【課題】放電の安定化と、安定した処理ガス供給を両立する、シート表面に十分な改質効果を与えるシートのプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】放電電極２３と該放電電極に対向して配置される対極電極１１とを有し、前記放電電極と前記対極電極の間を、前記対極電極に密着して連続的に走行するシート２１が通過するシート走行路、および前記シート走行路へガスを供給するガス供給手段２０を有するプラズマ処理装置において、前記放電電極２３および前記ガス供給手段２０が、シート走行方向に沿って交互に配置され、かつ、前記シートの幅方向に延在した構造を有し、また、前記ガス供給手段２０が、該ガス供給手段の前記対極電極１１側の領域に前記ガスを供給する開口部４４を有し、該開口部４４が、前記放電電極の前記対極電極１１から最も離れた面よりも、前記対極電極１１に近い位置に配置された構造を有する、シートのプラズマ処理装置。 （もっと読む）

【課題】
テトラエッチ処理に匹敵する接着強度が得られ、環境負荷が全くない新規なフッ素系樹脂材料の表面改質方法を提供し、併せて表層部を改質したフッ素系樹脂材料と金属材料を接着した積層体及びフッ素系樹脂材料と金属材料の積層体を提供する。
【解決手段】
フッ素系樹脂材料を水中で発生させたプラズマに曝し、表層部に多孔質構造を導入して粗面化する水中プラズマ処理工程と、フッ素系樹脂材料の粗面化表面を大気圧プラズマに曝して脱フッ素化と、その後の大気暴露時に過酸化物ラジカル基を導入する大気圧プラズマ処理工程と、フッ素系樹脂材料の過酸化物ラジカル基導入面に、接着剤と反応性のある官能基を分子内に持つ有機化合物溶液を塗布し、前記過酸化物ラジカル基を反応点として、有機化合物を自発的に共有結合させて高密度にグラフト重合させるグラフト化工程とよりなる。 （もっと読む）

【課題】安定して均一に印刷特性に優れる包装袋用材料を簡便に製造することができる包装袋用材料の製造方法、製造装置及び包装袋を提供すること。
【解決手段】本発明に係る包装袋用材料の製造方法は、熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも一面を、大気圧プラズマの雰囲気に配置することで、表面処理を行う工程を有する。熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも一面を大気圧プラズマの雰囲気に配置する時間を、２０秒未満にすることが好ましく、大気圧プラズマの雰囲気を形成するための印加電圧を、１００Ｖ、５０Ｈｚの電源を使用した場合には９ｋＶ未満にすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】誘電体バリア放電による大気圧プラズマＣＶＤで基板の処理を行なうに際し、長時間に渡って安定したプラズマを生成することができ、これにより、長時間に渡って安定して高品位な処理を行うことを可能にするプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】電極対にプラズマ励起電力を供給する電源装置として、２０ｋＨｚ〜３ＭＨｚで単一周波数の正弦波の電力を出力する電源、キャパシタンスおよびインダクタンスが可変であるＬＣ共振回路、および、パルス制御素子を有する装置を用いることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】反応成分を含む反応ガスを活性化させて被処理フィルムを表面処理する際、反応成分を十分に反応させ、かつ電極に汚れが付着するのを防止する。
【解決手段】主処理部１０の第１ロール電極１１及び第２ロール電極１２に被処理フィルム９を掛け回す。ロール電極１１，１２の回転により被処理フィルム９を電極１１から電極１２へ搬送する。電極１１，１２間の主放電空間１９より搬送方向の上流側又は放電空間１９内のフィルム１９にノズル２３から反応ガスを吹き付ける。主処理部１０より搬送方向の下流に再活性化部３０を設ける。好ましくは、再活性化部３０の後段電極３１を第２ロール電極１２と対向させ、第２ロール電極１２を再活性化部３０の他方の後段電極として兼用する。反応成分を含まない放電生成ガスをガス供給部３３から電極３１，１２間に供給する。 （もっと読む）

【課題】大気からの不純物ガスの混入を抑制でき、高分子材料の表面改質特性に優れたプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】ガス流路ｒを備えたノズル２０と、ノズル２０を挟んで対向配置され、ガス流路ｒ内で略大気圧下で放電を発生させ、処理ガスの励起活性種を生成させるための１対の放電電極４及び５と、ノズル２０並びに放電電極４及び５が内部に配置され、処理ガスの送出方向ｚ両端に開口部を有する一体成形された電極ホルダ６と、少なくともノズル２０を、放電電極５の側から電極ホルダ６内の基準面に向かって押圧して電極ホルダ６に固定する固定部材と、電極ホルダ６の一端に設けられ、ガス流路ｒの一端から処理ガスを導入するためのガス導入部材３と、電極ホルダ６の他端を閉塞するとともに、ガス流路ｒから前記励起活性種を含む処理ガスを排出する排出口を有する閉塞部材１１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高分子基材上に堆積物を発生させることなく、選択的に官能基を高分子基材表面に形成でき、かつプロセス適応性が高い高分子基材の処理方法を提供する。
【解決手段】大気圧またはその近傍の圧力下で、ガス成分を励起してプラズマ化することで活性種を発生させる第一の工程と、前記活性種を高分子基材の表面に輸送して、高分子基材の表面を処理する第二の工程と、を含んでなるプラズマ処理方法であって、前記ガス成分の中に、処理剤として一級アルコールであって、α−炭素ラジカルを有する構造が酸素ラジカルを有する構造より計算科学的手法により算出したギブスの自由エネルギーの小さい化合物が含まれ、かつ、前記第一の工程および第二の工程における雰囲気が水成分を実質的に含まない、プラズマ処理方法。 （もっと読む）

【課題】接着性が相対的に低い樹脂フィルムの接着性を向上させる表面処理における放電を安定化させ、かつガスノズルの設計の自由度を確保する。
【解決手段】重合性モノマーの蒸気を含有する重合性モノマー含有ガスを重合性モノマー供給系３の第１ノズル３２から吹出し、難接着性樹脂フィルム１１の表面の被処理箇所に接触させ、被処理箇所に重合性モノマーを担持させる。プラズマ処理部２では、重合性モノマー含有ガスとは別のプラズマ生成用ガスを放電空間２０ａに導入するとともに上記担持工程後の被処理箇所に接触させる。重合性モノマーは、好ましくはアクリル酸又はメタクリル酸であり、より好ましくはアクリル酸である。 （もっと読む）

【課題】チューブ状フィルムの変形を抑止し、内周面処理のばらつきを抑えることができるチューブ状フィルム内周面処理装置および処理方法を提供する。
【解決手段】チューブ状フィルムの内周面で取り囲まれた空間内に棒状電極３を挿通し、棒状電極を挿通した状態でチューブ状フィルムを導電性液体中１６に浸漬させ、棒状電極と導電性液体との間で発生させたプラズマによってチューブ状フィルムの内周面を処理するために用いられる装置であって、棒状電極と、チューブ状フィルムを支持するための支持体１と、空間内にガスを導入するためのガス導入路７，８と、空間内から排出されたガスを流すためのガス配管９と、ガス配管の一端を浸漬するための液体１２を備えた圧力調整部３８と、を含み、ガス配管の液体中への浸漬深さによって空間内の圧力を調整することができる処理装置とその処理装置を用いたチューブ状フィルム内周面処理方法である。 （もっと読む）

【課題】処理対象物を汚染することなく、広範囲に渡って、均一で高密度のプラズマを効率よく発生させることができる装置を提供する。
【解決手段】容器に装着され、自由空間波長λのマイクロ波が伝搬する矩形導波管である導波管部５と、導波管部５の壁部に、管内波長λｇの１／２の間隔で上記壁部の長手方向に形成された矩形状の複数のスロット１２から成るスロットアンテナ１０と、スロットアンテナ１０を有する壁部の外表面に接して設けられ、スロットアンテナ１０を覆う誘電体板１１とを備え、複数のスロット１２は、ａ）壁部の長軸を挟んで交互に配置され、ｂ）中心軸からの距離が一定であり、ｃ）複数のスロット１２の数をｎ、ｎ×λｇ／２をλ／２で除して得られる数をｍとした場合、ｍ−１＜ｎ＜ｍを満たし、ｄ）導波管部５のインピーダンスが、第２導波管５にスロットアンテナ１０がない場合のインピーダンスである特性インピーダンスとほぼ等しい。 （もっと読む）

【課題】プラズマの発生エネルギーを損なう事無く、成膜対象となる３次元中空容器及び誘電体冶具に発生する不意の損傷を防げるようにする。
【解決手段】プラズマ処理を行う処理槽と、プラズマを発生させる為の高周波電源と、プロセスガス供給装置と、真空排気装置とを備えた３次元中空容器（８）に成膜を行うプラズマ処理装置において、
前記３次元中空容器（８）が収納出来る空隙を設けた誘電体で構成されている冶具（７，９，１０，１４）の、高周波電力のホット側（１）とアース側（５）のいずれからも電気的に絶縁された箇所に、導電性を有する部品（１２，１３）を配置した事を特徴とする成膜装置。 （もっと読む）

【課題】連続フィルム状又は連続シート状の基材をロール電極でプラズマ処理する際、折り返し用部材との接触で被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止する。
【解決手段】一対のロール電極２０どうしの間に放電空間となるギャップ２１を形成する。基材９０を、一方のロール電極２０Ｌの上側部分に巻き付けるとともに、ギャップ２１に通してそこより下方においてループ状に曲げ、再び前記ギャップ２１に通して他方のロール電極２０Ｃの上側部分に巻き付けた状態で、ロール電極２０どうしを互いに同方向に回転させる。基材９０のループ状曲げ部分９１をフリー状態とする。 （もっと読む）

【課題】高分子フィルムを基材とし、有機ＥＬ等に向けたハイバリア化を可能とする真空成膜装置、高分子フィルム積層体の製造方法ならびに高分子フィルム積層体を提案する。
【解決手段】成膜時のフィルム表面の温度をコントロールし、表面に膜を形成するための温調入りメインロール３４と、マグネトロンを備えホロカソード放電が可能な電極３６と、原料導入パイプ３８を備える真空成膜装置によりなる。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤによる成膜と、蒸発源を用いる成膜とを、成膜空間を大気圧に開放することなく、連続して行うことのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料８ａが充填される坩堝８ｂの開口には、開閉可能な遮蔽部材８ｃが配置され、遮蔽部材８ｃは、プラズマ源２の陽極を兼用する。これにより、プラズマＣＶＤ工程では、陽極を兼用する遮蔽部材８ｃによって蒸発材料８ａを遮蔽することができるため、蒸発材料８ａに膜が付着しない。また、遮蔽部材８ｃを陽極とすることにより、遮蔽部材８ｃがプラズマの放電に影響を与えない。また、遮蔽部材８ｃを開放し、蒸発材料８ａを蒸発させて蒸着工程を行うことができる。遮蔽部材８ｃがプラズマ５ａで加熱されるため、遮蔽部材８ｃの内側に付着する蒸発物を蒸発させて除去することも可能である。 （もっと読む）

【課題】電極の作製が容易で安価であり、処理むらが少なく、接着性改善効果が高いプラズマ処理を容易に行うことができるプラズマ処理方法および電極構造ならびにプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】円筒状電極４の内側には、円筒状電極４に相対する面が円筒状電極４の曲率半径以下の曲率半径を有する曲面で形成されている１または２以上のセグメント状の内部側電極２２が、円筒状電極４の軸心の周りに配置されており、円筒状電極４と内部側電極２２の少なくとも一方の電極を、円筒状電極４の軸心を中心として回転させながら、プラズマを発生させる圧力の所定のガス雰囲気中において両方の電極の間にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】表層と中間層との接着が確実であり、高温等の過酷な使用環境で長期にわたって信頼性を有する画像形成装置用の多層エンドレスベルトを提供する。
【解決手段】ベース層上に、エラストマーを有する中間層と、フッ素含有ポリマーにより形成される表層とがこの順に形成された画像形成装置用の多層エンドレスベルトであって、前記表層の前記中間層と接着がなされる面には、プラズマ処理が施されており、前記プラズマ処理は、前記表層が配置された処理空間内を、所定のガスで処理空間外より高く、かつプラズマを発生させる圧力雰囲気にして、前記処理空間内で、前記表層の表面をプラズマ処理していることを特徴とする画像形成装置用の多層エンドレスベルト。 （もっと読む）

【課題】効率的よく被処理物を実質的に均一な表面状態に処理でき、さらに接着性改善効果が高くなるプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】相互に対向する２つの電極間４，１１に所定のガスを連続的に導入および排出させながら、両電極４，１１に高周波電力を印加して、プラズマを発生させ、両電極４，１１間に配置した被処理物３の表面処理を行う時、前記高周波電力を、前記所定のガスが前記被処理物３を通過する時間に同期させて、両電極に間欠的に印加する。 （もっと読む）

【課題】 フィルムに損傷を与えることなく、フィルムの寸法安定性を維持して低温プラズマによる表面改質処理を行うことのできる、連続した長尺フィルムの低温プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 フィルムの表面改質処理を行うための装置であって、フィルムを連続的に巻き出す巻出し装置を備えた第１の真空容器と、プラズマ処理を行う第２の真空容器と、プラズマ処理後のフィルムを連続的に巻き取る巻取り装置を備えた第３の真空容器とを有し、各真空容器がフィルムの流れ方向に接続されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面の平坦性に優れながらも、フィルム同士の滑り性を良好とすることができる芳香族系ポリイミドフィルムを得る。高い熱伝導性を有し、強靭で平坦性に優れるグラファイトシートを得る。
【解決手段】フィラーを含まない芳香族系ポリイミドフィルムの表面を低温プラズマ処理することにより、平均表面粗さＲａを５ｎｍ以下とすると共に、静摩擦係数を２．０以下とする。このとき、フィルム表面における酸素原子数（Ｏ）と炭素原子数（Ｃ）との組成比Ｘ（Ｏ／Ｃ）を、理論値の１１５〜１９０％以下の範囲とする。その際、内部電極方式の低温プラズマ処理機により、処理強度を３０００〜５００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2 範囲で処理を行なう。上記芳香族系ポリイミドフィルムを積層し焼成処理を行なうことにより、任意の厚みのグラファイトシートを得る。 （もっと読む）