【課題】処理動作のタクトタイムを短縮することができ、且つ、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止する。
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に延びる吐出口を有し、前記処理ステージ上の前記基板の上方を基板搬送方向に沿って移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズル３１と、前記ノズルを昇降移動可能であって、前記ノズルを基板搬送方向上流側または下流側に向けて移動可能なノズル移動手段３２と、基板搬送路４の下方に設けられ、前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段３５と、前記基板搬送路において前記処理ステージの上流側または下流側に所定長さの空き区間ｄを出没自在に形成可能な空き区間形成手段２１，２２，２３Ａ、２３Ｂ、３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 重量が大きく反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、装置コストを増大させることなく、短い処理時間で精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構１４によりステージ１２上に搬送されて、その保持面３０に吸着保持される。そして、ステージ１２上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル４１における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、スリットノズル４１を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。しかる後、塗布液が塗布された基板は、基板搬送機構１５によりステージ上から搬出される。 （もっと読む）

【課題】簡素な方法により被塗装部のみに粉体塗料を付着させることが可能な粉体塗装方法及び、該塗装方法を実施するための粉体塗装装置を提供する。
【解決手段】粉体塗料を塗料タンク内に収容し、該塗料タンクの底部からエアを吹き込み、粉体塗料を流動させて粉体浴を形成し、ワークを粉体浴に浸漬することにより、ワークの一部分よりなる被塗装部に粉体塗料を付着させる粉体塗装方法において、ワークより大きな内径を有する筒体をその開口端から粉体浴に浸漬すると共に、筒体の内側においてワークの被塗装部を粉体浴に浸漬し、被塗装部に粉体塗料を付着させる。 （もっと読む）

【課題】従来の除材方法では、ワークに対する描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷが載置される面である載置面２５ａを有するテーブル板７１と、テーブル板７１に載置されたワークＷに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、ワークＷを降下させることによって、ワークＷを載置面２５ａに載置し、且つ、載置面２５ａに載置されたワークＷを上昇させることによって、ワークＷを載置面２５ａから離間させる昇降装置と、を有し、前記昇降装置は、ワークＷを載置面２５ａに載置するときに、ワークＷを載置面２５ａ側に凸となる向きに湾曲させた状態でワークＷを降下させ、ワークＷを載置面２５ａから離間させるときに、ワークＷを載置面２５ａに載置するときよりもワークＷの湾曲を緩和した状態でワークＷを上昇させる、ことを特徴とする液滴吐出装置。 （もっと読む）

【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】定着ベルト基材のような比較的柔軟な円筒状被塗工物の外側面に対して均一な塗膜をより高い塗工速度で形成することができる塗工装置を提供する。
【解決手段】塗工桶が上部部材と下部部材とにより構成され、下部部材には下部部材と円筒状被塗工物との間を水密に保つシール部材が設けられ、塗工液供給部が上部部材と下部部材との間に形成され、塗装時に円筒状被塗工物の外側面及びシール部材とともに塗工液を保持しながら円筒状被塗工物の外側面に塗工液を塗布する塗工液接触面が上部部材の貫通孔の内側面に円筒状被塗工物と離間して設けられ、上部部材を円筒状被塗工物と同軸に回転可能に保持する滑り部材が上部部材と下部部材との間に設けられ、かつ、上部部材を回転駆動させる上部部材回転駆動手段を有する塗工装置。 （もっと読む）

【課題】空気浮上搬送方式に好適なスリット状開口部の清浄化機構を備えたスリットコート塗布装置を提供することを課題とした。
【解決手段】エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する拭き取り機構と、を備え、前記拭き取り機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することでスリット状開口部を洗浄する機構である。 （もっと読む）

【課題】片伸びが生じた支持体の全域に均一な膜厚の機能性膜を形成する。
【解決手段】長尺帯状の支持体１０を走行させる走行装置２と、支持体１０に樹脂材料（機能性膜形成用塗料としての光学膜形成用塗料）Ｒを塗布する塗布装置３とを備えて、走行装置２によって支持体１０を走行させつつ、塗布装置３によって支持体１０の一方の面１１に樹脂材料Ｒを塗布することによってハードコート膜ＨＣ（機能性膜としての光学膜）を形成する光学膜形成システ（機能性膜形成システム）１であって、支持体１０を吸引する正圧吸引装置４を備え、正圧吸引装置４は、塗布装置３による塗布処理位置に配設されて、支持体１０の他方の面１２（一方の面１１の裏面）に向けて気体を吹き付けることによって正圧吸引装置４と支持体１０との間に負圧を生じさせて支持体１０を非接触状態で吸引して保持する。 （もっと読む）

【課題】分解可能な浮上ステージの再組み立て作業における高さ調整を簡便で短時間に行えるようにすること。
【解決手段】このレジスト塗布装置の浮上ステージ１０において、出口側のステージブロックＳＢ_aは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Aの上に多数の支柱１８およびアジャスタ２０を介して取り付けられている。中間の３つのステージブロックＳＢ_b，ＳＢ_c，ＳＢ_dは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Bの上に多数の支柱２２，２４，２６およびアジャスタ２８，３０，３２を介してそれぞれ取り付けられている。出口側のステージブロックＳＢ_eは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Cの上に多数の支柱３４およびアジャスタ３６を介して取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】ワークに対して正確に描画することができる描画装置を提供すること。
【解決手段】ワークに向けて液滴を吐出する液滴吐出装置と、前記ワークを保持するワーク保持部と前記ワークを回転させる回転部と前記ワークの位置を変更させる伸縮部とを有するワーク保持アーム部と、前記液滴吐出装置に対して前記ワークを移動させるとともに、前記ワークに向けて液滴を吐出させる制御部とを備えた。 （もっと読む）

【課題】よりシンプルな構成によって、車両用ガラスを迅速に処理することにある。
【解決手段】位置決め部材２０の基準点を搬送部材１０の基準位置に配置しつつ位置決め部材２０を搬送部材１０上に配置するとともに、検出部材７０によって、車両用ガラスＷの基準点と位置決め部材２０の基準点の双方をそれらの上方から検出可能とし、検出部材７０が、車両用ガラスＷの基準点と位置決め部材２０の基準点がずれていることを検出したとき、移動部材によって位置決め部材２０を水平方向に移動させて同ずれを補正したのち、車両用ガラスＷを持ち上げる構成である。 （もっと読む）

【課題】焼結磁石体への希土類化合物含有液の付着量を制御し、希土類焼結磁石の製造コストの増加を抑制すること。
【解決手段】希土類化合物を含有する希土類化合物含有液３に、焼結磁石体２を所定の深さで浸漬して、希土類化合物含有液３を焼結磁石体２の端面に付着させるとともに端面側の焼結磁石体２の側面に付着させる付着工程と、焼結磁石体２の側面に付着させた希土類化合物含有液３の一部を第１ブレード６、６により掻き取る側面掻き取り工程と、焼結磁石体２の端面に付着させた希土類化合物含有液３の一部を第２ブレード９により掻き取る端面掻き取り工程と、を含む希土類化合物付着方法により解決できる。 （もっと読む）

【課題】浮上ステージにおける吸引口の目詰まりを自動的かつ確実に検出する。
【解決手段】浮上ステージの塗布領域において吸引口１８が内奥の比較的狭いガス通路１８ａに異物Ｑが挟まって目詰まりを起こしているときは、その付近で基板浮上高Ｈ_Gが局所的に設定値Ｈ_Sよりも高くなる。浮上高監視部は、監視ライン上のどこかで基板Ｇの浮上高Ｈ_Gが浮上高設定値Ｈ_Sを定常的に（基板Ｇが通過している間）超えているときは、光ビームＬＢが基板Ｇにより遮られることから、この異常事態を検知してコントローラに通報することができる。コントローラは、浮上高監視部からそのような基板浮上高に関する異常通報のモニタ信号を受け取った時は、浮上ステージの塗布領域において少なくともスリットノズル１４の直下付近で相当な数の吸引口１８が目詰まりを起こしていると判定する。 （もっと読む）

【課題】印刷面が平坦でなく、インクの浸透が悪い印刷物品に対して、フルカラーのインクジェット印刷装置により高品質の印刷を迅速に、且つ、効率良く行う。
【解決手段】装置１は搬入部２、反転部３、印刷部４、搬出部５の順に設置され、各部には搬送チェーンＣＶが夫々設置され、その境界部ではオーバーラップする。搬入部２に搬入されたタイヤＴは、ここでセンタリングし、反転部３を通過し、印刷部４で表面の印刷後、反転部３に逆搬送して反転して裏面を上向きとする。印刷部４に搬送し、裏面の印刷の後、搬出部５から搬出する。印刷部４では印刷面を平坦にしつつ、タイヤＴを回転して所定位置からインクジェットヘッド（５個）により所定の印刷（複数回）を行う。 （もっと読む）

【課題】ワークへの接着剤の均一な塗布と、接着剤のワークからのはみ出し防止を実現できる接着剤供給装置及び接着剤供給方法を提供する。
【解決手段】貼り合せ対象となるワークＳに対して接着剤Ｒを供給する接着剤供給装置において、ワークＳの縁部に接離可能なダミー供給領域部１２を備え、ワークＳ及びダミー供給領域部１２に、接着剤Ｒを供給する供給部１０と、ダミー供給領域部１２を、ワークＳから離れる方向に移動させる移動部１３を有する。 （もっと読む）

【課題】熱処理プレートに基板を受け渡すときの基板の横滑りによる位置ずれが起きないようにして加熱処理の適正な処理が行われる熱処理装置（方法）を提供すること。
【解決手段】熱処理プレート６０の基板載置面と基板の裏面との間に第１の隙間距離をとるための伸縮自在な弾性部材からなる複数の第１の載置支持部材６４と、基板載置面と基板の裏面との間に前記第１の隙間距離よりも小さい隙間距離となる第２の隙間距離を設けるための複数の第２の載置支持部材６２と、熱処理プレート６０の基板載置面に設けられ前記基板の裏面との隙間の空間を吸引するための複数の吸引孔６３と、を備えて、前記吸引孔により第１の載置支持部材６４上に支持された基板を吸引することで第１の載置支持部材６４を収縮させて第２の載置支持部材６２に基板を支持させる。 （もっと読む）

【課題】、本発明は、基板の搬送に関して、非接触型の搬送が可能となる新たな技術的手段を備えた塗布システムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを浮上させる浮上ユニット１０及び浮上させた基板Ｗを搬送する搬送ユニット２０を有する搬送装置１と、搬送される前記基板Ｗの上面に対して塗布液を吐出するノズル３１を有している塗布装置３とを備えている。浮上ユニット１０は、振動子６と、この振動子６の動作に起因して振動し当該振動による放射圧によって基板Ｗを浮上させる振動板７とを有しており、この振動板７は、ノズル３１の直下位置に設けられていること。 （もっと読む）

【課題】長尺のワークの記録領域を、精度良く除給材することのできる記録装置等を提供する。
【解決手段】１の送り方向に送られてきた長尺のワークＷの記録領域を、吸着保持するワークステージ５と、記録領域に記録を行うインクジェットヘッド５１と、ワークステージ５の送り方向下流側に配設され、ワークＷの一部を不動に保持および保持解除可能に構成されたワーク保持手段６０と、ワークステージ５とワーク保持手段６０とを、ワークＷの延在方向に相対的に離間移動させるＸ軸テーブル７等と、各構成を制御する制御装置と、を備え、制御装置は、記録領域に記録を行う記録動作と、ワークＷの一部を不動に保持する保持動作と、ワークステージ５とワーク保持手段６０とを、延在方向に相対的に移動させて、ワークステージ５から記録済みの記録領域を除材するとともに、未記録の記録領域を給材する除給材動作と、を実施する。 （もっと読む）

【課題】レンズを変形することなくかつ脱落することもないような適正な保持力で保持できるレンズ保持用治具を提供する。
【解決手段】レンズ基材２の外周部を挟持することによってレンズ基材２を略垂直に保持する第１〜第３のアーム３〜５を備える。これらのアームの上端部を支持する保持具本体６を備える。保持具本体６は、前記複数のアームのうち少なくとも一つのアーム（第１のアーム３）をレンズ基材２に対して接離する方向に揺動自在に支持する支持部材７を備える。保持具本体６は、前記揺動可能なアーム（第１のアーム３）をレンズ基材２に接近する方向に付勢するばね部材（捩りコイルばね２１）と、このばね部材のばね力を調整する調整機構２７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】塗布システムの配線量を低減する。
【解決手段】ロールトゥロール方式の塗布システム１０は、メイン制御ユニット１２とコータ１４とを備える。コータ１４は、連続的に搬送される基材Ｆに塗布剤を塗布するための塗布ライン１８と、塗布ライン１８に沿って基材Ｆの搬送状態を計測するために設けられているセンサ４６、５０と、センサ４６、５０からの計測信号を集約してメイン制御ユニット１２へ中継するためのリモートＩ／Ｏ５６と、を備える。メイン制御ユニット１２は、コータ１４とは別体に設けられ離れて設置されており、リモートＩ／Ｏ５６は通信線３４によりメイン制御ユニット１２に接続されており、計測された基材Ｆの搬送状態を表す情報がリモートＩ／Ｏ５６から通信線３４を通じてメイン制御ユニット１２に伝送される。 （もっと読む）