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Fターム[4F042DF10]の内容

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Fターム[4F042DF10]に分類される特許

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【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】塗布膜に乾燥ムラを生じさせずに基板を加熱しながら搬送することができる浮上搬送加熱装置を提供する。
【解決手段】基板を超音波振動浮上させる振動板部2と、前記振動板部を加熱するヒータ部3と、前記振動板部に超音波振動を与える超音波発生部4と、基板の端部を支持して基板の浮上方向と垂直な方向に基板を搬送する搬送部5と、を備える浮上搬送加熱装置であって、ヒータ部3は、振動板部2の基板を浮上させる面の裏面側に振動板部2と所定間隔を設けて配置され、基板の搬送方向と直交する方向の振動板部2の寸法は同方向の基板Wの寸法よりも大きく、ヒータ部3により振動板部2が加熱されることにより、浮上搬送中の基板W全面が振動板部2によって加熱される。 (もっと読む)


【課題】空気浮上搬送方式に好適なスリット状開口部の清浄化機構を備えたスリットコート塗布装置を提供することを課題とした。
【解決手段】エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する拭き取り機構と、を備え、前記拭き取り機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することでスリット状開口部を洗浄する機構である。 (もっと読む)


【課題】片伸びが生じた支持体の全域に均一な膜厚の機能性膜を形成する。
【解決手段】長尺帯状の支持体10を走行させる走行装置2と、支持体10に樹脂材料(機能性膜形成用塗料としての光学膜形成用塗料)Rを塗布する塗布装置3とを備えて、走行装置2によって支持体10を走行させつつ、塗布装置3によって支持体10の一方の面11に樹脂材料Rを塗布することによってハードコート膜HC(機能性膜としての光学膜)を形成する光学膜形成システ(機能性膜形成システム)1であって、支持体10を吸引する正圧吸引装置4を備え、正圧吸引装置4は、塗布装置3による塗布処理位置に配設されて、支持体10の他方の面12(一方の面11の裏面)に向けて気体を吹き付けることによって正圧吸引装置4と支持体10との間に負圧を生じさせて支持体10を非接触状態で吸引して保持する。 (もっと読む)


【課題】基板の姿勢を安定に保ちつつ浮上搬送のゆらぎやうねりを補償して塗布膜の膜厚均一性を改善する。
【解決手段】このレジスト塗布装置では、浮上ステージ上で基板の左右両側の縁部を保持する各吸着パッド42から見てパッド支持部材40の反対側つまり外側の面に、各吸着パッド42と同じ形状および同じ材質を有する被測定部材としてのダミーパッド46を同じ高さ位置に取り付けている。そして、搬送方向(X方向)においてレジストノズル18の吐出口18a付近に監視点が設けられ、この監視点を通過する吸着パッド42の吸着面高さ位置のプロファイルを光学的に監視するための監視部48が備えられている。 (もっと読む)


【課題】2つのノズルを用いることによって基板の塗布処理にかかるタクトタイムを向上し、且つ、かかるコストを抑制する。
【解決手段】基板搬送方向に沿って前後に配された第1のノズル16と第2のノズル17とを保持するノズル保持手段12と、前記ノズル保持手段を基板搬送方向に沿って移動させるノズル移動手段11と、前記第1のノズル及び前記第2のノズルの駆動制御と前記ノズル移動手段の駆動制御とを行う制御手段40とを備え、前記制御手段は、前記第1のノズルと前記第2のノズルが基板搬送路上の同一の塗布位置に配置されるよう前記ノズル移動手段を制御し、該ノズル移動手段により前記ノズル保持手段を移動させ、前記同一の塗布位置に配置された前記第1のノズルと第2のノズルのいずれか一のノズルにより前記基板に処理液を吐出させるよう制御する。 (もっと読む)


【課題】ダイコータで、ガラス基板とダイ間のクリアランスを全幅に渡って略均一に非常に小さくすることで、ガラス基板に非常に薄い塗布膜を形成できる塗布装置および塗布方法、並びにディスプレイ用部材の製造方法を提供する
【解決手段】スリット状の吐出口を有する塗布器から、塗布液を被塗布部材上に吐出して塗布膜を形成する塗布方法で、被塗布部材表面が高さHだけエアー浮上されて保持されている被塗布部材に、塗布器の吐出口面がH−60μm〜H+50μmの高さに位置するよう塗布器を近接させ、吐出口より塗布液を吐出しながら、塗布器および被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて、被塗布部材上に塗布膜の形成を行う塗布方法。 (もっと読む)


【課題】浮上ステージにおいて分割ステージブロックの境界(繋ぎ目)にできる段差の許容度を大きくして浮上面の高さ位置調整作業を簡便に短時間で行えるようにする。
【解決手段】浮上ステージ10において、左端の搬入用ステージブロックSBAには、専ら噴出口12を多数配設した第1のラフ浮上領域MINが搭載される。真ん中のステージブロックSBBには、搬送方向(X方向)の両端部に専ら噴出口12を多数配設した突き上げ浮上領域MP,MQが局所的に搭載されるとともに、それらの間に噴出口12と吸引口14とを混在して多数配設した精密浮上領域MCTが搭載される。また、右端の搬出用ステージブロックSBCには、専ら噴出口12を多数配設した第2のラフ浮上領域MOUTが搭載される。 (もっと読む)


【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板10上に吐出装置3aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置5に浮上搬送機構6により搬送する塗布装置1であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構42を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 (もっと読む)


【課題】浮上ステージにおける基板の浮上高や姿勢を最適化しつつ、浮上用高圧気体の消費効率を改善すること。
【解決手段】このレジスト塗布装置における浮上ステージ10は、搬送方向において塗布領域MCTの前後に延びる搬入領域MINおよび搬出領域MOUTの浮上面をそれぞれ多数の浮上エリアに区画している。これらの浮上面には多数の噴出口12配置されている。各々の浮上エリアにおける高圧気体の噴出圧力は噴出圧力制御部により独立に可変ないしオン・オフ制御されるようになっている。 (もっと読む)


【課題】分解可能な浮上ステージの再組み立て作業における高さ調整を簡便で短時間に行えるようにすること。
【解決手段】このレジスト塗布装置の浮上ステージ10において、出口側のステージブロックSBaは、独立して輸送可能な架台FLAの上に多数の支柱18およびアジャスタ20を介して取り付けられている。中間の3つのステージブロックSBb,SBc,SBdは、独立して輸送可能な架台FLBの上に多数の支柱22,24,26およびアジャスタ28,30,32を介してそれぞれ取り付けられている。出口側のステージブロックSBeは、独立して輸送可能な架台FLCの上に多数の支柱34およびアジャスタ36を介して取り付けられている。 (もっと読む)


【課題】塗布ユニットが固定されている場合であっても、口金部の交換を容易に行うことができ、また、口金部の交換に伴うコストアップを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を浮上させる浮上ステージと、浮上ステージから基板を浮上させた状態で浮上ステージに沿って基板を搬送する基板搬送部と、塗布液を吐出する口金部が着脱可能に支持されるとともに、口金部が浮上ステージに対向した状態で固定して設置された塗布ユニットと、を備えており、浮上ステージ上に浮上した基板を基板搬送部により塗布ユニットに対して移動させつつ口金部から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、口金部を載置可能な口金移載ユニットをさらに備え、この口金移載ユニットが口金部と対向する口金受取位置と口金部を交換する口金交換位置とに移動可能である構成とする。 (もっと読む)


【課題】浮上ステージにおける吸引口の目詰まりを自動的かつ確実に検出する。
【解決手段】浮上ステージの塗布領域において吸引口18が内奥の比較的狭いガス通路18aに異物Qが挟まって目詰まりを起こしているときは、その付近で基板浮上高HGが局所的に設定値HSよりも高くなる。浮上高監視部は、監視ライン上のどこかで基板Gの浮上高HGが浮上高設定値HSを定常的に(基板Gが通過している間)超えているときは、光ビームLBが基板Gにより遮られることから、この異常事態を検知してコントローラに通報することができる。コントローラは、浮上高監視部からそのような基板浮上高に関する異常通報のモニタ信号を受け取った時は、浮上ステージの塗布領域において少なくともスリットノズル14の直下付近で相当な数の吸引口18が目詰まりを起こしていると判定する。 (もっと読む)


【課題】塗布膜の膜厚のバラつきを抑えること。
【解決手段】第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、第一浮上量よりも小さい第二浮上量で基板を浮上させる第二浮上部、を有し、第一浮上部と第二浮上部との間で基板を連続的に搬送する基板搬送部と、第二浮上部において第二浮上量で浮上する基板に液状体を塗布する塗布部と、第一浮上部と第二浮上部との間を移動する基板の浮上量を調整する浮上量調整部とを備える。浮上量緩和領域RCは、塗布浮上領域TCの上流側に設けられた上流側緩和領域(上流側調整部)RAと、塗布浮上領域TCの下流側に設けられた下流側緩和領域RBとを有している。浮上量緩和領域RCは、第一浮上部である基板搬入領域と第二浮上部である塗布浮上領域TCとの間、及び、第二浮上部である塗布浮上領域TCと第一浮上部である基板搬出領域との間、でそれぞれ基板の浮上量が急激に変化するのを緩和する部分である。 (もっと読む)


【課題】均一な浮上量で基板を浮上させること。
【解決手段】所定領域に液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記所定領域を通過するように基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、少なくとも前記所定領域において前記基板のうち基板搬送方向に直交する方向の端部の浮上量を調整する調整部とを備える。 (もっと読む)


【課題】、本発明は、基板の搬送に関して、非接触型の搬送が可能となる新たな技術的手段を備えた塗布システムを提供する。
【解決手段】基板Wを浮上させる浮上ユニット10及び浮上させた基板Wを搬送する搬送ユニット20を有する搬送装置1と、搬送される前記基板Wの上面に対して塗布液を吐出するノズル31を有している塗布装置3とを備えている。浮上ユニット10は、振動子6と、この振動子6の動作に起因して振動し当該振動による放射圧によって基板Wを浮上させる振動板7とを有しており、この振動板7は、ノズル31の直下位置に設けられていること。 (もっと読む)


【課題】塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善する。
【解決手段】塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、基板に塗布液を吐出する吐出部と、前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、速度変更部とを備える。そして、前記速度変更部は、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する。 (もっと読む)


【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されることを抑えることができる加熱乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板を保持するステージユニットと、前記基板温度を調節するヒータユニットと、を備える加熱乾燥装置であって、前記ステージユニットは、超音波を発生させる超音波発生部と、該超音波を受けて振動する振動板部とを有し、前記振動板部は、縦および横方向の長さは、前記基板の縦および横方向の長さより長く、前記ヒータユニットを内蔵しており、前記振動板部を振動させることで、該振動板部の上部に位置する前記基板を該振動板部の表面から所定の高さだけ浮上した状態で保持し、且つその状態において前記ヒータユニットを加温して該振動板部を所定の温度まで加熱することにより、前記基板を加熱乾燥させる構成とする。 (もっと読む)


【課題】基板に塗布される液状体の厚さをより均一にすること。
【解決手段】所定の吐出領域に液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記吐出領域を通過するように前記基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に設けられ、前記吐出領域での前記基板の浮上量を検出する検出部とを備える。 (もっと読む)


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