Fターム[4F073CA45]の内容

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【課題】耐久性と電極との接合性とを両立することのできる高性能な高分子電解質膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線照射処理が施された炭化水素系固体高分子電解質膜であって、紫外線を照射する前後で、ATR法によるIR分析をした結果、吸収強度比I1685cm−1/I3500cm−1が紫外線照射前に対して10%以上変化した事を特徴とする炭化水素系固体高分子電解質膜。 (もっと読む)


【課題】 光配向膜を有する液晶表示パネルにおける光透過率の向上と残像の発生の抑制とを両立させる。
【解決手段】 アクティブ素子、画素電極、共通電極、および液晶層を有する画素がドットマトリクス状に配置された液晶表示パネルを有し、当該液晶表示パネルは、第1の基板、第2の基板、および前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された液晶層とを有し、前記第1の基板は、前記アクティブ素子、前記画素電極、前記共通電極、および第1の配向膜を有し、前記第2の基板は、第2の配向膜を有し、前記第1の配向膜および前記第2の配向膜は、それぞれ、光分解型の絶縁膜に光を照射して形成された光配向膜である液晶表示装置であって、前記第2の配向膜は、前記第1の配向膜よりも薄く、かつ、その厚さが10nm以上50nm以下である液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】近赤外の波長領域における一層辺りの反射帯域幅が広く、実質的に無色な重合体の提供。
【解決手段】420nmにおける透過率を550nmにおける透過率から減じた値が10%以下であり、実質的に無色であり、固定化されたコレステリック液晶相を有し、前記固定化されたコレステリック液晶相のピッチが、近赤外の波長領域において入射光の40%以上を反射する帯域が200nm以上となるように勾配を有する重合体。 (もっと読む)


【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位(A)と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位(B)とを含んだ樹脂(P)と、下記一般式(1−1)又は(1−2)により表される化合物(Q)とを含有している。


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【課題】高い導電性を示す導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法提供する。
【解決手段】導電性高分子と、該導電性高分子のドーパントとしてオニウム塩化合物とを含有する導電性組成物、当該組成物を成形してなる導電性膜、及び当該導電性膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】離型フィルムの基材フィルムと離型層との密着性、フッ素含有単量体の硬化被膜との離型性及び撥水撥油性に優れ、カールが抑制された離型フィルム並びに防汚性に優れた樹脂積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】四官能以上の(メタ)アクリレート(A1)、パーフルオロポリエーテル(メタ)アクリレート(B1)、有機溶剤(C1)並びに光重合開始剤(D1)を含有する紫外線硬化性組成物(1)を硬化させて得られる膜厚が0.2〜1.5μmの離型層をフィルム基材上に形成した離型フィルム並びにこの離型フィルムを使用した樹脂積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】柔軟性を有するシリコーンゴムを使用して、トナー離型性が優れた定着部材を提供すること。
【解決手段】離型剤を含むトナー粒子で形成されたトナー画像の定着に用いる定着部材であって、前記定着部材は、シロキサン結合を主鎖とするシリコーンゴムの表面に、離型剤に対するバリア層を有し、前記バリア層は1μm以下の深さの溝を有する、定着部材。 (もっと読む)


【課題】含有水素量を低下させた雰囲気中で有機基板の表面に紫外線を照射することで、紫外線照射後の有機基板の表面に対する導電膜の密着性を向上しつつ、導電膜の導電率の低下を防止する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板100が配置されるハウジング30内にドライエアボンベ34からドライエアを供給する。基板100の表面は、含有水素量が十分に少ないドライエアの雰囲気中で、照射窓21及びフィルタ28を介して紫外線ランプ22から紫外線の照射を受ける。 (もっと読む)


【課題】露光に対する感度の高い配向制御膜を提供する。
【解決手段】ポリイミドおよびポリイミドの前駆体からなり、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体および芳香族ジアミンを含み、光配向処理によって配向規制力が付与されていることを特徴とする配向制御膜。(但し、ZからZのうち少なくとも一つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子である。)
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【課題】ブロックコポリマーのミクロ相分離を利用して、少ない工程で、且つ安価にパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、基板上に高分子膜を形成し、前記高分子膜に対して選択的に第1および第2の条件でエネルギー線を照射することにより、前記高分子膜表面に、表面自由エネルギーの異なる第1および第2の領域を形成し、前記高分子膜上に、第1および第2のブロック鎖を含むブロックコポリマー層を形成し、前記ブロックコポリマーをミクロ相分離させることを特徴とするパターン形成方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】層形成ブレードへのトナー粒子の固着を長期に渡って抑制できるとともに、画像をきめ細かくできる電子写真機器用現像ロールを提供すること。
【解決手段】軸体12と、軸体12の外周に形成されたゴム弾性層14と、を備えた現像ロール10において、ゴム弾性層14の表面には、型転写により、径φに対する高さhの比(h/φ)が0.5以上の凸部16aが多数形成されており、多数の凸部16aが形成されたゴム弾性層14の表面には、さらに、トナー離型性を高める表面改質が施されている。 (もっと読む)


【課題】未加硫ゴム部材組立工程に必要な未加硫ゴム同士の密着力を確保する。
【解決手段】未加硫ゴム部材12の接合予定部位に赤外線のレーザー光Laを照射して表面の密着阻害物質(例えば、脂肪酸亜鉛、ワックス類等のブルーム)をエッチングにより除去する。密着阻害物質の除去された部分は、未加硫ゴム本来の粘着性が得られるため、未加硫ゴム部材組立工程に必要な未加硫ゴム同士の密着力を確保することができる。 (もっと読む)


【課題】処理条件を効率的に設定することができる表面改質処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物10を真空に保持する第1処理室4と、前記被処理物10の表面に紫外光を照射する第1紫外光照射部6とを有する表面改質処理装置1において、酸素を励起して処理ガスを生成するガス生成部3を備え、前記処理ガスを前記第1処理室4に供給する。前記ガス生成部3は、第2処理室25と、前記第2処理室25内に酸素を供給する第2酸素供給路27と、前記酸素に紫外光を照射する第2紫外光照射部26とを有し、前記第2処理室25と前記第1処理室4とは連通路30を介して連通されており、前記第2処理室25内で生成された前記処理ガスを前記第1処理室4内に供給するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】浴槽内壁面に皮脂などの油汚れが水のみで容易に洗い流せるとともに、底が滑りにくく入浴者が安全であるとともに、耐久性に富んだ浴槽及びその製造方法を提供する。
【解決手段】室内露出面が、親水部2と、この親水部2に囲まれて少なくとも浴槽底面11に島状に点在する多数の撥水部3aとを備える浴槽1aを、浴槽本体の少なくとも室内露出面側の面に塗布した光重合開始部が化学的に結合した高分子からなる下塗り層を形成するとともに、この下塗り層表面に親水基を有する反応性モノマーを接触させた状態で紫外線を照射し、前記下塗り層に反応性モノマーをグラフト重合させて浴槽本体の少なくとも室内露出面側の面全体を前記親水処理したのち、この親水処離面の撥水部となる部分の親水基を研磨によって除去して撥水部3aを形成し、親水処理面の残部を親水部2とした。 (もっと読む)


【課題】ポリイミド系フィルムの強度、平面性を維持しつつ、接着剤に対する接着性を向上でき、かつその接着性を高温下においても維持できるポリイミド系フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基と、芳香族ジアミン類の残基としてベンゾオキサゾール骨格を含むジアミン残基とを有するポリイミドを主成分とするポリイミドフィルムの表層に、反応性官能基を形成する工程と、前記反応性官能基に、極性官能基を有する化合物をグラフト重合処理により付加する工程とを含む、ポリイミド系フィルムの製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】 製造された基材の親水性が優れ、さらに、変色や強度低下が低減された親水性を有する部材とその製造方法を提供する
【解決手段】 ポリマーを含む基材にラジカルを生成し、ラジカルを生成した基材と親水性基を有する物質とを接触させ基材に親水性基を導入する、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】反応成分を含む反応ガスを活性化させて被処理フィルムを表面処理する際、反応成分を十分に反応させ、かつ電極に汚れが付着するのを防止する。
【解決手段】主処理部10の第1ロール電極11及び第2ロール電極12に被処理フィルム9を掛け回す。ロール電極11,12の回転により被処理フィルム9を電極11から電極12へ搬送する。電極11,12間の主放電空間19より搬送方向の上流側又は放電空間19内のフィルム19にノズル23から反応ガスを吹き付ける。主処理部10より搬送方向の下流に再活性化部30を設ける。好ましくは、再活性化部30の後段電極31を第2ロール電極12と対向させ、第2ロール電極12を再活性化部30の他方の後段電極として兼用する。反応成分を含まない放電生成ガスをガス供給部33から電極31,12間に供給する。 (もっと読む)


【課題】超撥水性領域と親水性領域の共存する表面を有する超撥水性/親水性パターン化膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 (1)エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物(A)と、該重合性化合物(A)の重合体ポリマー(P)とは相溶しない化合物(B)を含む重合性組成物(X)を調製し、該重合性組成物(X)の層を形成させ、エネルギー線を照射後、化合物(B)を除去して超撥水性膜(SH)とする工程α1、
(2)エネルギー線の照射により重合可能な、重合性化合物(C)を含む重合性組成物(Y)を調製し、該重合性組成物(Y)を前記超撥水性膜(SH)の表面の一部または全部に塗布し、エネルギー線を照射することにより重合性化合物(C)を重合させる工程β2、を順次行なう同一表面に超撥水性の領域と、親水性の領域とを有するパターン化膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】160℃における固有伝導度が0.001S/cm以上であるプロトン伝導性電解質膜を提供する。
【解決手段】ビニル含有スルホン酸とビニル含有ホスホン酸を含む液体中にポリマーフィルムを浸漬して該フィルムに該液体を含浸させて該フィルムを膨潤させるステップA)、及び、前記フィルム中に存在するビニル含有スルホン酸とビニル含有ホスホン酸を重合させるステップB)を含む方法による、160℃における固有伝導度が0.001S/cm以上であるプロトン伝導性電解質膜の製法。但し、前記膨潤用のフィルムはポリアゾールから製造され、前記膨潤用の液体はビニル含有ホスホン酸を20質量%以上含有し、前記膨潤用の液体中のビニル含有ホスホン酸のビニル含有スルホン酸に対する質量比は1:1以上であり、膨潤後のフィルムはビニル含有スルホン酸を10質量%含有する。 (もっと読む)


【課題】接着性と電気特性に優れたシンジオタクチックポリスチレン系樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】200℃、50kgf/cm、1分間で銅板に熱圧着したときの碁盤目剥離試験において、全マス数に対し剥離したマス数が20%以下であるシンジオタクチックポリスチレン系樹脂フィルム。 (もっと読む)


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