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Fターム[4F073CA04]の内容

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【課題】処理時間を短縮し、スループットを向上させ、早期に装置を立ち上げることができる可撓性フィルム処理装置を提供する。
【解決手段】可撓性フィルム処理装置は、可撓性フィルムを移動する供給ロール及び巻取りロールと、前記供給ロールと前記巻取りロールの間に設けられ、前記可撓性フィルムを処理する処理室と、前記供給ロールと前記処理室の間に設けられた第一の真空室と、前記処理室と前記巻取りロールの間に設けられた第二の真空室と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 樹脂材料からなる基材の表面を粗面化することなく、当該表面にあるノジュールを微細化することができるマイクロ波プラズマ改質方法を提供する。
【解決手段】 樹脂材料からなる基材20の表面に、マイクロ波プラズマP2を照射することにより、基材20の表面にある樹脂成分由来のノジュールの粒子径を300nm以下にする。マイクロ波プラズマP2を照射するマイクロ波プラズマ照射手段4は、マイクロ波を伝送する矩形導波管41と、矩形導波管41の一面に配置され、該マイクロ波が通過するスロット420を有するスロットアンテナ42と、スロット420を覆うようにスロットアンテナ42に積層して配置され、スロット420を通過した該マイクロ波が入射する誘電体部43と、を備える。 (もっと読む)


【課題】PMMAフィルムの接着強度を向上させる。
【解決手段】アクリル酸を含む第1反応ガスをPMMAフィルムに接触させる(第1接触工程)。次に、アルゴンプラズマをPMMAフィルムに照射する(第1照射工程)。次に、アクリル酸を含む第2反応ガスをPMMAフィルムに接触させる(第2接触工程)。次に、アルゴンプラズマをPMMAフィルムに照射する(第2照射工程)。 (もっと読む)


【課題】 基板とシート部材とによって構成される試料操作素子に対し、その操作構造での所望の領域を選択的に親水化処理することが可能な試料操作素子の表面処理方法、及び処理装置を提供する。
【解決手段】 下部基板12と、上部シート部材14とを有する試料操作素子10を載置するステージ20と、素子10にレーザ光Lを供給するレーザ光源30と、素子10に対し、シート部材14側からまたは基板12側から所定の照射光軸Axに沿って、シート部材と基板との間に形成された操作構造内にビームウエストが位置する集光条件でレーザ光Lを照射する集光光学系35とによって表面処理装置1Aを構成する。そして、試料操作素子10の操作構造内において、レーザ発生プラズマにより、シート部材14で操作構造を構成している凹状構造部の内側表面を親水化処理する。 (もっと読む)


【課題】液晶ポリマーフィルムの表面を、2.6〜15Paのガス圧の酸素雰囲気又は窒素雰囲気下でプラズマ処理した面に、乾式めっき及び/又は湿式めっきにより形成された金属導体層を備えた銅張積層板。液晶ポリマーフィルムのプラズマ処理後の表面粗さが、算術平均粗さRaが0.15μm以下であり、かつ二乗平均平方根粗さRqが0.20μm以下である上記銅張積層板。
【解決手段】液晶ポリマーフィルムの表面を、2.6〜15Paのガス圧の酸素雰囲気又は窒素雰囲気下でプラズマ処理したした後、乾式めっき及び/又は湿式めっきにより金属導体層を形成することを特徴とする銅張積層板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】誘電体バリア放電による大気圧プラズマCVDで基板の処理を行なうに際し、長時間に渡って安定したプラズマを生成することができ、これにより、長時間に渡って安定して高品位な処理を行うことを可能にするプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】電極対にプラズマ励起電力を供給する電源装置として、20kHz〜3MHzで単一周波数の正弦波の電力を出力する電源、キャパシタンスおよびインダクタンスが可変であるLC共振回路、および、パルス制御素子を有する装置を用いることにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】ポリエステル基板の表面を大気圧プラズマ処理により表面処理する際に、表面処理からの時間経過によって、基板表面にオリゴマーが泣き出しすることを防止することにより、基板と機能膜との密着性を向上させることができる高品質な表面処理を、効率よく連続的に行なうことができる表面処理方法を提供する。
【解決手段】前記基板に大気圧プラズマ処理による表面処理を行なう大気圧プラズマ工程と、前記大気圧プラズマ工程の前に、前記基板の表面温度をガラス転移温度Tg超に加熱する加熱工程とを有することで上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】オレフィン系モノマー重合フィルムの接着性を確実に向上させる。
【解決手段】モノマー供給系2によって、水溶性モノマー及びオレフィン系モノマーを含むモノマー混合ガスをオレフィン系モノマー重合フィルム11に吹き付け接触させる。上記2種類のモノマーは、好ましくは互いに混合させずにフィルム11の近傍まで導いて混合する。凝縮手段56によって、モノマー混合ガス中の水溶性モノマー及びオレフィン系モノマーをフィルム11の表面上で凝縮させる。凝縮の後、プラズマ照射手段4によってフィルム11に大気圧近傍プラズマを照射する。上記モノマー混合ガス中のオレフィン系モノマーの体積濃度を水溶性モノマーの体積濃度の1.1倍以上とする。 (もっと読む)


【解決課題】高い吸収率を有する吸水性ポリマー構造体の製造に関連して先行技術から生じる欠点を克服すること。
【解決手段】表面変性吸水性ポリマー構造体の製造方法であって、I)多数の吸水性ポリマー構造体を用意する工程と、II)工程(I)で用意した吸水性ポリマー構造体の表面をプラズマで処理する工程と、を含み、工程(II)において多数の吸水性ポリマー構造体を混合する方法。また、上記方法に使用する装置、上記方法によって得られる表面変性吸水性ポリマー構造体、前記表面変性吸水性ポリマー構造体及び基材を含む複合体、複合体の製造方法、前記方法によって得られる複合体、前記表面変性吸水性ポリマー構造体又は前記複合体を含む化学製品並びに前記表面変性吸水性ポリマー構造体又は前記複合体の化学製品における使用。
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【課題】
改良されたプラズマイオン注入法により、表面部にイオン注入層を形成する高分子成形体の製造方法、この製造方法により得られる高分子成形体、及び外部電界を用いることなく基板に印加する負の高電圧パルスによる電界のみでプラズマを生成し、このプラズマ中のイオンを高分子成形体の表面部に注入して、表面部にイオン注入層を有する高分子成形体を製造する装置を提供することを課題とする。
【解決手段】
高分子成形体の表面部にプラズマ中のイオンを注入して、該成形体表面部にイオン注入層を形成する高分子成形体の製造方法であって、高電圧パルス発生装置に接続された導体上に高分子成形体を載置し、該導体に負の高電圧のみを印加して高分子成形体周囲にグロー放電を発生させて、高分子成形体の形状に沿ったプラズマを生成させ、そのプラズマ中のイオンを誘引、注入させて、高分子成形体の表面にイオン注入層を形成することを特徴とする、表面部にイオン注入層を有する高分子成形体の製造方法、この方法により得られる高分子成形体、及び、表面部にイオン注入層を有する高分子成形体の製造装置。 (もっと読む)


【課題】 撥水性に優れる撥水層を、真空排気やガス置換等を行うことなく、簡易な条件および装置で製造することができる撥水層の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の撥水層の製造方法は、フッ素を含有する撥水層の製造方法であって、大気圧下、フッ素原子および水素原子を含むガス、ならびに不活性ガスを含むガス中において、プラズマ放電処理により、フッ素含有層を形成するフッ素含有層形成工程と、前記フッ素含有層の表面に溶剤を接触させる溶剤処理工程とを含み、前記フッ素含有層形成工程の前記ガス中の前記フッ素原子数(X)および前記水素原子数(Y)の割合(X/Y)が、8以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大気からの不純物ガスの混入を抑制でき、高分子材料の表面改質特性に優れたプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】ガス流路rを備えたノズル20と、ノズル20を挟んで対向配置され、ガス流路r内で略大気圧下で放電を発生させ、処理ガスの励起活性種を生成させるための1対の放電電極4及び5と、ノズル20並びに放電電極4及び5が内部に配置され、処理ガスの送出方向z両端に開口部を有する一体成形された電極ホルダ6と、少なくともノズル20を、放電電極5の側から電極ホルダ6内の基準面に向かって押圧して電極ホルダ6に固定する固定部材と、電極ホルダ6の一端に設けられ、ガス流路rの一端から処理ガスを導入するためのガス導入部材3と、電極ホルダ6の他端を閉塞するとともに、ガス流路rから前記励起活性種を含む処理ガスを排出する排出口を有する閉塞部材11と、を備える。 (もっと読む)


【課題】安定な塗膜を有する医用材料表面の提供。
【解決手段】反復単位の側鎖に大気圧低温プラズマ照射により架橋する官能基を有する重合体を形成するモノマー由来の単独重合体または共重合体であって、かつ塗膜形成性重合体を大気圧低温プラズマ照射処理により得られる架橋組成物およびその使用。モノマーが、ハロゲンが塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素からなる群より選ばれるハロゲン化メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1、3−ブタジエン、アリールアルコールアルキルエーテル(CH2=CHCH2Oalkであって、alkはC1−C6アルキルである)、酢酸ビニル、メタクリル酸メチルまたはアクリロニトリル。 (もっと読む)


【課題】ポリエチレンテレフタレートフィルムと無機酸化物層との密着を強化し、高温高湿環境下で試験を行ってもデラミネーションの発生がないガスバリア積層体を提供すること。
【解決手段】ポリエチレンテレフタレートフィルム1の少なくとも一方の面に無機酸化物層3を積層するガスバリア積層体であって、該ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも該無機酸化物層3を設ける面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)処理2が施されており、該処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定(測定条件:パイプエッジ:直径2mm、フレーム重さ14g)した場合、測定温度が50℃における対数減衰率が0.04以上0.06以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。 (もっと読む)


【課題】処理対象物を汚染することなく、広範囲に渡って、均一で高密度のプラズマを効率よく発生させることができる装置を提供する。
【解決手段】容器に装着され、自由空間波長λのマイクロ波が伝搬する矩形導波管である導波管部5と、導波管部5の壁部に、管内波長λgの1/2の間隔で上記壁部の長手方向に形成された矩形状の複数のスロット12から成るスロットアンテナ10と、スロットアンテナ10を有する壁部の外表面に接して設けられ、スロットアンテナ10を覆う誘電体板11とを備え、複数のスロット12は、a)壁部の長軸を挟んで交互に配置され、b)中心軸からの距離が一定であり、c)複数のスロット12の数をn、n×λg/2をλ/2で除して得られる数をmとした場合、m−1<n<mを満たし、d)導波管部5のインピーダンスが、第2導波管5にスロットアンテナ10がない場合のインピーダンスである特性インピーダンスとほぼ等しい。 (もっと読む)


【課題】高い処理能力を備えることができ、処理ガスの使用量を削減できるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置は、被処理基材の搬入口および搬出口を有する筐体と、前記筐体内に設けられプラズマを発生させて前記被処理基材を処理するプラズマ処理部と、前記搬入口とプラズマ処理部とを接続する搬入路と、プラズマ処理部と前記搬出口とを接続する搬出路と、前記被処理基材を前記搬入路と搬出路を通って搬送する搬送部と、前記搬入路および搬出路の少なくとも一方に吸引口が露出しプラズマ処理部から気体を吸引する吸引部と、プラズマ処理部に設けられ前記被処理基材の搬送方向に沿って配列された複数対の対向電極と、プラズマ処理部に設けられ処理ガスを各対向電極間へ供給する処理ガス吹き出し部と、処理ガス吹き出し部の処理ガス供給量を設定する設定部とを備え、前記設定部は前記吸引口に近い処理ガス吹き出し部ほど処理ガス供給量が少なくなるように処理ガス供給量を設定する。 (もっと読む)


接着性を変化させるため、架橋されたシリコーンオイルをベースとする非粘着シリコーン組成物からなる非粘着コーティングが施された基材を生成する方法。大気圧下で、ドープされた窒素雰囲気中、あるいは、二酸化炭素雰囲気中において、コールドプラズマ処理を施すことによって、基材の少なくとも一部に非粘着コーティングを施す方法。そして、かかる非粘着シリコーン組成物のコーティングが少なくとも一部に施された基材、シリコーン自己接着複合体、および、それらの使用。 (もっと読む)


【課題】連続フィルム状又は連続シート状の基材をロール電極でプラズマ処理する際、折り返し用部材との接触で被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止する。
【解決手段】一対のロール電極20どうしの間に放電空間となるギャップ21を形成する。基材90を、一方のロール電極20Lの上側部分に巻き付けるとともに、ギャップ21に通してそこより下方においてループ状に曲げ、再び前記ギャップ21に通して他方のロール電極20Cの上側部分に巻き付けた状態で、ロール電極20どうしを互いに同方向に回転させる。基材90のループ状曲げ部分91をフリー状態とする。 (もっと読む)


【課題】金属との密着性が高く、かつ、表面平滑性のある金属薄膜を形成することができる、液晶ポリマー材料からなる物品の表面改質方法を提供すること。
【解決手段】液晶ポリマー材料からなる物品の表面にイオン照射することを含む、液晶ポリマー材料からなる物品の表面改質方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】表面加工対象物の表面全体を均一に表面改質処理が施せ且つ加工対象物の製造工程で実現することを可能とする。
【解決手段】表面加工対象物2の外表面をプラズマにより改質する表面改質装置10において、前記プラズマを発生させるためのプラズマ発生ガスが流れ且つ端部が大気圧中に開放されたガス管11と、ガス管11からプラズマ発生ガスが流れ込み且つ表面加工対象物2を移動自在に収容する収容管12と、ガス管11又は収容管12の少なくとも一方の外表面に設けられ且つ電圧を印加してプラズマ発生ガスと大気圧でプラズマを発生させる電極13と、を有し、収容管12が、ガス管11からのプラズマ発生ガスを表面加工対象物2の外表面の全てにわたって滞留させ且つ電極13による電圧の印加に応じて発生するプラズマによって前記表面加工対象物2の外表面の改質を行う滞留部12aを有する。 (もっと読む)


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