説明

Fターム[4F042EB13]の内容

塗布装置−一般、その他 (33,298) | 回転塗布装置 (1,232) | 回転駆動装置 (201) | 回転軸 (159) | 水平に設置 (100)

Fターム[4F042EB13]に分類される特許

1 - 20 / 100


【課題】小径の処理液の液滴を均一に噴霧できる2流体ノズル及び同2流体ノズルを用いた基板液処理装置並びに基板液処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、液体吐出部(48)から吐出した処理液と気体吐出口(52)から吐出した気体とを混合して生成した処理液の液滴を被処理体に向けて噴霧する2流体ノズル(34)及び同2流体ノズル(34)を用いた基板液処理装置(1)並びに基板液処理方法において、液体吐出部(48)は、気体吐出口(52)の内側に円周中心部に対して外側方向へ向けて処理液を吐出する複数の液体吐出口(47)を同一円周上に配置することにした。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ファスナーにシール剤を均一に塗布することが容易なシール塗布装置及びシール塗布方法を提供することである。
【解決手段】シール塗布装置1が備えるシール剤吐出装置11は、ファスナー25に塗布されるべきシール剤を吐出する。シール剤吐出装置11は、シール剤が充填されたシールカートリッジ112に吐出パンチ111を押し込む吐出パンチ送り装置113を備える。吐出パンチ送り装置113は、シール剤の吐出量が一定に制御されるように吐出パンチ111の押し込み力を変化させる。 (もっと読む)


【課題】基板を回転させて基板表面に塗布液を展開させることにより基板上に塗膜を形成する回転塗布装置において、回転駆動用モーターからの発熱が基板チャックステージの表面温度を上昇させることを簡単な手段により防ぎ、均一に膜厚制御された塗膜を基板上に形成できる回転塗布装置を提供すること。
【解決手段】基板を載置する基板チャックステージが、接合フランジを介して回転駆動軸と結合し、回転駆動軸に回転力を供給する駆動用モーターが接続する構造の中で、駆動用モーターから基板チャックステージに至る回転駆動軸または接合フランジの熱流路が熱流路中に設けた低熱伝導率材により遮られる。 (もっと読む)


【課題】基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成し、さらに前記塗布膜を加熱する処理に要する時間を短くすることができる技術を提供すること。
【解決手段】
基板の保持部と、基板に塗布液を供給するノズルと、基板全体に塗布膜を形成するために、前記ノズルに対して保持部を相対的に移動させる移動機構と、前記保持部に保持された基板に向けて電磁波を照射し、当該塗布膜に含まれる分子が互いに結合する温度に前記塗布膜全体を加熱するための電磁波照射部と、を備えるように塗布装置を構成する。塗布膜の形成後、加熱処理を行うために基板を移動させる必要が無いので、処理に要する時間を短くし、スループットの向上を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布膜を効率よく形成し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置において、ウェハWの表面Wに紫外線を照射し、当該表面Wを洗浄する(図18(a))。その後、ウェハWの表面W全面に密着剤Bを塗布し(図18(b))、当該密着剤Bを焼成した後(図18(c))、密着剤Bをリンスして、ウェハW上に密着膜Bを成膜する(図18(d))。その後、ウェハWの密着膜B上に光重合開始剤を有するレジスト液Rを塗布する(図18(e))。その後、ウェハW上のレジスト液Rに所定の光量の紫外線を照射し、当該レジスト液Rを、ウェハW上で拡散せず、且つ凝集しないような流動性を有する半硬化状態にする。そして、ウェハW上に半硬化状態のレジスト膜Rを成膜する(図18(f))。 (もっと読む)


【課題】基板縁部の状態を簡単に早く検出することが出来る基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置100は、表面に膜を塗布した基板Wを保持し回転する回転テーブル5と、基板Wに光を照射する光照射手段2と、光照射手段2による基板W表面からの正反射光を受光し、撮像画像の信号出力する光電変換手段4と、を備える。そして、基板Wの回転中心を含んで回転中心から半径方向の一走査分の電気信号の回転手段一周分の検出値を加算して二次元画像を生成し、二次元画像の一方向に沿って設定された判定バンドから変化点を判断する。したがって、基板W上においてEBR線の良否を簡単に判断することができ、処理効率の良い検査が可能になる効果を奏する。 (もっと読む)


【課題】薄膜成膜装置および薄膜成膜方法において、塗布液の蒸発を抑制する設備を設けなくても、高精度な膜厚を有する薄膜を形成できるようにする。
【解決手段】塗布液8を被成膜体4に供給する塗布液供給部6と、被成膜体4を保持する保持部2と、塗布液8を薄膜化する回転駆動部3と、薄膜化された塗布液8の膜厚を測定する膜厚測定部6と、膜厚の変化から薄膜化された塗布液8の粘度および密度を算出する塗布液特性算出部と、回転駆動部3の回転制御を行う回転制御部と、を備え、回転制御部は、回転を開始し塗布液8が有効塗布領域Eまで拡がったことを検出してから、塗布液8の拡がりが停止する第1の回転速度に回転駆動部3の回転速度を制御し、塗布液8の粘度および密度が算出された後に、これに基づいて目標塗布膜厚を得るための第2の回転速度を算出して、回転駆動部の回転速度を第2の回転速度に切り換える構成とする。 (もっと読む)


【課題】 表面平坦性に優れる被膜を形成可能な被膜形成装置および被膜形成方法を提供する。
【解決手段】 本実施形態の被膜形成装置10は、回転台30と、加熱器50と、を備えている。この回転台30は、上面に基板11を載せるものである。この加熱器50は、該回転台30の上面30aと対向して配置される。この加熱器50は、回転台30の回転の中心部の発熱温度に比べて当該回転台30の回転の外周部の発熱温度が高くなるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】改良されたスピンコーターシステムを提供する。
【解決手段】再循環スピンコーターシステムは、スピンコーティングボウル12を備え、このスピンコーティングボウル12は、再循環排液口22、およびこのスピンコーティングボウル12の内側壁28の上端に付随する湿潤流体チャンバ30を備える。この湿潤流体チャンバ30は、側壁湿潤流体を、このスピンコーティングボウル12の内側壁28に分配するように構成されている。映像システムは、品質管理および加工片の位置決めのために、スピンコーティングボウル内の加工片の画像を捕捉するように構成されている。光源の環状アレイが、スピンコーティングボウル12の面を囲み、そして光学制御のためにスピンコーティングボウル12の内部を照射するように構成されている。映像システムは、品質管理と加工片位置決めとの両方のために利用され得る。 (もっと読む)


【課題】水系塗料を用いて給紙ローラーを塗装する塗装方法を提案すること。
【解決手段】給紙ローラーの塗装方法は、水平な姿勢の給紙ローラー本体100をその中心軸線回りに回転させながら、第1ノズル41を用いて略水平方向から水系塗料を吹き付けて、当該給紙ローラー本体100の外周面に下地塗膜層を形成する。次に、水平な姿勢に保持した給紙ローラー本体100Aをその中心軸線回りに回転させながら、その下地塗膜層の表面に第2ノズル42を用いて水平方向から粉体を吹き付けて粉体層を形成する。次に、水平な姿勢に保持した給紙ローラー本体100Bをその中心軸線回りに回転させながら、粉体層の表面に第3ノズル43を用いて略水平方向から水系塗料を吹き付けて、当該粉体層の表面を覆う表面塗膜層を形成する。 (もっと読む)


【課題】基板から飛散した処理液の回収率を向上させることができる基板液処理装置の提供。
【解決手段】基板液処理装置は、基板保持台12に保持されて回転する基板Wから飛散した処理液を下方へ案内する第1案内カップ31および第2案内カップ41と、基板保持台12と、第1案内カップ31および第2案内カップ41との間の位置関係を調整する位置調整機構と、第1案内カップ31および第2案内カップ41により案内された処理液を回収する第1処理液回収用タンク61および第2処理液回収用タンク62と、を備えている。第1処理液回収用タンク61と第2処理液回収用タンク62との間には、排気部材71が設けられている。第2案内カップ41の下端部41bに、第1案内カップ31からの処理液を第1処理液回収用タンク61に案内すると共に、第2案内カップ41からの処理液を第2処理液回収用タンク62に案内する案内部材81が設けている。 (もっと読む)


【課題】駆動ターニングロールおよび従動ターニングロールに載置した被回転体が回転中に軸方向に移動することを防止する従来技術では、被回転体の移動を計測するための機構が新たに必要となり、装置が大掛かりとなる。
【解決手段】被回転体4の側部に円板6を設けるとともに、被回転体4を載置する従動台側ターニングロール10の端部にスラスト軸受14を取付け、このスラスト軸受14に円板6の外周部を当接可能とすることにより、被回転体4の軸方向への移動を防止する。 (もっと読む)


【課題】歩留まりの低下を防ぐこと。
【解決手段】基板を立てた状態で回転可能に保持する回転部SC1,SC2と、前記回転部SC1,SC2に保持される前記基板の外周を囲むように配置され、前記基板の第一面及び第二面をそれぞれ露出する開口部OP1,OP2を有するカップ部CPと、前記開口部OP1,OP2を介して前記基板の前記第一面及び前記第二面に液状体を吐出するノズル52を有する塗布部NZと、前記基板の前記第一面側及び前記第二面側に設けられ、前記開口部OP1,OP2を開閉する蓋部LD1,LD2とを備える。 (もっと読む)


【課題】横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐこと。
【解決手段】横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。
【解決手段】回転中のウェハ上に溶剤を供給し、ウェハを第6の回転数で回転させて溶剤を拡散させる(工程S1)。ウェハの回転を第1の回転数まで加速させ、第1の回転数でウェハを回転させる(工程S2)。ウェハの回転を第2の回転数まで減速させ、ウェハWを第2の回転数で回転させる(工程S3)。ウェハの回転を第3の回転数までさらに加速し、第3の回転数でウェハを回転させる(工程S4)。ウェハの回転を第4の回転数である0rpm超500rpm以下まで減速させ、第4の回転数で1〜10秒間ウェハを回転させる(工程S5)。ウェハの回転を第5の回転数まで加速し、第5の回転数でウェハを回転させる(工程S6)。工程S2から工程S3の途中まで、あるいは工程S2の間ウェハの中心にレジスト液を連続的に供給する。 (もっと読む)


【課題】異なる種類の処理流体を捕集するための複数のダクトを組み合わせるコンパクトなツールを備える。
【解決手段】ツール10は、主に、アセンブリプロセス処理区域11と、障壁構造の配給区域500と、を含む。加工物12の上に横たわり、かつ、覆うことができる特別な障壁構造を含む、加工物12をプロセス処理する装置及びそれに関連する方法、加工物12の上に、位置決めされ、移動できる、特別な移動可能な部材を含む、加工物12をプロセス処理する装置及びそれに関連する方法、プロセス処理チャンバー503に横たわることができる特別な天井構造を含む、加工物12をプロセス処理する方法及びそれに関連する装置、特別な環状体を含む、ノズル装置556及びそれに関連する方法、並びに特別な第1、第2、及び第3のノズル構造を含む、ノズル装置556及びそれに関連する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】スループットの低下を防ぐこと。
【解決手段】基板を立てた状態で回転可能に保持し、保持した前記基板を第一位置及び第二位置に配置可能な基板搬送部と、前記第一位置に配置された前記基板の第一面及び第二面のそれぞれに液状体を吐出する液状体ノズルを有する塗布部と、前記第二位置に配置された前記基板の周縁部の一部を収容する収容機構及び前記周縁部に洗浄液を吐出する洗浄液吐出機構を有し、前記周縁部の前記液状体を除去する除去部とを備える。 (もっと読む)


【課題】スピン塗布法を用いて塗布液を基板に塗布する場合において、塗布液の塗布量を少量にしつつ、塗布液を基板面内に均一に塗布する。
【解決手段】塗布処理方法は、ウェハを加速回転させた状態で、そのウェハの中心部にノズルからレジスト液を吐出して、ウェハ上にレジスト液を塗布する塗布工程S3と、その後、ウェハの回転を減速し、ウェハ上のレジスト液を平坦化する平坦化工程S4と、その後、ウェハの回転を加速して、ウェハ上のレジスト液を乾燥させる乾燥工程S5と、を有する。塗布工程S3では、ウェハの回転の加速度を第1の加速度、前記第1の加速度よりも大きい第2の加速度、前記第2の加速度よりも小さい第3の加速度の順に変化させ、当該ウェハを常に加速回転させる。 (もっと読む)


【課題】高い膜厚均一性を有するカラーレジスト膜を基板上に形成することが可能なレジスト塗布装置およびレジスト膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるレジスト塗布装置は、基板の中央部における温度よりも基板の周辺部における温度が高くなるように基板の温度を調整するよう構成された基板温度調整部と、中央部よりも周辺部において温度が高くなるように基板温度調整部により温度調整された基板上にカラーレジスト液を供給するカラーレジスト液供給部と、カラーレジスト液が供給された基板を回転する基板回転部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 (もっと読む)


1 - 20 / 100