【課題】断熱材の有無にかかわらず、真っ直ぐな状態を形状記憶した架橋ポリエチレン管を容易に製造することができる架橋ポリエチレン管の製造方法及びこの製造方法に用いる架橋処理装置を提供することを目的としている。
【解決手段】処理槽１の槽本体１１内に、上下対となる２つ溝付きガイドローラ５１からなるローラ対５を槽本体１１の長手方向に所定ピッチで並べて管支持レーンＬを形成し、被処理管Ｐをこれらの対となるガイドローラ５１によってガイドしながら被処理管Ｐを管支持レーンＬに通して、槽本体１１内で被処理管Ｐの少なくとも未架橋管Ｐ１を長手方向にほぼ真っ直ぐな状態に支持しながら、未架橋管Ｐ１内に水蒸気を通して未架橋管Ｐ１を構成する未架橋ポリエチレンを熱水架橋するようにした。 （もっと読む）

【課題】処理液表面に浮遊する残渣物がチューブ状フィルムの内周面に付着することを防止して、内周面に処理むらが発生することを抑制することができるチューブ状フィルムの内面処理装置及び内面処理方法を提供する。
【解決手段】チューブ状フィルムの内面処理を行う内面処理装置であって、前記チューブ状フィルムの少なくとも一部を筒形状に維持した状態で内周面上に保持する円筒体を有する保持手段と、前記チューブ状フィルムの内面処理に用いられる処理液が貯留され、上部開口部を介して、前記円筒体に保持された前記チューブ状フィルムが浸漬される貯留槽と、前記貯留槽に貯留される処理液のうち表面近傍の処理液を該貯留槽の前記上部開口部からオーバーフローさせて流出させる処理液流出手段と、を備える内面処理装置。 （もっと読む）

【課題】構造材表面に短時間で耐久性に優れた親水性の微細凹凸面を形成する。
【解決手段】構造材７の表面に電子ビーム５を所定の照射ピッチで連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材７の表面改質方法において、前記電子ビーム５の照射電流／照射周波数比を０．０１５〜０．０８とする。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物等の基体に対して極めて平滑な膜を、薄膜から厚膜まで広い膜厚範囲で、マイクロ／ナノ領域に位置選択的に形成可能とした基体への膜形成法を用いた、マイクロ／ナノデバイスの作製のための基盤技術となるデバイス作製法を提供する。
【解決手段】予め改質が施された改質部分２ａを有する基体２上に、マスクを密着配置して、前記改質部分２ａを覆うように、気相中で膜６を位置選択的に形成する工程と、その後、前記改質部分２ａのみを化学エッチングする工程とを備える。これによって、基体２及び膜６からなるマイクロトンネル構造を得る。 （もっと読む）

【課題】大画面ディスプレイの泳動粒子として好適なエレクトレット性粗粉を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】フッ素含有樹脂シートに電子線又は放射線を照射することにより前記シートをエレクトレット化した後、前記シートを粉砕するエレクトレット性粗粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】セパレータの表面に高い親水性を付与すると共にこの親水性を長期間維持することができ、ガス供給排出用溝が水滴により閉塞されることを防いで燃料電池の高い発電効率を維持することができる燃料電池セパレータの製造方法を提供する。
【解決手段】燃料電池セパレータＡを製造するにあたり、エポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂、フェノール系化合物を含む硬化剤、及び黒鉛粒子を含有し、前記フェノール系化合物に対する前記エポキシ樹脂の当量比が０．８〜１．２の範囲である成形用組成物を成形する。得られた成形体の表面をＳＯ₃で処理する表面処理を施す。成形用組成物中にエポキシ樹脂とフェノール系化合物とを配合すると共にその配合比を調整するという非常に簡易な手法によって成形体１に水酸基を分布させ、これにより、表面処理時には、成形体１の表面にＳＯ₃が反応しやすくなる。 （もっと読む）

【課題】 電子線照射による架橋が可能であり、電子線照射で架橋されることにより、耐熱性および柔軟性のバランスが優れるほか、優れた熱収縮性を有する成形物を与える組成物を提供する。
【解決手段】 芳香族ビニル単量体単位を主要構成単位として含有する重合体ブロック、および共役ジエン単量体単位を主要構成単位として含有する重合体ブロックを有する特定のブロック共重合体の水素添加物であり、重量平均分子量が１５〜５０万であるブロック重合体Ａを１００重量部、４０℃における動粘度が５０〜１０００ｃＳｔである軟化剤Ｂを１０〜２５０重量部、および密度が８８０〜９４０ｋｇ／ｍ^３であるエチレン重合体Ｃを２０〜２００重量部含有する電子線架橋性エラストマー組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐薬品性、耐ガス透過性、耐吸湿性、伸縮性弾性および復元性に優れたシート、チューブやパイプ、ローラー、ベルトあるいはそれらが曲面状、凹凸状に変形している形状等に適するＰＴＦＥ系延伸多孔質成型体フッ素樹脂と、フッ素化ポリエーテルエラストマーとの複合体からなる加工成型物を提供する。
【解決手段】耐熱性・耐薬品性に優れながらも連続空孔部からガス透過性のある未焼成ＰＴＦＥ延伸多孔質成型体に、弾性変形可能・耐熱性・耐薬品性・耐ガス透過性、吸湿性に優れながらも成形加工性に劣るフッ素化ポリエーテルエラストマー成分をＰＴＦＥの多孔質部分に含浸・架橋させた弾性変形可能な複合体からなる成型物。（Ａ）微細空間構造を有する未焼成のＰＴＦＥ系フッ素樹脂に、（Ｂ）フッ素化ポリエーテル骨格と末端のシリコーン架橋反応基からなる未架橋のエラストマーを、含浸及び／又は積層し架橋させた加工成型物。 （もっと読む）

【課題】パーフルオロエラストマー製のＯリングの使用後の断面形状を、使用前の断面形状に回復させる方法を提供する。
【解決手段】Ｏリングの断面形状を使用前の断面形状に回復する方法は、断面形状が使用前の断面形状から変形した使用後のパーフルオロエラストマー製のＯリングを、２５℃以上、４００℃以下の範囲の温度と、大気圧より低圧の圧力下で、熱処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複雑な装置等を用いることなく、種々の形状のゴム製品の加硫度合いを、容易にかつ精度良く推定することのできる加硫ゴム製品の加硫度評価方法を提供する。
【解決手段】加硫工程後のゴム製品から所定形状の試験片を複数個採取し、その複数個の一部に予め決められた条件下で加熱処理を施した後、この加熱処理後の試験片と、上記加熱処理を行っていない残りの試験片とを、室温下でトルエンに所定時間浸漬し、浸漬後の膨潤度Ｓ（浸漬後の体積Ｖ_２／浸漬前の体積Ｖ_１）をそれぞれ測定するとともに、上記加熱処理を行っていない試験片の膨潤度（Ｓ_１）に対する上記加熱処理後の試験片の膨潤度（Ｓ_２）の変化率〔（（Ｓ_１−Ｓ_２）／Ｓ_１）×１００〕を求め、この膨潤度の変化率を基準にして加硫度合いを評価する。 （もっと読む）

【課題】有機化合物を用いて、比表面積の高いハニカム構造体を製造する方法を提供し、ひいては有機化合物を原料として用いて得られ、流体の処理性能に優れたハニカム構造体を提供する。
【解決手段】本発明のハニカム構造体は、フェノール類化合物及びアルデヒド類化合物を重合して得たゲル等の有機化合物、及び当該有機化合物が炭化された物質のうちの少なくとも一方を含んでなり、比表面積が１３００ｍ^２／ｇ以上である。また、本発明のハニカム構造体の製造方法は、有機化合物をハニカム状に成形してハニカム状有機化合物を得る成形工程と、上記ハニカム状有機化合物が有する細孔を増加させる細孔増加工程と、を含み、上記細孔増加工程が、上記ハニカム状有機化合物に対してガス賦活処理を行なうガス賦活処理工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 高温多湿の過酷な環境で剥離強度の維持が可能なポリイミドフィルムと金属箔との積層体を提供する。
【解決手段】 芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とを反応させて得られるポリイミドを主成分とするフィルムがイオンビーム処理されて表面構造が改質されたフィルムであって、該フィルムの表面積率が１．２以上、２．８以下である表面構造改質ポリイミドフィルムに、金属箔が積層されてなることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】 非接触で微細な削り作用による表面処理を選択的に行うことができ、特別な走査動作は必要なく一般的な手順により所定パターンの平滑面を容易に仕上げることができるフィルム状の対象物の表面処理方法を提供すること
【解決手段】 磁界発生源の永久磁石２０を研磨バイトの先端に設けて駆動手段へ連係させ、対象物１は支持台４の上に載せて支持し、永久磁石を非接触に対面させる。支持台４には表面に硬質部位（凸部４０）と非硬質部位（凹部４１）とを所定パターンに設ける。永久磁石に回転等の運動動作を行わせるとともに、対象物の表面を順次になぞっていく移動動作を行わせ、通常の一般的な走査動作を行う。永久磁石の近辺には磁気研磨液３を供給し、磁界により生じた磁気クラスタにより流体研磨を行う。硬質部位と非硬質部位とでは研磨の作用が相違し、表面処理を選択的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】炭化水素系重合体等からなるフィルムまたはシートの片面または片面ずつ逐次両面に制御された厚みでフッ化処理された層を形成すること。
【解決手段】炭化水素系重合体等からなるフィルムまたはシートの片面を回転するロールの表面に密着させて保護しつつフィルムまたはシートを搬送し、その間に保護されていない方の片面をフッ素ガスと不活性ガスとからなるガスに暴露してフッ化処理することにより、保護されていない方の片面にフッ化重合体層を形成させる。未処理面に同様なプロセスを行うことで炭化水素系重合体等からなるフィルムまたはシートの両面にそれぞれ独立に層厚制御されたフッ化重合体層を形成する。 （もっと読む）

本発明は形状記憶材料及び形状記憶材料における形状変化を制御する方法に関する。特に、本発明は形状記憶材料から複雑な形状を形成するための方法及びシステム、及び複雑な形状を有する形状記憶材料に関する。
（もっと読む）

【課題】フリーラジカルが減少し、好ましくは残留フリーラジカルを実質的に含まない放射線照射架橋ポリエチレンの提供。
【解決手段】本発明は、ポリエチレンを融点を下回る高温にて増感環境と接触させ、残留フリーラジカルの濃度を検出不可能なレベルまで減少させることによる放射線照射架橋ポリエチレンの製造方法が開示する。また、ポリエチレンをポリエチレンの融点を下回る温度で、所望により増感環境にて機械的に変形することによるフリーラジカル含量の減少した、好ましくは、残留フリーラジカルを実質的に含まない放射線照射架橋ポリエチレン組成物の製造方法も、本明細書に開示される。 （もっと読む）

【課題】樹脂を含有する成形体表面を損傷せずに表面を微細に粗面化し、とりわけ成形体が複合材である場合には、繊維を損傷させずに表層の樹脂層のみを微細に粗面化できる成形体の前処理方法を提供するとともに接着対象物又は塗膜との密着性に優れた、物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂を含む成形体の表面の少なくとも一部の面に、平均粒径が２００μｍ以下の粒子を投射する前処理工程を施す。前記前処理面に接着剤又は塗膜を塗布する。 （もっと読む）

シリコーンエラストマー等のエラストマー材料の表面にミクロ構造を導入する単純な方法を記載する。パターンは、シリコーンエラストマー膜上に保護ポリマーの微細液滴を形成し、ポリマーを硬化させ、その後、被覆されていない材料を化学エッチングによって除去することによって形成される。細胞接着性の研究結果から、処理された材料は、未処理の対照に比べて有意に改良された生体適合性を有することが示される。
（もっと読む）

自家蛍光がより少なく、特異性がより良好なプラスチック基質の製造方法が提供される。上記方法は、（ａ）５０μｍ×５０μｍ以下の条件下で、Ｒ_ａ３ｎｍ未満またはＲ_ｑ４ｎｍ未満の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）表面粗さを有するプラスチック基質を調製する工程；（ｂ）前記プラスチック基質をプラズマで処理する工程；および（ｃ）前記プラスチック基質を表面修飾モノマーで処理する工程を含む。また、上記方法により製造されるプラスチック基質も提供される。上記プラスチック基質は、自家蛍光が顕著に低く、よって標的生体分子の検出に対するよりよい特異性を示す。このことにより、微小流体構造を含ませる設計がガラス基質に比して容易でありながら、高い自家蛍光のために、マイクロアレイ、バイオチップまたはウェルプレートへの利用が限られていたプラスチック基質を、広範に適用することが可能となる。更に、上記プラスチック基質の製造方法は、プラスチック基質の表面特異性を向上することができ、またプラスチック基質の表面特性を容易に調節することができる。 （もっと読む）

【課題】
固体高分子型セルの構成部材である固体高分子電解質膜の寸法を安定化する方法を提供すること。それによって、電解質膜やＭＥＡに設ける開口部のピッチのずれを防ぎ、使用中に電解質膜にシワが生じることを防止して、セル・スタックの組み立て、保管、輸送を容易にするとともに、流路の狭隘化および閉塞を生じさせないことであり、ひいては、安定で信頼性の高い固体高分子型セルの製造を可能とすること。
【解決手段】
固体高分子電解質膜を、純水、希酸溶液またはアルカリ溶液に浸漬した状態で、１００℃以下であるがその固体高分子電解質膜の使用温度を超える温度に加熱処理することによって固体高分子電解質膜を膨張するだけ膨張させる。希酸またはアルカリの溶液で処理した場合には、処理に続いて純水で洗浄する。どちらの場合も、使用の時点まで、処理終了時の温度以下の温度において湿潤状態を維持する。 （もっと読む）