【解決課題】イオン性ガス状汚染物質の除去性能が長期に亘って維持されるケミカルフィルタを提供すること。
【解決手段】不織布をプリーツ加工して得られたケミカルフィルタであって、 該不織布が、スパンレース法により、繊維を交絡させて作製されたスパンレース不織布であり、該繊維には、放射線グラフト重合によりイオン交換基が導入されていること、を特徴とするケミカルフィルタ。 （もっと読む）

【課題】 ε−ポリ−Ｌ−リジンを抗菌剤として用い、その効果が水との接触等により流失せずに持続する非水溶性の表面改質高分子物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 非水溶性高分子からなる物品をε−ポリ−Ｌ−リジン水溶液に浸漬し、引き上げ、乾燥させて充分にポリリジンを付着させた後、付着面に水を噴霧して再び湿潤させ、しかる後、該付着面に放射線を照射して非水溶性高分子とε−ポリ−Ｌ−リジンとをグラフト反応によりグラフト結合させた表面改質高分子物品。 （もっと読む）

【課題】フリーラジカルが減少し、好ましくは残留フリーラジカルを実質的に含まない放射線照射架橋ポリエチレンの提供。
【解決手段】本発明は、ポリエチレンを融点を下回る高温にて増感環境と接触させ、残留フリーラジカルの濃度を検出不可能なレベルまで減少させることによる放射線照射架橋ポリエチレンの製造方法が開示する。また、ポリエチレンをポリエチレンの融点を下回る温度で、所望により増感環境にて機械的に変形することによるフリーラジカル含量の減少した、好ましくは、残留フリーラジカルを実質的に含まない放射線照射架橋ポリエチレン組成物の製造方法も、本明細書に開示される。 （もっと読む）

本発明は、プラスチック物品の耐摩耗性を向上させる方法に関する実施態様を含む。この方法は、(a)少なくとも１種の電子ビーム活性ナノ粒子化合物と、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー材料とを含む組成物を準備する工程；(b)工程(a)の組成物から物品を成形する工程；および(c)工程(b)で成形した物品を電子ビーム源に曝す工程を含む。本発明には、耐摩耗性表面を有する物品に関する実施態様も含まれる。 （もっと読む）

【課題】横断面形状が無端リング状の長尺被照射物を偏平状態で搬送しながら該被照射物に電子線照射を施すにあたり、電子線照射に起因して被照射物内部に発生するガスを排除しながら電子線照射処理を施せる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】電子線照射装置本体１を設けた電子線照射室２及び該室内の電子線照射領域に長尺被照射物Ｗを偏平状態で張設して搬送するための電子線照射領域上流側及び下流側の案内部材３１、３２を有する電子線照射装置１０。被照射物Ｗ内に電子線照射により発生するガスＧを排出するガス排出装置４を有し、ガス排出装置４は、被照射物Ｗを両案内部材３１、３２の間の第１位置Ｐ１から上流側案内部材３１へ向け第２位置Ｐ２まで扱き部材（４１、４１）で扱くことで、ガスＧを案内部材３１よりさらに上流側の被照射物内へ押し出し排出する。 （もっと読む）

【課題】 有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。
【解決手段】 電子線照射システム及び電子線照射方法を、電子線照射を出射する電子線照射装置と、被照射物として有機材料を搬入・搬出するためのコンベアと、被照射物に対して第１の所定の範囲の温度に加熱して電子線照射を行う照射室と、照射室に接続し電子線照射後の被照射物を第２の所定の範囲の温度に加熱する揮発室とを有し、第１の所定の範囲の温度は電子線照射を受けた被照射物から放出する分解生成物の量が照射室の健全性を阻害する有意量とならない範囲の温度とし、第２の所定の範囲の温度は有機材料内に残留する分解生成物が放出される範囲の温度とするように構成した。 （もっと読む）

【課題】解決しようとする課題は、優れた耐酸化性と広範囲なイオン交換容量を有して燃料電池に適した固体高分子電解質膜の基材として有用な、架橋構造を有する含フッ素系高分子膜を安価に大量生産できるようにすることである。
【解決手段】本発明では、含フッ素系高分子膜基材を酸素不在下において結晶融点前後の温度で、且つ熱分解が進行しない温度で、電離放射線を照射して架橋するに際して、多数の発熱体要素に分割した発熱体を用いて、前記電離放射線の照射野内で照射による温度上昇を打ち消すように前記含フッ素系高分子膜基材を部分的に冷却して、大面積の含フッ素系高分子膜基材を照射野内の全ての位置にわたってかつ処理の全時間中にわたって常に予め定められた温度範囲に保った状態で電離放射線を照射できるようにしている。 （もっと読む）

ラジカル硬化可能な材料（１．８）におけるラジカル機構により進行する硬化を放射線により開始させるか、または開始させかつ維持して、ラジカル硬化可能な材料（１．８）を保護ガス雰囲気（１．４）下に硬化させるための方法であって、保護ガス雰囲気の側方流去を阻止する形式の方法において、（１） ラジカル硬化可能な材料（１．８）を、保護ガス雰囲気（１．４）中へ所定の深さ（１．４．２）よりも下にまで浸入させ、ただし該所定の深さを越えると、保護ガス雰囲気（１．４）がコンスタントにその最低酸素濃度を有しており、（２） ラジカル硬化可能な材料に保護ガス雰囲気内で前記所定の深さ（１．４．２）よりも下で放射線を照射し、この場合、複数の放射線源（１．５）のうちの少なくとも１つが、保護ガス／空気の境界面（１．４．１）よりも下方に配置されており、その後に（３） 得られた、硬化された材料（１．８）を再び保護ガス雰囲気（１．４）から浸出させることを特徴とする、ラジカル硬化可能な材料を保護ガス雰囲気下に硬化させるための方法および該方法を実施するための図１に示した装置（１）が見い出された。
（もっと読む）

本発明は、電子銃のための窓を形成する集束アノードを有する電子銃、ならびに照射および滅菌への該銃の応用に関する。前記銃は、電子放出面８を有するカソード６と、チャンバ壁の１つに形成された電子に対して透過性があるアノード４とを含む真空チャンバ２を含む。アノードは、チャンバの内部と外部の間の圧力差に耐えるために、湾曲している。また、放出面も、湾曲しており、アノードと協調して、チャンバの外部で電子を集束させる。
（もっと読む）