Array ( [0] => 高分子成形体の処理 [1] => 調整、計量、制御 [2] => 圧力 ) 高分子成形体の処理 | 調整、計量、制御 | 圧力
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Fターム[4F073HA01]の内容

高分子成形体の処理 (12,894) | 調整、計量、制御 (626) | 圧力 (90)

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加圧 (32)
減圧、真空 (35)

Fターム[4F073HA01]に分類される特許

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【課題】処理対象物の外周面に、所定の処理を施しやすいマイクロ波プラズマ処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置1は、スリット300を有する筒状の内周壁部30と、内周壁部30の軸直方向外側に配置される筒状の外周壁部31と、内周壁部30と外周壁部31との間に区画される導波通路33と、内周壁部30の軸直方向内側に区画され、スリット300を介して導波通路33に連通し、処理対象物80の外周面800が配置される照射部34と、プラズマ生成用ガスをスリット300に供給するガス供給管35と、を備える。略大気圧条件下において、マイクロ波とプラズマ生成用ガスとをスリット300に通過させることにより、スリット300付近に高電界を形成し、照射部34にプラズマを生成し、プラズマにより外周面800に所定の処理を施す。 (もっと読む)














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