【課題】耐久性と電極との接合性とを両立することのできる高性能な高分子電解質膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線照射処理が施された炭化水素系固体高分子電解質膜であって、紫外線を照射する前後で、ＡＴＲ法によるＩＲ分析をした結果、吸収強度比Ｉ_{１６８５ｃｍ−１}／Ｉ_{３５００ｃｍ−１}が紫外線照射前に対して１０％以上変化した事を特徴とする炭化水素系固体高分子電解質膜。 （もっと読む）

【課題】 光配向膜を有する液晶表示パネルにおける光透過率の向上と残像の発生の抑制とを両立させる。
【解決手段】 アクティブ素子、画素電極、共通電極、および液晶層を有する画素がドットマトリクス状に配置された液晶表示パネルを有し、当該液晶表示パネルは、第１の基板、第２の基板、および前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された液晶層とを有し、前記第１の基板は、前記アクティブ素子、前記画素電極、前記共通電極、および第１の配向膜を有し、前記第２の基板は、第２の配向膜を有し、前記第１の配向膜および前記第２の配向膜は、それぞれ、光分解型の絶縁膜に光を照射して形成された光配向膜である液晶表示装置であって、前記第２の配向膜は、前記第１の配向膜よりも薄く、かつ、その厚さが１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】近赤外の波長領域における一層辺りの反射帯域幅が広く、実質的に無色な重合体の提供。
【解決手段】４２０ｎｍにおける透過率を５５０ｎｍにおける透過率から減じた値が１０％以下であり、実質的に無色であり、固定化されたコレステリック液晶相を有し、前記固定化されたコレステリック液晶相のピッチが、近赤外の波長領域において入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上となるように勾配を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１−１）又は（１−２）により表される化合物（Ｑ）とを含有している。


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【課題】離型フィルムの基材フィルムと離型層との密着性、フッ素含有単量体の硬化被膜との離型性及び撥水撥油性に優れ、カールが抑制された離型フィルム並びに防汚性に優れた樹脂積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】四官能以上の（メタ）アクリレート（Ａ１）、パーフルオロポリエーテル（メタ）アクリレート（Ｂ１）、有機溶剤（Ｃ１）並びに光重合開始剤（Ｄ１）を含有する紫外線硬化性組成物（１）を硬化させて得られる膜厚が０．２〜１．５μｍの離型層をフィルム基材上に形成した離型フィルム並びにこの離型フィルムを使用した樹脂積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い導電性を示す導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法提供する。
【解決手段】導電性高分子と、該導電性高分子のドーパントとしてオニウム塩化合物とを含有する導電性組成物、当該組成物を成形してなる導電性膜、及び当該導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】柔軟性を有するシリコーンゴムを使用して、トナー離型性が優れた定着部材を提供すること。
【解決手段】離型剤を含むトナー粒子で形成されたトナー画像の定着に用いる定着部材であって、前記定着部材は、シロキサン結合を主鎖とするシリコーンゴムの表面に、離型剤に対するバリア層を有し、前記バリア層は１μｍ以下の深さの溝を有する、定着部材。 （もっと読む）

【課題】含有水素量を低下させた雰囲気中で有機基板の表面に紫外線を照射することで、紫外線照射後の有機基板の表面に対する導電膜の密着性を向上しつつ、導電膜の導電率の低下を防止する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板１００が配置されるハウジング３０内にドライエアボンベ３４からドライエアを供給する。基板１００の表面は、含有水素量が十分に少ないドライエアの雰囲気中で、照射窓２１及びフィルタ２８を介して紫外線ランプ２２から紫外線の照射を受ける。 （もっと読む）

【課題】露光に対する感度の高い配向制御膜を提供する。
【解決手段】ポリイミドおよびポリイミドの前駆体からなり、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式（１）に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体および芳香族ジアミンを含み、光配向処理によって配向規制力が付与されていることを特徴とする配向制御膜。（但し、Ｚ^１からＺ^４のうち少なくとも一つは、−ＮＲ_２、−ＳＲ、−ＯＨ、−ＣＯＲ、−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯＯＲ、−ＣＮまたは−ＮＯ_２に示す置換基（Ｒはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数１から４のアルキル基、ｎは０から２の整数。）であり、その他は水素原子である。）
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【課題】ブロックコポリマーのミクロ相分離を利用して、少ない工程で、且つ安価にパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、基板上に高分子膜を形成し、前記高分子膜に対して選択的に第１および第２の条件でエネルギー線を照射することにより、前記高分子膜表面に、表面自由エネルギーの異なる第１および第２の領域を形成し、前記高分子膜上に、第１および第２のブロック鎖を含むブロックコポリマー層を形成し、前記ブロックコポリマーをミクロ相分離させることを特徴とするパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】層形成ブレードへのトナー粒子の固着を長期に渡って抑制できるとともに、画像をきめ細かくできる電子写真機器用現像ロールを提供すること。
【解決手段】軸体１２と、軸体１２の外周に形成されたゴム弾性層１４と、を備えた現像ロール１０において、ゴム弾性層１４の表面には、型転写により、径φ_１に対する高さｈの比（ｈ／φ_１）が０．５以上の凸部１６ａが多数形成されており、多数の凸部１６ａが形成されたゴム弾性層１４の表面には、さらに、トナー離型性を高める表面改質が施されている。 （もっと読む）

【課題】未加硫ゴム部材組立工程に必要な未加硫ゴム同士の密着力を確保する。
【解決手段】未加硫ゴム部材１２の接合予定部位に赤外線のレーザー光Ｌａを照射して表面の密着阻害物質（例えば、脂肪酸亜鉛、ワックス類等のブルーム）をエッチングにより除去する。密着阻害物質の除去された部分は、未加硫ゴム本来の粘着性が得られるため、未加硫ゴム部材組立工程に必要な未加硫ゴム同士の密着力を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】処理条件を効率的に設定することができる表面改質処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物１０を真空に保持する第１処理室４と、前記被処理物１０の表面に紫外光を照射する第１紫外光照射部６とを有する表面改質処理装置１において、酸素を励起して処理ガスを生成するガス生成部３を備え、前記処理ガスを前記第１処理室４に供給する。前記ガス生成部３は、第２処理室２５と、前記第２処理室２５内に酸素を供給する第２酸素供給路２７と、前記酸素に紫外光を照射する第２紫外光照射部２６とを有し、前記第２処理室２５と前記第１処理室４とは連通路３０を介して連通されており、前記第２処理室２５内で生成された前記処理ガスを前記第１処理室４内に供給するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】浴槽内壁面に皮脂などの油汚れが水のみで容易に洗い流せるとともに、底が滑りにくく入浴者が安全であるとともに、耐久性に富んだ浴槽及びその製造方法を提供する。
【解決手段】室内露出面が、親水部２と、この親水部２に囲まれて少なくとも浴槽底面１１に島状に点在する多数の撥水部３ａとを備える浴槽１ａを、浴槽本体の少なくとも室内露出面側の面に塗布した光重合開始部が化学的に結合した高分子からなる下塗り層を形成するとともに、この下塗り層表面に親水基を有する反応性モノマーを接触させた状態で紫外線を照射し、前記下塗り層に反応性モノマーをグラフト重合させて浴槽本体の少なくとも室内露出面側の面全体を前記親水処理したのち、この親水処離面の撥水部となる部分の親水基を研磨によって除去して撥水部３ａを形成し、親水処理面の残部を親水部２とした。 （もっと読む）

【課題】ポリイミド系フィルムの強度、平面性を維持しつつ、接着剤に対する接着性を向上でき、かつその接着性を高温下においても維持できるポリイミド系フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基と、芳香族ジアミン類の残基としてベンゾオキサゾール骨格を含むジアミン残基とを有するポリイミドを主成分とするポリイミドフィルムの表層に、反応性官能基を形成する工程と、前記反応性官能基に、極性官能基を有する化合物をグラフト重合処理により付加する工程とを含む、ポリイミド系フィルムの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】 製造された基材の親水性が優れ、さらに、変色や強度低下が低減された親水性を有する部材とその製造方法を提供する
【解決手段】 ポリマーを含む基材にラジカルを生成し、ラジカルを生成した基材と親水性基を有する物質とを接触させ基材に親水性基を導入する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反応成分を含む反応ガスを活性化させて被処理フィルムを表面処理する際、反応成分を十分に反応させ、かつ電極に汚れが付着するのを防止する。
【解決手段】主処理部１０の第１ロール電極１１及び第２ロール電極１２に被処理フィルム９を掛け回す。ロール電極１１，１２の回転により被処理フィルム９を電極１１から電極１２へ搬送する。電極１１，１２間の主放電空間１９より搬送方向の上流側又は放電空間１９内のフィルム１９にノズル２３から反応ガスを吹き付ける。主処理部１０より搬送方向の下流に再活性化部３０を設ける。好ましくは、再活性化部３０の後段電極３１を第２ロール電極１２と対向させ、第２ロール電極１２を再活性化部３０の他方の後段電極として兼用する。反応成分を含まない放電生成ガスをガス供給部３３から電極３１，１２間に供給する。 （もっと読む）

【課題】超撥水性領域と親水性領域の共存する表面を有する超撥水性／親水性パターン化膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 （１）エネルギー線の照射により重合可能な重合性化合物（Ａ）と、該重合性化合物（Ａ）の重合体ポリマー（Ｐ_Ａ）とは相溶しない化合物（Ｂ）を含む重合性組成物（Ｘ）を調製し、該重合性組成物（Ｘ）の層を形成させ、エネルギー線を照射後、化合物（Ｂ）を除去して超撥水性膜（ＳＨ）とする工程α１、
（２）エネルギー線の照射により重合可能な、重合性化合物（Ｃ）を含む重合性組成物（Ｙ）を調製し、該重合性組成物（Ｙ）を前記超撥水性膜（ＳＨ）の表面の一部または全部に塗布し、エネルギー線を照射することにより重合性化合物（Ｃ）を重合させる工程β２、を順次行なう同一表面に超撥水性の領域と、親水性の領域とを有するパターン化膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】１６０℃における固有伝導度が０．００１Ｓ／ｃｍ以上であるプロトン伝導性電解質膜を提供する。
【解決手段】ビニル含有スルホン酸とビニル含有ホスホン酸を含む液体中にポリマーフィルムを浸漬して該フィルムに該液体を含浸させて該フィルムを膨潤させるステップＡ）、及び、前記フィルム中に存在するビニル含有スルホン酸とビニル含有ホスホン酸を重合させるステップＢ）を含む方法による、１６０℃における固有伝導度が０．００１Ｓ／ｃｍ以上であるプロトン伝導性電解質膜の製法。但し、前記膨潤用のフィルムはポリアゾールから製造され、前記膨潤用の液体はビニル含有ホスホン酸を２０質量％以上含有し、前記膨潤用の液体中のビニル含有ホスホン酸のビニル含有スルホン酸に対する質量比は１：１以上であり、膨潤後のフィルムはビニル含有スルホン酸を１０質量％含有する。 （もっと読む）

【課題】接着性と電気特性に優れたシンジオタクチックポリスチレン系樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】２００℃、５０ｋｇｆ／ｃｍ^２、１分間で銅板に熱圧着したときの碁盤目剥離試験において、全マス数に対し剥離したマス数が２０％以下であるシンジオタクチックポリスチレン系樹脂フィルム。 （もっと読む）