【課題】耐久性と電極との接合性とを両立することのできる高性能な高分子電解質膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】紫外線照射処理が施された炭化水素系固体高分子電解質膜であって、紫外線を照射する前後で、ＡＴＲ法によるＩＲ分析をした結果、吸収強度比Ｉ_{１６８５ｃｍ−１}／Ｉ_{３５００ｃｍ−１}が紫外線照射前に対して１０％以上変化した事を特徴とする炭化水素系固体高分子電解質膜。 （もっと読む）

【課題】 光配向膜を有する液晶表示パネルにおける光透過率の向上と残像の発生の抑制とを両立させる。
【解決手段】 アクティブ素子、画素電極、共通電極、および液晶層を有する画素がドットマトリクス状に配置された液晶表示パネルを有し、当該液晶表示パネルは、第１の基板、第２の基板、および前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された液晶層とを有し、前記第１の基板は、前記アクティブ素子、前記画素電極、前記共通電極、および第１の配向膜を有し、前記第２の基板は、第２の配向膜を有し、前記第１の配向膜および前記第２の配向膜は、それぞれ、光分解型の絶縁膜に光を照射して形成された光配向膜である液晶表示装置であって、前記第２の配向膜は、前記第１の配向膜よりも薄く、かつ、その厚さが１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】近赤外の波長領域における一層辺りの反射帯域幅が広く、実質的に無色な重合体の提供。
【解決手段】４２０ｎｍにおける透過率を５５０ｎｍにおける透過率から減じた値が１０％以下であり、実質的に無色であり、固定化されたコレステリック液晶相を有し、前記固定化されたコレステリック液晶相のピッチが、近赤外の波長領域において入射光の４０％以上を反射する帯域が２００ｎｍ以上となるように勾配を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】放電の安定化と、安定した処理ガス供給を両立する、シート表面に十分な改質効果を与えるシートのプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】放電電極２３と該放電電極に対向して配置される対極電極１１とを有し、前記放電電極と前記対極電極の間を、前記対極電極に密着して連続的に走行するシート２１が通過するシート走行路、および前記シート走行路へガスを供給するガス供給手段２０を有するプラズマ処理装置において、前記放電電極２３および前記ガス供給手段２０が、シート走行方向に沿って交互に配置され、かつ、前記シートの幅方向に延在した構造を有し、また、前記ガス供給手段２０が、該ガス供給手段の前記対極電極１１側の領域に前記ガスを供給する開口部４４を有し、該開口部４４が、前記放電電極の前記対極電極１１から最も離れた面よりも、前記対極電極１１に近い位置に配置された構造を有する、シートのプラズマ処理装置。 （もっと読む）

【課題】生体分子が親和的かつ特異的に結合する均一なプラズマ重合表面であって、さらに化学的もしくは物理的特性が多様な表面を提供する。
【解決手段】単量体源から少なくとも１種のプラズマ単量体を前記表面に付着させるが、前記単量体を付着させている間、前記単量体および／または前記表面を互いと相対的に動かすことで不均一プラズマ重合表面を生じさせ、そして前記プラズマ重合表面の少なくとも一部に結合体を導入することで前記結合体が不均一表面を形成するようにすることを含んで成る。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーのミクロ相分離を利用して、少ない工程で、且つ安価にパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、基板上に高分子膜を形成し、前記高分子膜に対して選択的に第１および第２の条件でエネルギー線を照射することにより、前記高分子膜表面に、表面自由エネルギーの異なる第１および第２の領域を形成し、前記高分子膜上に、第１および第２のブロック鎖を含むブロックコポリマー層を形成し、前記ブロックコポリマーをミクロ相分離させることを特徴とするパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】加工時や廃棄時に環境負荷が少なく、かつ安価に製造でき、多孔質材料にも適用可能な高撥水撥油樹脂部材の製造方法それを用いて製造される高撥水撥油部材及びそれらを用いた高撥水撥油部材を提供する。
【解決手段】高撥水撥油樹脂部材１０は、フッ素原子の一部又は全部がフッ素原子及びフッ化炭素基１４のいずれか一方又は双方で置換された炭化水素基１１を基材１２の表面に有する。高撥水撥油樹脂部材１０は、フッ化炭素基を含む化合物のガス雰囲気中で、樹脂材料１２の表面を低圧プラズマ処理することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物等の基体に対して極めて平滑な膜を、薄膜から厚膜まで広い膜厚範囲で、マイクロ／ナノ領域に位置選択的に形成可能とした基体への膜形成法を用いた、マイクロ／ナノデバイスの作製のための基盤技術となるデバイス作製法を提供する。
【解決手段】予め改質が施された改質部分２ａを有する基体２上に、マスクを密着配置して、前記改質部分２ａを覆うように、気相中で膜６を位置選択的に形成する工程と、その後、前記改質部分２ａのみを化学エッチングする工程とを備える。これによって、基体２及び膜６からなるマイクロトンネル構造を得る。 （もっと読む）

【課題】食品の包装としての使用のためのフィルムに関連し、とりわけ、調理される又は、別の方法でケーシング中で加熱される食品用のチューブ状（tubular）食品ケーシングの提供。
【解決手段】少なくとも部分的にその中に吸収した液体を有するフィルムに関し、ここで該液体は該フィルムの表面に塗布され、該液体の該表面への塗布前に、該表面が少なくとも約５０ダインの表面エネルギーを有するように表面活性化処理に供される。 （もっと読む）

【課題】 硬化物の硬度が高く、分散安定性に優れた分散体を提供すること、更に当該特性を有する分散体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 表面処理された無機粒子（Ａ）が反応性分散剤に分散された分散体において、
１）表面処理された無機粒子（Ａ）が、（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｂ）で無機粒子（ｂ１）を表面処理することにより得られたものであり、
２）反応性分散剤が、エポキシ基を有する（メタ）アクリル重合体に、（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を有する単量体を付加反応させてなる反応生成物、又はカルボキシル基を有する（メタ）アクリル重合体に（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基を有する単量体を付加反応させてなる反応生成物であって、（メタ）アクリロイル当量が２００〜６００で、水酸基価が９０〜２８０ｍｇ／ＫＯＨであることを特徴とする分散体の提供による。 （もっと読む）

【課題】太陽電池モジュールを製造する際の隙間埋め性及び耐クリープ性のバランスに優れた樹脂封止シートを提供すること。
【解決手段】樹脂を軟化させて密着させる樹脂封止シートであって、
前記樹脂封止シートを構成する樹脂中に電離性放射線架橋型樹脂を含有し、シート厚さ方向に沿ってゲル分率が変化（傾斜）した構造を有する樹脂封止シート。 （もっと読む）

【課題】電子線照射後の黄変が抑制された、且つ耐衝撃性や耐候性を改善した電子線照射用アクリル系樹脂フィルムの提供。
【解決手段】アクリル系ゴム粒子を含む(メタ)アクリル系樹脂、および紫外線吸収剤としてトリアジン化合物を含むアクリル系樹脂組成物を成形してなる電子線照射用アクリル系樹脂フィルム。アクリル系ゴム粒子（ａ）が、アクリル酸エステル５０〜９９．９重量％、共重合可能な他のビニル系単量体０〜４９．９重量％および共重合可能な１分子当たり２個以上の非共役二重結合を有する多官能性単量体０．１〜１０重量％からなる単量体混合物（ａ−１）を重合してなる少なくとも一層のアクリル酸エステル系架橋弾性体５〜８５重量部の存在下に、メタクリル酸アルキルエステル５０〜１００重量％および共重合可能な他のビニル系単量体０〜５０重量％からなる単量体混合物（ａ−２）を９５〜１５重量部共重合してなる。 （もっと読む）

【課題】マトリックス樹脂がポリイミド材料からなる繊維強化ポリイミド材料において、一旦成形した後に、その機械的強度を向上させることを特徴とする繊維強化ポリイミド材料の製造方法を提案すること。
【解決手段】マトリックス樹脂がポリイミド材料からなる繊維強化ポリイミド材料に電子線を照射することによって、機械的強度が向上した繊維強化ポリイミド材料を得ることを特徴とする繊維強化ポリイミド材料の製造方法。好ましくは、電子線の照射線量が０．０１〜１ＭＧｙであり、マトリックス樹脂が付加型ポリイミド前駆体によって形成されたポリイミド材料であり、付加型ポリイミド前駆体が、付加反応基としてフェニルエチニル基を含む。 （もっと読む）

【課題】鉛フリーハンダを使用したハンダリフローに使用可能な高い耐熱性、光学部材として使用できる高い透明性を併せ持ち、かつ生産が容易な透明樹脂成形体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】フッ素樹脂からなる樹脂組成物の成形体であって、前記フッ素樹脂の融点未満の温度雰囲気で１回以上の電離放射線の照射、及び、前記フッ素樹脂の融点以上の温度雰囲気で１回以上の電離放射線の照射により前記樹脂組成物が架橋されていることを特徴とする透明樹脂成形体及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】継続的な応力の作用に伴い、ポリアミド系樹脂製の保持フレームに残留歪みが生じて変形するのを抑制し、保持フレームをリユース等することのできる基板用保持フレームの製造方法を提供する。
【解決手段】中空の保持フレーム１内に半導体ウェーハを収容する基板用保持フレームの製法であり、保持フレーム１を、少なくともポリアミド系樹脂を含む成形材料により成形し、その後、樹脂製の保持フレーム１に電子線を照射するとともに、この電子線の照射量を、保持フレーム１に対する電子線の照射深さ１０ｍｍ当たり１０〜５０ｋＧｙとする。保持フレーム１に電子線を照射してポリアミド系樹脂の架橋密度を調整し、ポリアミド系樹脂の特性を改善して形状回復能力を向上させるので、保持フレーム１に残留歪みが生じて永久変形するのを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】
樹脂基材上に、他の層を介在させることなく、樹脂基材との密着性が良好で耐久性に優れる、極めて薄い厚みの改質層を形成する樹脂表面改質方法、及び、この方法により得られる表面改質樹脂基材を提供する。
【解決手段】
水蒸気を含む不活性ガス雰囲気下で、樹脂基材表面に、２４３ｎｍ以下の波長の紫外線を照射した後、前記樹脂基材表面に、式（１）
【化１】


（Ｘはアルコキシル基、イソシアネート基又はハロゲン原子を、Ｒは置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基を、ｎは１〜４の整数を表す。ｎが２以上のとき、複数のＸは同一でも相異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき、複数のＲは同一でも相異なっていてもよい）で示される化合物を用いてなる改質層を形成する樹脂表面改質方法、並びにこの方法により、樹脂基材表面に改質層が形成されてなる表面改質樹脂基材。 （もっと読む）

【課題】高面圧下で優れた耐摩耗性及び低摩擦性を有する改質ふっ素樹脂組成物及び成形体を提供する。
【解決手段】ふっ素樹脂と芳香族エンジニアリングプラスチックとが配合されてなり、これを電離性放射線を用いて改質したものである。前記芳香族エンジニアリングプラスチックが、芳香族ポリエステル、芳香族ポリアミド、芳香族エステルイミド、芳香族ポリアミドイミドあるいはポリイミドから選ばれ、前記ふっ素樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン−フルオロアルコキシトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンのいずれか１種類以上を含むものである。 （もっと読む）

【課題】従来の熱硬化性樹脂ベルトやゴム積層ベルトよりもコスト面でより好ましい方式である押出成形により製造された導電性シームレスベルトであって、耐久性、耐ローラ癖性、弾性率の３つの性能がいずれも優れた導電性シームレスベルトを提供する。
【解決手段】ポリアルキレンテレフタレート及び／又はポリアルキレンナフタレートを主成分とし、ポリエステルエラストマーを含む熱可塑性ポリマー成分と、導電剤とを加熱混合してなる成形材料を押出成形して得られるシームレスベルトに、電子線を照射してなる導電性シームレスベルトであって、電子線シームレスベルトするシームレスベルトのガラス転移温度が０℃以上６０℃以下であり、該照射に、１回あたりの照射線量５０ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ以下の条件で合計５００ｋＧｙ以上１５００ｋＧｙ以下の電子線を照射したことを特徴とする導電性シームレスベルト。 （もっと読む）

【課題】 撥水性に優れる撥水層を、真空排気やガス置換等を行うことなく、簡易な条件および装置で製造することができる撥水層の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の撥水層の製造方法は、フッ素を含有する撥水層の製造方法であって、大気圧下、フッ素原子および水素原子を含むガス、ならびに不活性ガスを含むガス中において、プラズマ放電処理により、フッ素含有層を形成するフッ素含有層形成工程と、前記フッ素含有層の表面に溶剤を接触させる溶剤処理工程とを含み、前記フッ素含有層形成工程の前記ガス中の前記フッ素原子数（Ｘ）および前記水素原子数（Ｙ）の割合（Ｘ／Ｙ）が、８以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブラダーを使用して加硫成形を行う際にタイヤ内面に離型剤を塗布しなくてもエア溜まりやフィルム破損が生じることのない空気入りタイヤ、および該空気入りタイヤの製造方法を提供する。
【解決手段】内面が、５０〜６００ｋＧｙの照射量で電子線を照射したフィルム層または弾性率２０〜１０００ＭＰａのフィルム層からなることを特徴とする、空気入りタイヤである。この空気入りタイヤは、フィルム層がジエン系成分を含まないことが好ましい。また、フィルム層を未加硫タイヤの内面に配置した状態でブラダーを用いて加硫成形を行う工程を含む空気入りタイヤの製造方法である。 （もっと読む）