本発明は、任意の微小な領域のみを構造制御する全く新しい薄膜の製造方法を提供することを目的とする。製膜途中または製膜後の膜全体または膜内の任意の部分について、その膜温度を非晶部のガラス転移温度以上に設定した上で、鋭利な先端形状を有する部材を用いて力を加えることにより、膜の構造を制御するようにした。本製造方法を実現する装置として、原子間力顕微鏡を用いることもできる。
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【課題】 レーザーアブレーションを利用した改質方法であるにも拘らず、改質処理されるべき基材を回転させたり平行移動させることなく固定配置した状態で、その表面を均一に改質させることが可能な基材の表面改質装置を提供すること。
【解決手段】 レーザー光３を発生するレーザー光発生装置２と、
表面に照射されたレーザー光３により飛散粒子を発生させるターゲット６と、
飛散粒子の付着により表面が改質される基材７と、
ターゲット６の表面上のレーザー光照射位置Ｐを支点にして、レーザー光３の入射方向Ｌ_１とターゲット６の表面の垂線方向Ｌ_２との間の角度θ_１を変化させるようにターゲット６を揺動させるターゲット揺動手段１０と、
を備えることを特徴とする基材の表面改質装置。 （もっと読む）

この出願の発明の微細加工方法は、熱によりガラス相転移を示しかつ熱収縮性を有する被加工プラスチック材料にパルスレーザー光を照射して、前記被加工プラスチック材料の表面もしくは内部にレーザー加工パターンを形成した後に、前記被加工プラスチック材料に対し、ガラス転移温度Ｔｇ以上の温度で加熱処理を行い、形成されたパターンを熱収縮により微細化することを特徴とする。 （もっと読む）

物理特性の制御、放射線吸収、および材料表面でのナノスコピックなガラス層のインサイチュ形成のために金属化されたおよび金属化されていないナノスコピックなケイ素含有試薬を用いる方法。ポリマー、金属、複合材料、セラミックス、ガラスおよび生物材料との設計可能な適合性のために、ナノスコピックなケイ素含有試薬は直接混合プロセスによりナノメートルレベルで材料に容易かつ選択的に組み込むことができる。改善される特性は、ガスおよび液体バリア、ステイン耐性、環境劣化に対する耐性、放射線吸収、接着、印刷性、時間依存の機械的および熱的特性たとえば加熱歪、クリーピング、圧縮変形、収縮、弾力性、硬さおよび磨耗耐性、電気的および熱的伝導性、および耐火性を含む。これらの材料は、飲料および食品パッケージング、宇宙生存材料、マイクロエレクトロニックパッケージング、および放射線吸収性塗料およびコーティングを含む多くの用途に有用に用いられる。 （もっと読む）