Array ( [0] => 高分子成形体の処理 [1] => 波動エネルギーによる処理 [2] => 紫外線による処理 ) 高分子成形体の処理 | 波動エネルギーによる処理 | 紫外線による処理
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【課題】ゴム・プラスチック表面に撥水性に優れた皮膜を容易にかつ安価に形成することができる撥水処理方法およびそのような方法を適用した撥水処理製品を提供する。
【解決手段】有機物添加剤を含有するゴム・プラスチック表面に撥水処理を施す方法であって、撥水処理すべき前記ゴム・プラスチックの表面に酸化チタン光触媒を付着させるとともに、該ゴム・プラスチック表面およびその近傍を加熱する工程と、前記酸化チタン光触媒を付着させたゴム・プラスチック表面に光を照射する工程と、前記光が照射されたゴム・プラスチック表面から前記酸化チタン光触媒を除去する工程とを有するゴム・プラスチック表面の撥水処理方法、およびそのようなゴム・プラスチック表面の撥水処理方法によって撥水処理が施されてなる撥水処理製品である。 (もっと読む)







【課題】従来のフッ素ガスで処理する方法に比べ生産性の高い簡便な方法で、紫外線透過性に優れる非晶性含フッ素樹脂を得ることができる非晶性含フッ素樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】非晶性含フッ素樹脂またはその成形体に紫外線を照射する処理を含む非晶性含フッ素樹脂の製造方法によって、紫外線透過性に優れる非晶性含フッ素樹脂またはその成形体を、従来のフッ素ガスで処理する方法に比べ生産性の高い簡便な方法で得ることができる。 (もっと読む)





【課題】平滑な絶縁基板との密着性が良好であり、微細な回路パターンを有するプリント配線板の製造に好適な表面導電性材料の製造方法、及び、平滑な絶縁基板との密着性に優れ、均一な表面導電性を有する導電性発現層を、製造性よく得られる表面導電性材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂を主成分とする基板表面に、光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基板結合部位とを有する化合物を結合させる工程と、前記基板表面に、分子内に重合性基を有する化合物を単体で、又は、溶媒に分散或いは溶解させた状態で接触させ、紫外線露光して、前記光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基板結合部位とを有する化合物からラジカルを発生させ、それを開始種として当該基板表面に結合してなるグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに導電性素材を付与する工程と、を有する表面導電性材料の製造方法。 (もっと読む)




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