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Fターム[4F073EA01]の内容

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Fターム[4F073EA01]に分類される特許

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【課題】 より色むらが少なく、膜厚の均一な偏光フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤処理、染色処理、ホウ酸処理、水洗処理および乾燥処理の順に処理し、該処理工程のうちの少なくとも2処理工程においてフィルム搬送する2つのニップロール間に周速差を付与してフィルムを延伸して偏光フィルムを製造する方法において、ホウ酸処理工程でフィルムをホウ酸溶液に浸漬させる際に、ロールに非接触の状態で浸漬させ、フィルムを浸漬してからホウ酸溶液中で初めにロールに接触するまでの時間が0.4〜5秒であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】点欠陥のない面状の良好な偏光板の偏光板保護フィルムとして好適なセルロースアシレートフィルムを与える鹸化処理方法を提供する。
【解決手段】水酸化物イオン濃度とイオン強度が下記式(A)及び(B)を満たすアルカリ水溶液で処理するセルロースアシレートフィルムの鹸化方法。
0.05mol/L≦水酸化物イオン濃度≦5mol/L (A)
1.05≦イオン強度/水酸化物イオン濃度≦5.00 (B) (もっと読む)


【課題】有害な塩素を含まず、動摩擦係数が充分に低く、コーティング剤等との密着性に優れたゴム成形体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】ジエン系ゴムをゴム成分の主成分とするゴム成形体1である。ゴム成形体1は、その表面の少なくとも一部に、上記ジエン系ゴムが酸化されてなる酸化層2を有している。酸化層2における上記ジエン系ゴムはテトラヒドロフラン環を有している。また、ジエン系ゴムからなるゴム成形体1と、有機過酸を含有する酸化液とを接触させることにより、ゴム成形体1の表面に、13C−NMRスペクトルにおいて80ppm〜90ppmの範囲内に吸収ピークを有する酸化層2を形成させるゴム成形体の製造方法。 (もっと読む)


プロトン伝導性の官能基を含む側鎖でグラフト化されたフッ素を含まないポリマーをベースとしていて、そしてアノード(101)とカソード(103)の間に置かれた電解質膜(102)を含む少なくとも一つの膜-電極集成体を有するプロトン交換膜燃料電池(100)であって、アノード(101)は触媒とフッ素化イオノマーを含む触媒層を有する。触媒層は電解質膜(102)からアノード(101)の外表面に向かって増大するフッ素/触媒の比率を有する。 (もっと読む)


【課題】 メッキの密着強度の高いメッキ樹脂成形体の提供。
【解決手段】 (A)結晶融解熱量が10J/g以上のポリアミド系樹脂、(B)前記(A)のポリアミド系樹脂を除く熱可塑性樹脂(ポリフェニレンエーテル樹脂は除く)、及び(C)必要に応じて相溶化剤を含有する樹脂組成物からなり、少なくとも(A)成分の非晶質部分の一部が脱落した樹脂成形体の表面に形成された金属メッキ層を有するメッキ樹脂成形体であり、前記樹脂成形体がクロム及び/又はマンガンを含む酸によりエッチング処理されていないものであるメッキ樹脂成形体。 (もっと読む)


【課題】 安価な材料を用いてケイ素系重合体の表面をメタライズ処理するための表面処理方法を提供することである。また同様に任意の材料からなる基体表面をメタライズあるいは配線などの金属層のパターンを形成する方法を提供することである。
【解決手段】 ケイ素系重合体を遷移金属塩溶液あるいは遷移金属塩の懸濁液と接触させ、その後、該ケイ素系重合体を還元剤に接触させることにより、該ケイ素重合体上あるいはケイ素重合体中に遷移金属の微粒子を形成させることを特徴とするケイ素系重合体の表面処理方法である。 (もっと読む)


【課題】自動車部品等として使用し得る十分な性能を有する樹脂成形体に対して、めっき層の密着強度を充分高めることが可能なエッチング処理用組成物であって、現場での作業時の安全性や廃水による環境への影響を考慮した無電解めっき用のエッチング処理用組成物を提供する。
【解決手段】界面活性剤0.1〜10g/l、無機酸20〜600g/l及び有機酸0.1〜50g/lを含有する水溶液からなる、スチレン系樹脂及びポリアミド系樹脂を含む樹脂成分から形成される樹脂成形体用のエッチング処理用組成物。 (もっと読む)


【課題】多量の表面改質剤を使用することなく、硬化後の樹脂表面のへの塗布による適用が可能であって、しかも、改質性能の耐久性が良好であって、洗剤洗浄によっても改質性能が簡単に失われることはなく、樹脂表面の風合いを損うことなく平滑表面への適用もでき、耐溶剤性も良好な、簡便な手段としての樹脂表面の改質方法を提供する。
【解決手段】樹脂硬化物に対し浸透性のある溶剤に、改質剤を溶解もしくは分散させた溶液を、樹脂硬化物に含浸させる。 (もっと読む)


【課題】表面近傍の内部に金属微粒子が高濃度に浸透する新規なプラスチック構造体を提供すること。
【解決手段】プラスチック構造体は、パラジウム等の有機金属錯体やその変性物からなる金属元素202がプラスチック構造体4の所望部分の最表面より5nm以下の深さにおいては5atomic%以上存在している。そして、このプラスチック構造体4には、少なくともその金属元素202が存在する領域にアミド基が存在している。 (もっと読む)


本発明は、表面抵抗率が低く、さらに超純水で洗浄した後においても、従来品より表面抵抗率が低いディップ成形品に関する。本発明のディップ成形品は、20℃、相対湿度65%の雰囲気下で測定される表面抵抗率が10〜1010Ω/squareである。本発明のディップ成形品は、表面抵抗率が低いので、精密電子部品製造用および半導体部品製造用の手袋として好適に使用できる。 (もっと読む)


【課題】 イオン交換樹脂を高分子電解質に含む積層状の高分子アクチュエータ素子を完成後のアクチュエータ素子に適用できる屈曲率や変位性能を向上させるための処理方法を提供することである。
【解決手段】炭素数1〜5の有機化合物であって少なくともいずれかの末端の官能基がアミノ基、炭素数1〜5の有機化合物であって少なくともいずれかの末端の官能基がチオール基、炭素数3〜7の有機化合物であって少なくともいずれかの末端の官能基がカルボキシル基である有機化合物またはヒドラジンを、液体であればそのまま溶媒として、固体または水と相溶性のある液体の場合は水溶液として、前記高分子アクチュエータ素子を当該溶媒中または水溶液中に浸漬させる処理方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】 非粘着処理剤を良好に溶解することができ、かつ、パーフルオロエラストマーを膨潤させうる溶剤及びそれを用いた非粘着処理剤を提供する。
【解決手段】 Cn2n+1−O−Cm2m+1(式中、nは3〜7であり、Cn2n+1は直鎖であってもまたは分岐していてもよく、mは1〜2である)で示されるハイドロフルオロモノエーテル、及び、特定の有機溶剤からなるパーフルオロエラストマー用非粘着処理剤のための溶剤。 (もっと読む)


【課題】 光学的異方性が小さく、さらには光学的異方性の波長分散が小さいことから、偏光板の保護層として液晶表示装置に使用したときに、視野角特性に優れ、表示色味が変化しにくい高分子フィルムであって、更に液晶表示装置等の画像表示装置に好適に使用できるよう貼合性を制御した高分子フィルムを提供すること。
【解決手段】 正面レターデーション値Re(λ)および膜厚方向のレターデーション値Rth(λ)が、下記式(i)および(ii)を満たす高分子フィルムの少なくとも片側の面の表面エネルギーが50mN/m以上80mN/m以下とする。また、該高分子フィルムを用いた光学補償フィルム、偏光板などの光学材料および液晶表示装置とする。
(i)0≦Re(630)≦10かつ|Rth(630)|≦25
(ii)|Re(400)−Re(700)|≦10かつ|Rth(400)−Rth(700)|≦35
[式中、Re(λ)、Rth(λ)は波長λnmにおける測定値(単位:nm)である。] (もっと読む)


本発明は、シリコーンゴム製品を製造する方法に関する。同方法は、i)射出成形を用いたシリコーンゴム製品の成形、及びii)射出成形品の冷却、の段階を含み、ここで冷却は、射出成形品を反応装置中に挿入すること、及び10バール(10×10Pa)と50バール(50×10Pa)との間の圧力で二酸化炭素含有溶媒を用いて、射出成形品に抽出処理を施すことを含み、ここで、その製品は抽出段階において60℃より低い初期温度を有し、抽出時間の少なくとも一部分において、その製品は二酸化炭素が液状であるように25℃より低い温度及び圧力を有する。反応装置は、冷却の間、回転させることが好ましい。同方法は、低温及び低圧条件下においてシリコーン製品の高効率的かつ迅速な冷却方法を提供する。 (もっと読む)


本開示は、商業用途に好適な親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの改良された効率的かつ効果的な製造システムおよび製造方法と、それにより製造されて得られる商業用途に好適な親水性ポリエーテルスルホン・メンブランと、に関し、疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを準備する操作と、十分に低い表面張力を有する十分量の液体中で疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを予め湿潤させる操作と、湿潤状態の疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを十分量の酸化剤水溶液に暴露する操作と、暴露する操作の後、十分な温度で十分な時間の間疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを加熱する操作と、を含む親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの製造方法と、ゲル・ポリエーテルスルホン・メンブランを準備する操作と、ゲル・ポリエーテルスルホン・メンブランを十分量の酸化剤水溶液に暴露する操作と、暴露する操作の後、十分な温度で十分な時間の間疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを加熱する操作と、を含む親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの製造方法と、得られる生成物と、を包含する。 (もっと読む)


本発明は、真空蒸着および電子ビーム技術を用いて、物品が含むポリマー材料上にアミノ反応性官能基をグラフト化し、続いてそのポリマー材料をキトサン溶液と接触させることを含む、物品に抗菌性および臭気抑制性を付与する方法に関する。 (もっと読む)


医療用デバイスのぬれ性を改善するための方法は、以下:(a)モノマー混合物から形成された医療用デバイスを提供する工程であって、該モノマー混合物は、共重合可能な基および電子供与部分を含む親水性デバイス形成モノマーと、共重合可能な基および反応性官能基を含む第2のデバイス形成モノマーとを含む、工程;ならびに(b)該医療用デバイスの表面を、湿潤剤と接触させる工程であって、該湿潤剤は、該第2のレンズ形成モノマーによって提供される該官能基と反応性のプロトン供与部分を含み、該親水性レンズ形成モノマーによって提供される該電子供与部分と複合体化する、工程を包含する。 (もっと読む)


ポリマー基材の表面を改質するためのプロセスである。このプロセスには、少なくとも1種の光化学電子供与体を含む光反応性材料を、ポリマー基材の領域にデジタル的に塗布することと、その領域の少なくとも一部を化学線照射に暴露させることを含む。ポリマー基材の改質された表面は、1種または複数の追加の基材に接着させることができ、または、流体を用いてコーティングすることができる。
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以下の量および比率で以下の4つの酸および水を含有する混合酸浴中に、25〜35℃の範囲の温度で60分までの間、物品を浸漬することによる、後の処理、特にめっきおよび塗装のための表面を調製するためにポリアセタール物品がエッチングされる:28〜39重量%の硫酸、および25〜32重量%のリン酸、但し、硫酸のリン酸に対する重量比が0.9〜1.5の範囲であるもの、3〜10重量%の塩酸、および3〜14重量の酢酸、但し、塩酸の酢酸に対する重量比が0.25〜3.0の範囲であるもの、および5〜41重量%の水。このエッチング方法は、従来技術の方法よりも広い処理領域を有する。 (もっと読む)


【課題】 多大な不利益をもたらすプライマー処理を省き、更に、カットチューブ内はもちろんカットチューブ間でも均一な濡れ性ないし接着性が確保されたカットチューブ群を高生産性の下に提供することにある。
【解決手段】 フッ素系樹脂からなる長尺状チューブの脱フッ素化された内壁面に特殊な連続処理を施すことにより、長尺状チューブにおいて初めて“プライマーレス”を実現することに成功した。 (もっと読む)


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