本発明は、ポリマー成形品の表面処理装置を提供する。動作において、ポリマー成形品は、製品装着及び解放ユニット（２０）に、ジグ（１１）によって保持され、そして製品送りユニット（１０）によって移送される。第１の不純物除去ユニット（３０）は製品の表面を清浄にする。製品は、入口真空ユニット（４０）を通り、製品表面のイオン処理ユニットに入る。イオン処理ユニットは、イオン電流を制御し、そして雰囲気ガス供給ユニット（６０）から供給されるガスを用いてプラズマカチオンを生成し、またプラズマイオンは製品の表面上で一様に走査される。表面処理済みの成形品は、第２の不純物除去ユニットを通り、製品装着及び解放ユニットに送られ、そこでジグは処理済の製品を新しい製品に交換する。 （もっと読む）

【課題】効率的に内周面処理を行なうことができるとともに内周面処理のばらつきを低減することができるチューブ状フィルム内周面処理装置およびチューブ状フィルム内周面処理方法を提供する。
【解決手段】棒状電極３と、所定の間隔をあけてそれぞれ互いに向かい合っており連結部材６によって連結されている第１台座１０および第２台座９と、第１台座に設置され第２台座の方向に突出した第１凸部１と、第２台座に設置され第１台座の方向に突出した第２凸部２とを含み、第１凸部には棒状電極が挿通可能な貫通孔が設けられており、棒状電極は第１凸部の貫通孔を通って第１凸部の突出方向に前進または第１凸部の突出方向と反対方向に後退する。 （もっと読む）

【課題】 複数種の材料で形成される有機高分子複合材料に対して連続グラフト重合方法を適用して強度等の物理特性に優れたグラフト材を得る方法を提供する。
【解決手段】 本発明の一態様は、複数種の材料で形成される有機高分子複合基材を連続的に放射線グラフト重合する方法であって、該基材に不活性雰囲気中で放射線を照射する工程と、照射済みの基材を不活性雰囲気中でグラフト重合する工程とを含み、照射工程とグラフト重合工程の間に、照射済みの基材をラジカル消去剤に接触させるか及び／又は加温するラジカル調整工程を行うことを特徴とする長尺有機高分子複合基材の連続放射線グラフト重合方法に関する。 （もっと読む）

【課題】レトルト食品や医薬品、さらには電子部材等の包装に好適に用いられるガスバリア性を有する包装材料、特にレトルト処理等において発生した熱水が作用しても当初のガスバリア性が低下しないようにしたことを特徴とする、熱水耐性を有するガスバリア性の包装材料の提供を目的とする。
【解決手段】プラスチック基材上に無機酸化物からなる蒸着薄膜層並びに水溶性高分子と１種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング溶液の薄膜を加熱乾燥してなるガスバリア性複合膜層とが少なくとも積層されてなるガスバリア性フィルムの、一方の面に位置する前記ガスバリア性複合膜層上には基材フィルムを、他方の面に位置する前記プラスチック基材上にはヒートシール性樹脂層をそれぞれ積層して設ける。 （もっと読む）

【課題】
現状では、壁厚が10μｍ以下の任意の壁厚に制御してSiCマイクロチューブを製造することが困難であり、工業的に量産されている直径15μｍのSiC繊維を、用途に適した任意の壁厚に制御して中空化することは不可能である。
【解決手段】
ケイ素系高分子繊維を冷却しながら電離放射線を照射することにより表面のみ酸化し、酸化部分を熱処理により架橋した後、有機溶媒により繊維中心部の未架橋部分を抽出して中空繊維とし、これを不活性ガス中で焼成して、壁厚（チューブの肉厚）SiCが2〜１０μｍの炭化ケイ素(SiC)マイクロチューブを製造する。 （もっと読む）

【課題】 シートの蛇行を防止し、ＰＴＦＥの改質を長尺に亘って製造できるふっ素樹脂シートの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 ふっ素樹脂シート９ａを加熱ゾーン１で加熱した後、照射ゾーン３で、そのシート９ａに電子線等を照射して改質し、これを冷却ゾーン５で冷却して巻き取るにおいて、改質後のシート９ｂを温度２８０〜３６０℃の下で加圧ロール７で加圧しながら冷却して巻き取ることで、蛇行がなく、しかもしわがないシートにすることができる。 （もっと読む）

本発明は、プラズマを用いて機能要素の化学的に官能化された表面および／または界面を製造する方法に関する。 （もっと読む）

大気圧グロー放電プラズマＡＰＧ（７）を発生させるための方法及び装置（１）であって、複数の電極（４，５）が配置され、この複数の電極（４，５）が前記プラズマ（７）を形成するための放電空間を規定する。電極（４，５）は、電源（８）に接続され、この電源（８）は、少なくとも５０ｋＨｚの周波数を有するＡＣ電圧を電極（４，５）に供給する。ガス状物質（６）は、前記放電空間に供給され、少なくとも、アルゴン、窒素、および空気より成る。
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無機または有機基材表面への紫外線吸収剤層の形成方法が記載されている。
その方法は、
ａ）低温プラズマ、コロナ放電または高エネルギー放射を、無機または有機基材表面に作用させ、
ｂ）処理された無機または有機基材に、少なくとも１種のフリーラジカル形成性開始剤と、１個以上のエチレン性不飽和基を含む少なくとも１種の紫外線吸収剤と、場合により、溶融物、溶液、懸濁液または乳濁液の形態で、少なくとも１種の相乗剤および／または少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物を適用し、
ｃ）被覆された基材を加熱するか、および／またはそれに電磁波を照射する、
ことを含む。
本発明はまた、その方法によって紫外線吸収剤層を付与された基材に関する。その方法は、実質的に、真空条件および過度な熱ストレスまたはエネルギーストレス、ならびにまた、紫外線吸収剤の分解を伴わない。良好に接着している、澄んだ、透明な紫外線吸収剤層が形成され、その特性、例えば光学濃度は、有利に調節可能である。 （もっと読む）

ラジカル硬化可能な材料（１．８）におけるラジカル機構により進行する硬化を放射線により開始させるか、または開始させかつ維持して、ラジカル硬化可能な材料（１．８）を保護ガス雰囲気（１．４）下に硬化させるための方法であって、保護ガス雰囲気の側方流去を阻止する形式の方法において、（１） ラジカル硬化可能な材料（１．８）を、保護ガス雰囲気（１．４）中へ所定の深さ（１．４．２）よりも下にまで浸入させ、ただし該所定の深さを越えると、保護ガス雰囲気（１．４）がコンスタントにその最低酸素濃度を有しており、（２） ラジカル硬化可能な材料に保護ガス雰囲気内で前記所定の深さ（１．４．２）よりも下で放射線を照射し、この場合、複数の放射線源（１．５）のうちの少なくとも１つが、保護ガス／空気の境界面（１．４．１）よりも下方に配置されており、その後に（３） 得られた、硬化された材料（１．８）を再び保護ガス雰囲気（１．４）から浸出させることを特徴とする、ラジカル硬化可能な材料を保護ガス雰囲気下に硬化させるための方法および該方法を実施するための図１に示した装置（１）が見い出された。
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α−トコフェロールによって安定化された、架橋超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷ−ＰＥ）が開示されている。このようなＵＨＭＷ−ＰＥは、架橋超高分子量ポリエチレンにα−トコフェロールを拡散させることにより得られる。α−トコフェロールを含む上記ＵＨＭＷ−ＰＥでできた成形体は、酸化に対する耐性が高い。したがって、上記成形体は、特に人工骨頭に適している。
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