説明

Fターム[4F073DA06]の内容

高分子成形体の処理 (12,894) | 気体と接触させる処理 (195) | NO2、NH3、SO2、NO (7)

Fターム[4F073DA06]に分類される特許

1 - 7 / 7


【課題】耐久性のある親水性、耐変色性及び防曇性に優れた天然あるいは合成樹脂成形品及びその処理方法を提供する。
【解決手段】スチレン系モノマーを構成成分として得られる共重合体(A)を用い形成された薄膜層を表面に有する天然あるいは合成樹脂成形品であり、その薄膜層が三酸化硫黄含有ガスにより該成形品表面がエネルギー分散型X線分光装置の測定での硫黄原子含有量が、0.05硫黄原子数%〜5.0硫黄原子数%となるように親水化処理されたものであることを特徴とする天然あるいは合成樹脂成形品。 (もっと読む)


【課題】高いpH値を持つために、金属材料と接触したとき金属の腐食の発生を減少させることの可能なフェノール樹脂発泡体を、容易にかつ効率よく製造できる方法の提供。
【解決手段】フェノール樹脂、発泡剤及び酸触媒を含む発泡性フェノール樹脂組成物を発泡、硬化させてフェノール樹脂発泡体を成形する方法において、上記発泡、硬化させて得られる成形体をアルカリ性揮発物の雰囲気下に養生することを特徴とするフェノール樹脂発泡体の製造方法による。 (もっと読む)


【課題】チューブ状フィルムの変形を抑止し、内周面処理のばらつきを抑えることができるチューブ状フィルム内周面処理装置および処理方法を提供する。
【解決手段】チューブ状フィルムの内周面で取り囲まれた空間内に棒状電極3を挿通し、棒状電極を挿通した状態でチューブ状フィルムを導電性液体中16に浸漬させ、棒状電極と導電性液体との間で発生させたプラズマによってチューブ状フィルムの内周面を処理するために用いられる装置であって、棒状電極と、チューブ状フィルムを支持するための支持体1と、空間内にガスを導入するためのガス導入路7,8と、空間内から排出されたガスを流すためのガス配管9と、ガス配管の一端を浸漬するための液体12を備えた圧力調整部38と、を含み、ガス配管の液体中への浸漬深さによって空間内の圧力を調整することができる処理装置とその処理装置を用いたチューブ状フィルム内周面処理方法である。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、水濡れ性、水溶出性、外観品質に優れた成形板を製造できる表面改質方法を提供することにある。
【解決手段】
本願発明は、樹脂を構成成分として含む樹脂組成物を成形して得られる樹脂成形板と、三酸化硫黄ガスを接触させ、該成形板表面を改質する方法において、工程1、工程2、工程3及び工程4を順次実施することを特徴とする三酸化硫黄ガスによる樹脂成形板の表面改質方法を提供するものである。(1)工程1;成形板のマスキング工程、(2)工程2;成形板を、三酸化硫黄ガスと接触させるための加温された処理容器内に挿入、固定した後、該容器内の水分除去工程、(3)工程3;成形板を、三酸化硫黄ガスと乾燥不活性ガスとの混合ガスに接触させる工程、(4)工程4;次いで、該樹脂成形板を洗浄する工程。 (もっと読む)


【課題】合成ステップが少なく、相対的に高い電気伝導度を有する電解質を低コストで製造することが可能な電解質膜の製造方法及びこのような方法により得られる電解質膜を提供すること。
【解決手段】高分子化合物からなる基材膜に放射線を照射する照射工程と、前記基材膜とSOガスとを反応させるSOガス反応工程と、前記基材膜と酸化剤とを反応させる酸化工程とを備えた電解質膜の製造方法、及び、これを用いて得られる電解質膜。 (もっと読む)


【課題】親水性が向上し科学的に安定である親水性基含有フルオロカーボンポリマー組成物が提供されることが望まれている。さらに、そのような組成物が、フルオロカーボンポリマー前駆物質から合成され、架橋されることが可能であることが望まれる。
【解決手段】式:−[R−T−CH−T−R”−T−CH−T−[R−の親水性官能基を有し、それぞれのR基を介して式:


のフルオロカーボンポリマー組成物のCYと共有結合している架橋フルオロカーボンポリマー組成物(Aは、フッ素含有重合性モノマー;nは0〜2の整数;mは1以上の整数;Yは水素又はフッ素であり;Tはカルボニルであり;Rはフルオロポリマー基であり親水性官能基を有する前記フルオロカーボンポリマー組成物の別の鎖と任意に結合する)。 (もっと読む)


【課題】レイアウトを容易にすることができると共に、プラズマ処理の均一化を充分に達成することができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明のプラズマ処理装置1は、第1のコンベア3および第2のコンベア4と、高周波電力が印加される上部電極部10と、該上部電極部10に対向するアース電極としての下部電極11とを備える。第1のコンベア3および第2のコンベア4は、ワーク2を上部電極部10および下部電極11の間の処理空間へ搬送し、ワーク2が上記処理空間を通過する際、高周波電界に発生したプラズマによってワーク2に所定のプラズマ処理が施される。 (もっと読む)


1 - 7 / 7