Array ( [0] => 高分子成形体の処理 [1] => 被処理物の材料 [2] => ハロゲン化ビニル系 ) 高分子成形体の処理 | 被処理物の材料 | ハロゲン化ビニル系
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【解決手段】放射線を照射したフッ素樹脂膜にラジカル反応性モノマーをグラフト重合させ固体高分子電解質膜を製造する際、グラフト重合を非プロトン性極性溶媒中で行う固体高分子電解質膜の製造方法。
【効果】本発明の放射線グラフト重合による固体高分子電解質膜の製造方法では、僅かな放射線を照射するだけで。高グラフト率を有するグラフト膜が得られるため、膜劣化の少ない燃料電池用の固体高分子電解質膜の製造方法として適している。 (もっと読む)




【解決手段】フッ素系樹脂からなる薄膜に放射線を照射して、イオン伝導性基を導入可能なラジカル重合性モノマーとアルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマーとをグラフト重合させた後、アルコキシシリル基を反応させ、イオン伝導性基を導入する燃料電池用の固体高分子電解質膜の製造であって、イオン伝導性基を導入可能なラジカル重合性モノマーとアルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマーの配合比率を90/10〜60/40(モル比)でグラフト重合を行うことを特徴とする固体高分子電解質膜の製造方法。
【効果】本発明によれば、溶液のゲル化を起こすことなく、化学的安定性及び寸法安定性に優れ、メタノール透過度を低減し、しかも脆性の改善した固体高分子電解質膜を得ることができる。 (もっと読む)




【課題】 エッチング工程を行うことなく微細な導電パターンを形成する方法を提供して、基板との密着性に優れ、基板との界面における凹凸が小さいプラスチック材料を製造すること。
【解決手段】 ガラス転移温度が200℃以上であって、厚みが40μmの場合における波長420nmの光線透過率が40%以上であるポリマー基板上に、重合開始剤によってグラフトポリマーをパターン状に形成し、さらにその上に導電性材料を設ける。 (もっと読む)





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