【課題】基板から外方へ飛散した処理液を十分に受け止めることができるとともに、受け止められた処理液が基板まで跳ね返ることを防止することが可能なカップおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】カップ中部５１およびカップ下部５２は基板Ｗの周囲を取り囲むように配置される。カップ中部５１はカップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂの上方に配置される。また、側壁部５５が、カップ中部５１およびカップ下部５２の周囲を取り囲むように設けられる。カップ下部５２の上面５２ａ，５２ｂとカップ中部５１の下面５１ａとの間隔は、基板Ｗの外周部側から外方に向かって漸次減少するとともに、カップ中部５１およびカップ下部５２の外周部で下面５１ａと上面５２ｂとの間に間隙Ｓが形成される。側壁部５５の内周面５５ａは、間隙Ｓの外方で間隙Ｓから離間しかつ間隙Ｓを取り囲むように形成される。 （もっと読む）

【課題】カップ部を昇降する昇降ユニットの高さを低減することを図る。
【解決手段】昇降ユニット５０は、第１シャフト５４１、ボールねじナット５４２およびスプラインナット５４３を有するボールねじスプライン５４を備え、第１シャフトはカップ部に固定される。サーボモータ５６の第２シャフト５６１は、第１シャフトに略平行であり、第１シャフトに垂直な方向において少なくとも一部が第１シャフトに対向する。これにより、昇降ユニットの高さが低減される。ボールねじナットおよび第２シャフトには互いに係合する第１および第２平歯車５７１，５７２がそれぞれ固定され、第１シャフトを昇降する際に、第２シャフトの回転がボールねじナットに減速して伝達される。これにより、昇降ユニットでは、カップ部の位置を保持する際にサーボモータにおいて必要となる回転トルクが小さくなり、消費電力の削減が図られる。 （もっと読む）

【課題】塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が装置内部のうち基板以外の部分に付着すると、装置を汚してしまうという問題があるので、装置内の環境を清浄化する。
【解決手段】基板収容装置ＡＣＭは、基板Ｓを保持する基板保持部１０と、前記基板保持部１０に保持された状態の前記基板Ｓを囲うカップ部２０と、前記基板Ｓと前記カップ部２０との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】改良されたスピンコーターシステムを提供する。
【解決手段】再循環スピンコーターシステムは、スピンコーティングボウル１２を備え、このスピンコーティングボウル１２は、再循環排液口２２、およびこのスピンコーティングボウル１２の内側壁２８の上端に付随する湿潤流体チャンバ３０を備える。この湿潤流体チャンバ３０は、側壁湿潤流体を、このスピンコーティングボウル１２の内側壁２８に分配するように構成されている。映像システムは、品質管理および加工片の位置決めのために、スピンコーティングボウル内の加工片の画像を捕捉するように構成されている。光源の環状アレイが、スピンコーティングボウル１２の面を囲み、そして光学制御のためにスピンコーティングボウル１２の内部を照射するように構成されている。映像システムは、品質管理と加工片位置決めとの両方のために利用され得る。 （もっと読む）

【課題】処理室とアーム待機部とを区画する壁に、ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられているときに、この壁の開口をノズル支持アームにより塞ぐことにより処理室内の領域とアーム待機部の領域とを隔離することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０において、処理室２０とアーム待機部８０とを区画する壁９０が設けられており、この壁９０のアーム洗浄部８８にはノズル支持アーム８２が通過可能な開口８８ａが設けられている。ノズル支持アーム８２は、アーム待機部８０で待機しているときにこの壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ａを塞ぐようになっている。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、良品と不良品を分別することで、次工程への不良品の流出を抑止し、製品歩留りを向上させることが可能なスピンコート技術を提供する。
【解決手段】ワーク保持台４１に載置されて回転するレンズ３にシリンジ６１からコーティング剤６２を供給してスピンコートするスピンコート装置１において、スピンコート処理後のレンズ３の画像をＣＣＤカメラ７１で撮影して判別手段９で良否を判別し、良品のレンズ３ａを良品収納パレット８１に、不良品のレンズ３ｂを不良品収納パレット８２に振り分けて収納することで、次工程に不良品のレンズ３が流れることを確実に防止し、製品歩留りを向上させる。 （もっと読む）

【課題】レンズのスピンコート法による塗布液の塗布処理において、多様なレンズのレンズ面形状に対応し、好適な塗膜を形成することが可能なレンズのスピンコート装置を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１は、眼鏡レンズＬを載置して垂直軸回りに回転する回転保持台３と、回転保持台３の周囲を覆う側壁に回転する眼鏡レンズＬの凹面Ｌａ上から振り切られるハードコート液ＬＱを回収する開口部５６が設けられたスピンカップ５と、眼鏡レンズＬの凹面Ｌａにハードコート液ＬＱを吐出する吐出部８を備え、眼鏡レンズＬのレンズ面形状に対応して、スピンカップ５と回転保持台３とが、回転保持台３の垂直軸方向に相対移動して、眼鏡レンズＬの凹面Ｌａにハードコート液ＬＱの塗布処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面へのミストの回り込みを防止して、歩留まりを向上したスピンコータを提供する。
【解決手段】基板１が一方面に保持されて当該基板１の面内方向に回転自在に設けられた回転テーブル２０を具備すると共に、前記基板１の外径よりも大きな内径の筒形状を有し、且つ鉛直方向上端が前記基板１の側面に相対向する領域となるように配置された壁部４０を具備する。 （もっと読む）

【課題】 液相法を用いて成膜ができ、塗布液を有効に利用できる塗布装置を提供すること。
【解決手段】 塗布装置１００は、被処理体（基板）Ｗを支持するための載置部１０と、載置部１０を回転可能に支持する支持手段と、載置部１０に向けて塗布液を噴霧するための複数のシャワーノズル３０，３２，３４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 被処理体に対する塗布処理を行っていないときでも、塗布液が付着し易い容器の壁面を湿潤状態に維持できるようにした塗布装置を提供する。
【解決手段】 ウエーハＷの表面上にレジスト液を滴下すると共に、当該ウエーハＷを回転させ該レジスト液を遠心力で拡散させることによって、当該ウエーハＷの表面上に該レジスト液を塗布するスピンコータであって、ウエーハＷを回転可能に保持するスピンチャック１０と、スピンチャック１０の側方及び下方を取り囲むように設けられた容器２０等を含んだ構成となっており、この容器２０のスピンチャック１０と向かい合う側の壁面には、洗浄液を染み出させるための貫通孔ｈが設けられている。 （もっと読む）

【目的】 基板の裏面側を通る気流中にミスト状の塗布液が殆んど含まれず、基板裏面に塗布液が付着することがない塗布装置を提供する。
【構成】 基板Ｗが回転し且つ空間Ｓ内が減圧状態になると、純粋なエアのみは、基板Ｗの外周縁からパンチングプレート８を透過してミストガード１０と水平部７との隙間を通り、呼吸用の開口９から水平部７の上面と基板Ｗの下面との間の隙間を径方向外側に向かって流れ、一方、基板Ｗの外周縁から飛び出す糸状の余剰塗布液はパンチングプレート８を通過する際にトラップされパンチングプレートに捕捉され、ミストについてはパンチングプレート８は通過するがミストガード１０において捕捉され、結局、呼吸用の開口９から水平部７の上面と基板Ｗの下面との間の隙間に向かう気流中には塗布液及びミストは含まれず塗布液が基板Ｗの下面に付着することがない。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板のコーティングまたは洗浄などの作業時に処理液の逆飛散及び粒子汚染を効果的に抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明の基板表面処理装置は、基板を吸着維持し、前記基板を回転駆動及び昇降駆動するスピンチャックと、前記スピンチャックの周りを覆うと同時に上部に前記基板表面処理のための処理液の供給を受けるための上・下部ボウルと、前記下部ボウルの下部から全体ボウルの内部空気を排気するための排気口と、前記上部ボウルの内部に設置され、前記基板周りの流動を上・下に分離して前記下部に分離された流動を前記排気口を通じて排気させる流動分離突起と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を高速で回転させながら基板の処理を行う際、塵埃が基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。
【解決手段】処理室内において、第１層カバー１１及び下外カップ５の内側には基板１を取り囲む第１の層が形成され、第１の層の外側には第１層カバー１１及び下外カップ５と第２層カバー１２との間に第２の層が形成されている。清浄空気供給装置２１，２２の空気供給量及び強制排気装置４１，４２の排気量を調整することにより、第１の層内の空気の圧力（Ｐ１）を第２の層内の空気の圧力（Ｐ２）より高くし（Ｐ１＞Ｐ２）、かつ、第２の層内の空気の圧力（Ｐ２）を処理室の外の空気の圧力（Ｐ０）より低くする（Ｐ２＜Ｐ０）。 （もっと読む）