複数の処理室毎に処理条件を変化させることができ、成膜条件の最適化を容易に行うことができる。また、各処理室において、処理条件を変化させることで異なる膜を形成することができる。よって、半導体装置などの製造工程において、工程の簡略化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】ノズルから吐出された液滴によるドット群を、吐出直後に均一に乾燥させる。
【解決手段】基板3に対して、液滴を吐出するノズル列を有するインクジェットヘッド1を走査することにより、ドット群によるパターンを描画する。各ドットDを吐出直後に気流によって乾燥させる乾燥手段2は、ドット群に対応するスリット列を有し、ドット群の着弾位置に応じて、各スリットからの吸引流速を変えることで、ドット群の中央部分と端部での乾燥速度のばらつきを抑制する。 (もっと読む)


【課題】基板に着弾した液滴の乾燥を促進させ作業効率を向上させることができる液滴吐
出装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッド本体30Aを挟んで、籠41に収容された水分吸着粒子42から
なる水分吸着装置40を配置した。水分吸着装置40は、着弾した液滴Fbの乾燥を妨げ
るグリーンシート4Gから発生し同グリーンシート4Gの表面に停留する水蒸気を吸着し
、グリーンシート4Gの表面を乾燥状態にする。従って、吐出ヘッド30から吐出されグ
リーンシート4Gに着弾した液滴Fbの乾燥を促進させることができる。 (もっと読む)


【課題】複数の吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度の均一性を向上する。
【解決手段】塗布ヘッド14の主走査方向の両側には蛇腹状の2つの拡散部材31がそれぞれ取り付けられる。また、塗布ヘッド14では複数の吐出口171が主走査方向に垂直な副走査方向に関して等ピッチにて配列され、基板9上に有機EL液が吐出される。塗布装置1では、ヘッド移動機構15による塗布ヘッド14の主走査方向への移動により、拡散部材31が塗布ヘッド14の進行方向の後側の空間にて伸展して当該空間に空気を送り込み、基板9上に吐出された直後の有機EL液の周囲の雰囲気を攪拌する気流を発生させる。これにより、複数の吐出口171から吐出された有機EL液の周囲の雰囲気において有機EL液の溶媒成分の濃度が均一化され、有機EL液の乾燥速度の均一性が向上される。 (もっと読む)


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