【課題】本発明の目的は、陰電圧パルスによるプラズマイオン注入によって立体の形状を有する重合体の表面の帯電防止及び伝導性などの向上のための連続表面処理装置及び方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は陰電圧パルスによるプラズマイオン注入によって立体の形状を有する重合体の表面の帯電防止及び伝導性などの向上のための連続表面処理装置及び方法に関し、プラズマを発生させてイオン注入するために高周波電力供給装置とマッチングボックス及びアンテナを含む高周波供給部と、プラズマを構成するためのイオン化される工程ガスを供給するガス導入装置と、これに連結されるガス供給源と、真空ポンプなどが具備される処理室を含む表面処理装置において、上記処理室の前後に互いに隣接して取り付けられる、脱気可能な引入室と脱気可能な引出室と、上記引入室、処理室及び引出室を順次に経由するように取り付けられる移送装置と、上記移送装置を駆動する移送手段を含んでなり、上記引入室と、上記引出室と、上記引入室と処理室の間の隔壁及び上記処理室と引出室の間の隔壁に上記移送装置が通過することができる自動開閉が可能なドアを含んでなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高分子成形材とメッキ膜間の密着性が照射領域で位置によらず所望の値以上になる高分子成形材のメッキ形成方法を提供することである。
【解決手段】 高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形材に照射するレーザの下限のフルーエンスを、メッキ形成に必要な最低フルーエンス以上で高分子成形材の表面粗さが増加傾向にある範囲で決定し、レーザの上限のフルーエンスを、高分子材料のアブレーションしきい値もしくは充填した無機フィラーのアブレーションしきい値のうち低い方で決定し、フルーエンスを、下限のフルーエンスと上限のフルーエンスとの間の一定範囲内に収めるようにした。 （もっと読む）

【課題】 この出願発明は、反応速度を速くすることにより、ポリマー成型体の表面改質に要する時間を短くできるポリマー成型体の表面改質方法及び表面改質装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 この出願発明は、ガス状及び／又は霧状の反応剤が存在する状態で、ポリマー成型体の両面に対して、フリーラジカル発生エネルギーを照射するポリマー成型体の表面改質方法及びその装置に関する。 （もっと読む）