【課題】優れた耐熱性、熱膨張係数に代表される寸法安定性、柔軟性、高透明性を併せ持つポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】２層以上のポリイミド樹脂層を有するポリイミドフィルムであって、該ポリイミドフィルムの少なくとも一層が2,2'-ビス(トリフルオロメチル)- 4,4'-ジアミノビフェニルとピロメリット酸二無水物から生じる構造単位を７０モル％以上含有するポリイミド樹脂層（ｉ）であり、少なくとも一層がガラス転移温度が低いポリイミド樹脂層（ii）であり、該ポリイミドフィルムの波長５００nmにおける光透過率が７５%以上、かつ、熱膨張係数が３０ppm/K以下のポリイミドフィルムである。 （もっと読む）

【課題】 耐絶縁破壊性が高い誘電膜、およびその製造方法を提供する。また、耐絶縁破壊性が高く、耐久性に優れたトランスデューサを提供する。
【解決手段】 誘電膜は、エラストマーと、該エラストマーに化学結合し、該エラストマー中に一次粒子の状態で分散されている粒子径１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子と、を有する。誘電膜の製造方法は、有機金属化合物にキレート剤を添加して、該有機金属化合物のキレート化物を生成するキレート化工程と、該キレート化物に有機溶剤および水を添加して、該有機金属化合物の加水分解反応により生成した金属酸化物粒子のゾルを得るゾル製造工程と、該金属酸化物粒子のゾルと、水酸基と反応可能な官能基を有するゴムポリマーを含むポリマー溶液と、を混合して混合液を調製する混合液調製工程と、該混合液を基材上に塗布し、塗膜を硬化させて誘電膜を得る成膜工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて傷の発生が少なく耐加水分解性に優れた２軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】１ｍ以上のフィルム幅を有すると共に、固有粘度（ＩＶ）値が０．７０ｄＬ／ｇ以上であり、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で測定されるプレピーク温度が１６０℃以上２１０℃以下であり、前記フィルム幅方向における結晶化度のバラツキが０．３％以上５．０％以下となっている。 （もっと読む）

【課題】 バックライトユニットや照明、ディスプレイ等の光源を拡散したり反射を防止することが可能で、光の拡散や散乱性、透過性を容易に制御できる光学フィルム及びそれを用いたおよび照明装置、投影装置、看板および画像表示装置を提供する。
【解決手段】 微細繊維とマトリックス樹脂からなるフィルムにおいて、前記微細繊維の主成分は木材系セルロース由来であり、前記フィルムの全光線透過率が７０％〜９９％、ヘーズが５％〜９９％であり、かつ微細繊維とマトリックス樹脂の屈折率差が０．０１〜０．１５であることを特徴とする光学フィルム （もっと読む）

【課題】従来の高分子電解質膜と比較して、製膜時に支持基材と接触しなかった側の膜表面（空気側面）が親水的な高分子電解質膜を製造できる高分子電解質組成物を提供する。
【解決手段】高分子電解質と溶媒とを含有し、上記溶媒が、ヒドロキシ基とエーテル結合とを有する化合物である高分子電解質組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、炭化水素系樹脂またはそのシ−トに対し、無機材料、例えばガラス板等との効率的で安定な接着性を工業的に有利な方法で付与させる方法を提供し、さらに無機材料、例えばガラス板等への接着性が優れた樹脂またはそのシートを提供することである。
【解決手段】
炭化水素系樹脂に対し、アミノ基含有シランカップリング剤をラジカル開始剤の存在下でグラフト処理することで、無機材料、特にガラスとの接着性に優れた樹脂またはそのシートを提供することができ、例えば太陽光発電装置の封止材、液晶やＥＬ表示、発光装置の封止、接着用樹脂として有用である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性、生産性を向上させる摺動性、及び耐電圧性を有するフィルムキャパシタ用フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 熱可塑性樹脂組成物からなる成形材料を、混練、調製して、押出機１からＴダイス７でフィルムに溶融押し出しした後、圧着ロール９と、算術平均粗さＲａの標準偏差σのＲａに対する比σ／Ｒａ≦０．２であるような粗表面を有する冷却ロール８との間に挟んで冷却して巻取管１６で巻取ることにより、算術平均粗さＲａの標準偏差σのＲａに対する比σ／Ｒａ≦０．２の表面性状を有する、厚さ≦１０μｍのフィルムキャパシタ用フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】粗化処理された粗化硬化物の表面の濡れ性を高めることができるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、樹脂組成物又は該樹脂組成物がフィルム状に成形されたＢステージフィルムであるエポキシ樹脂材料である。上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含む。比較的厳しい条件で得られた第１の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａは５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である。上記第１の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａは、比較的穏やかな条件で得られた上記第２の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａの４倍以下である。上記第１の粗化硬化物の表面自由エネルギーは６０ｍＪ／ｍ^２以上、８０ｍＪ／ｍ^２以下である。上記第２の粗化硬化物の表面自由エネルギーは６０ｍＪ／ｍ^２以上、８０ｍＪ／ｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】ハロアルキルスチレンを含む重合性組成物を重合させてなる重合体と離型フィルムとの離型時に、重合体と離型フィルムとの接着に起因する樹脂剥離の発生を防止することのできるイオン交換膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ハロアルキルスチレン、ハロアルキルスチレンと共重合可能な単量体、エラストマー、重合開始剤、および、グリシジルエーテル基を２個以上有するエポキシ化合物を含有する重合性組成物を基材シートに付着させた後、該基材シートに離型フィルムを貼り付け、その後重合反応を行い、得られた重合体に陰イオン交換基を導入することを特徴とする陰イオン交換膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性の位相差フィルムをつくる。
【解決手段】溶液製膜方法１０では、膜形成工程１３と、剥取工程１５と、延伸乾燥工程１６と、乾燥工程１８と、水蒸気接触工程２０と、延伸工程２２とを有する。膜形成工程１３では、ドープ１１から流延膜１２を支持体上に形成する。剥取工程１５では、支持体から流延膜１２を剥ぎ取って湿潤フィルム１４とする。延伸乾燥工程では、湿潤フィルム１４の延伸とともに、湿潤フィルム１４からの溶剤の蒸発を行う。乾燥工程１８では、湿潤フィルム１４からの溶剤の蒸発を行い、フィルム１７とする。水蒸気接触工程２０では、フィルム１７に水蒸気を接触する。延伸工程２２では、フィルム１７の延伸により位相差フィルム２１を得る。 （もっと読む）

【課題】光学用途に好適なイミド樹脂を実現する。
【解決手段】本発明に係るイミド樹脂は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、特定のアクリレート基を有する繰り返し単位と、特定の炭化水素基を有する繰り返し単位とを含有し、配向複屈折が−０．１×１０^-3〜０．１×１０^-3であることを特徴とする。


（ここで、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ³は、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基を示す。） （もっと読む）

【課題】真円性及び機械的強度に優れ、且つ、環境負荷の低い鏡枠用樹脂構造体を提供する。
【解決手段】本発明の鏡枠用樹脂構造体は、アスペクト比が１０〜１００００００であり、平均直径が１〜８００ｎｍであるセルロースナノファイバーを樹脂中に含有してなる複合樹脂組成物を、成形してなることを特徴とする。前記鏡枠用樹脂構造体は、カメラ用であることが好ましい。また、前記鏡枠用樹脂構造体は、縦方向と横方向とのモールド収縮率の差が０．５％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】面内位相差Ｒｅの絶対値が５０〜３００ｎｍである位相差フィルムの製造方法であって、ＮＺ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で表わされるＮＺ係数が０．９〜１．２である位相差フィルムは強度が低いフィルムもしくは光軸のムラが大きいフィルムしか得られていなかった。
【解決手段】本延伸工程後の面内位相差Ｒｅが正である場合は、予備延伸工程後の面内位相差Ｒｅが−３０〜０ｎｍ、厚さ方向位相差Ｒｔｈが０ｎｍ〜３０ｎｍであり、本延伸工程後の面内位相差Ｒｅが負である場合は、予備延伸工程後の面内位相差Ｒｅが０〜３０ｎｍ、厚さ方向位相差Ｒｔｈが、−３０〜０ｎｍである延伸フィルムを、フィルムの流れ方向に延伸する本延伸工程を実施する。これにより、フィルムの強度や光軸の均一性が向上した位相差フィルム提供することができる。 （もっと読む）

【課題】使用環境の湿度の変化に対するＲｅ、Ｒｔｈの変動が抑制されたセルロースアシレートフィルムの提供。
【解決手段】セルロースアシレートと、下記式で表される化合物を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。


（式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数５〜２０のヘテロアリール基または炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｘはハメットのσｐ値およびσｍ値がｉ）σｍ＜０ かつ σｐ≧０、ii）σｐ＜０ かつ σｍ≧０またはiii）σｐ≧０ かつ σｍ≧０のうちいずれかの関係を満たす置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】チオール基含有化合物で変性したスルホン酸型陽イオン交換樹脂よりなるビスフェノール化合物製造用の酸性触媒の製造方法であって、変性に用いたチオール基含有化合物の保護基であるアシル基由来の不純物のビスフェノール化合物生成反応系への混入の問題を解決することができる酸性触媒を、煩雑な操作や特別な装置を要することなく工業的に有利に製造する。
【解決手段】チオール基含有化合物のチオール基をアシル基で保護した化合物を用いてスルホン酸型陽イオン交換樹脂を変性し、該変性時および／又は変性後に該チオール基含有化合物のチオール基をアシル基で保護した化合物のチオエステル部分を加水分解する。この加水分解を４０℃以上１００℃以下の温度で行うことにより、短時間で効率的に加水分解を行うことができ、ビスフェノール化合物生成反応系内での保護基であるアシル基部分の加水分解に起因するカルボン酸成分およびそれによる不純物成分の混入や装置腐食の問題のない酸性触媒を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高分子電解質の耐久性評価に有用な処理方法であって、長時間の燃料電池運転試験を行う必要がなく簡易であり、かつ燃料電池の運転状態に近い状態を再現可能な高分子電解質の処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明はイオン交換基を含む高分子電解質の処理方法であって、高分子電解質に水、鉄イオン及び過酸化水素を共存せしめた後、該高分子電解質の水分量が２０重量％以下になるまで該高分子電解質を乾燥させる方法である。また、本発明は鉄イオンを含む水溶液に高分子電解質を浸漬させたのち、該高分子電解質の重量を基準とした水分量が２０重量％以下になるまで該高分子電解質を乾燥させる第１処理工程と、第１処理工程における処理を経た高分子電解質を過酸化水素水に浸漬させたのち、該高分子電解質の重量を基準とした水分量が２０重量％以下になるまで乾燥させる第２処理工程とを備える処理方法である。 （もっと読む）

【課題】シワや変形などの形態不良を抑制することができ、その結果、プロトン伝導性や燃料透過抑止性が低下するのを防ぐことができ、さらに、支持体と適度な接着性を有して高い生産性を維持できる、高分子電解質膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の高分子電解質膜の製造方法は、８０モル％以上が塩を形成している酸性基を有する高分子電解質前駆体から流延膜を得る工程と、溶剤の含有率が１５〜２２質量％である高分子電解質前駆体膜１を得る工程と、溶剤の含有率が０．３〜１．０質量％である高分子電解質前駆体膜２を得る工程と、高分子電解質前駆体が有する前記塩の９０モル％以上をプロトンに変換する工程と、乾燥する工程とをこの順で含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シワや変形などの形態不良（特に、微小な膜変形）の発生を抑制することができる高分子電解質膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の芳香族炭化水素系高分子電解質膜の製造方法は、高分子電解質前駆体の流延膜を得る工程と、高分子電解質前駆体膜を得る工程と、高分子電解質前駆体が有する前記塩をプロトンに変換して高分子電解質膜を得る工程と、高分子電解質膜を、相対湿度６０％ＲＨ以上の雰囲気下に１秒〜１０分置く工程と、高分子電解質膜を洗浄する工程とをこの順で含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シワや変形などの形態不良（特に、微小な膜変形）の発生を抑制することができる高分子電解質膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の芳香族炭化水素系高分子電解質膜の製造方法は、塩を形成している酸性基を有する高分子電解質前駆体の流延膜を得る工程と、流延膜から前記溶剤を除去して、高分子電解質前駆体膜を得る工程と、高分子電解質前駆体が有する前記塩をプロトンに変換して高分子電解質膜を得る工程と、前記高分子電解質膜を洗浄する工程と、洗浄後の高分子電解質膜を巻き取った後、高分子電解質膜の水分率を調整する工程とをこの順で含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、着色と臭気が顕著に抑制されているＮ−ビニルカルバゾール共重合体位相差フィルムを製造するための方法と、着色と臭気が顕著に抑制されているＮ−ビニルカルバゾール共重合体位相差フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るＮ−ビニルカルバゾール共重合体位相差フィルムの製造方法は、純度９９．０質量％以上のカルバゾールからＮ−ビニルカルバゾールを合成する工程；１質量％以上、１５質量％以下のＮ−ビニルカルバゾールおよび８５質量％以上、９９質量％以下の（メタ）アクリル酸系モノマーを含むモノマー群を共重合する工程；および、得られた共重合体をフィルム状に加熱成形する工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）