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Fターム[4F100AA33]の内容

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【課題】重荷重で打点特性および耐屈曲性に優れる透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】可撓性透明基材1上に、結晶性のインジウム・スズ複合酸化物からなる透明導電層3が形成されており、透明導電層の圧縮残留応力が0.4〜2GPaである透明導電性フィルム。透明導電層3は、非晶質のインジウム・スズ複合酸化物からなる非晶質透明導電層を加熱することにより得られうる。加熱の際には透明導電層に圧縮応力が付与されることが好ましい。また、加熱による透明導電層の寸法変化は、少なくとも面内の一方向において−0.3%〜−1.5%であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】透明導電膜を保護し、さらに透明導電膜の保護だけでなく、透明導電膜を保護することで新たに発生した不具合も防止する。
【解決手段】電子部品素子1では、基板2と、この基板2上に形成されたITO膜3と、このITO膜3上に形成され前記ITO膜3の表面を保護する保護膜4とが設けられている。保護膜4は、少なくとも、SiOx膜41と、Nを含むSi化合物からなるSiN膜12とからなり、ITO膜3上にSiN膜42、SiOx膜41の順に積層形成されて構成される。 (もっと読む)


【課題】調湿性、フレキシブル性、かつ、高度の難燃性を有する難燃部材を提供する。
【解決手段】調湿性難燃ポリマー部材は、ポリマー層B、難燃層A、調湿層Lをこの順に含む調湿性難燃ポリマー部材であって、該難燃層Aはポリマー中に層状無機系化合物を含有する層である。調湿層はシリカ、アルミナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカアルミナ複合酸化物、ゼオライト、活性炭等の多孔性物質を含む層であり、厚みが0.1〜100μmであるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】テント構造物用膜材に適して用いられ、採光性、遮熱性と断熱性とを兼備する薄型の日射熱制御膜材の提供。
【解決手段】断熱樹脂層と、その一面上に赤外線反射樹脂層を設けた可撓性積層体として、断熱樹脂層を、熱可塑性樹脂組成物からなる充実部と、気泡粒と殻壁粒子とからなる非充実部とで構成し、非充実部は気泡粒と殻壁粒子による90:10〜50:50混成体積比率とし、断熱樹脂層の体積に対する非充実部の占有総和を20〜50体積%とし、さらに気泡粒の内壁表面に殻壁粒子の表面の一部を露出するように構成する。 (もっと読む)


【課題】光線透過率が高く維持されるとともに、表面抵抗率が低く、導電性に優れた透明電極基板、その製造方法、該透明電極基板を有する電子デバイス及び太陽電池を提供すること。
【解決手段】透明基材の一方の面に、導電性金属メッシュ層を埋設した透明導電層が積層されてなる透明電極基板、透明基材の一方の面に第1の透明導電層を形成させ、同透明導電層上に導電性金属層を形成させ、同導電性金属層をフォットレジストパターニング処理することにより導電性金属メッシュ層を形成させ、同金属メッシュ層の面に第2の透明導電層を形成させて同導電性金属メッシュ層を同透明導電層により被覆することを特徴とする透明電極基板の製造方法、同透明電極基板を有する電子デバイスならびに太陽電池である。 (もっと読む)


【課題】 優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の形成方
法を提供する。
【解決手段】 本発明の酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法は、スパッタリング法により酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法であって、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である酸化物焼結体または酸化物混合体を加工して得られるターゲットを用いる方法である。この形成方法により成膜された透明導電膜は、該透明導電膜中に含まれる亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ti/(Zn+Ti)が0.02を超え0.1以下である。 (もっと読む)


【課題】透明導電層形成面同士が対向配置されたタッチパネルに用いた場合においても、キズが生じ難い透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明導電性フィルム100は、透明フィルム基材1、透明フィルム基材の第1の主面上に形成された少なくとも1層の誘電体層2、および誘電体層上に形成された透明導電層3を有する透明導電性を有する。透明導電層3はパターン化されており、透明導電層が形成されていないパターン開口部において、透明導電性フィルムの第1の主面側の表面は、算術平均粗さRaが22nm以上であり、かつ高さ250nm以上の突起を140個/mm以上有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 鋼板一体型太陽電池モジュールの基板に適したフッ素系樹脂被覆鋼板、および、絶縁性、耐食性(耐候性)、加工性に優れ、かつ密着性にも優れた鋼板一体型太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】 亜鉛系めっき鋼板の少なくとも一方の表面に、樹脂成分と10質量%以上65質量%以下の防錆顔料とを含み、厚みが1μm超20μm以下である防錆プライマー層と、その上層に厚みが15μm以上250μm以下で、前記防錆プライマー層側の面の上に、両面がコロナ放電処理されてなるフッ素系樹脂被覆層を有するフッ素系樹脂被覆鋼板とする。また、該フッ素系樹脂被覆鋼板のフッ素系樹脂被覆層とシート型太陽電池モジュールの下面部分とを接着して、鋼板一体型太陽電池モジュールとする。 (もっと読む)


【課題】高効率の熱遮断性と、熱割れ防止性を両立させ、さらには、製造コストが安く、大面積化が可能であり、柔軟性があり、かつ低ヘイズで可視光透過率が高い熱線遮断フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする熱線遮断フィルム。 (もっと読む)


【課題】各種電子機器に用いられるタッチパネルに関し、背面の表示素子の表示が見易く、操作の行い易いものを提供することを目的とする。
【解決手段】上基板1上面または下基板8下面の少なくとも一方の表層部を、酸化錫等の微粒子9Aが多く分散された錫リッチ層9に形成することによって、上基板1や下基板8にガラスを用いた場合でも、錫リッチ層9によって基板内方のナトリウムやカルシウム等の白化を防ぐことができるため、背面の表示素子の視認性を損なうことがなく、表示が見易く操作の行い易いタッチパネルを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】プラスチックフィルムの表面粗さに左右されることなく、所望の水蒸気バリア性を確保できるバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】上記バリアフィルムは、プラスチックフィルムで形成された基材11と、基材11の上に形成された紫外線硬化樹脂からなる下地層12と、下地層12の上にスパッタ法で形成されたSi−Cr−Zr系酸化物からなるバリア層13とを具備する。下地層12は、基材11の表面平坦度の改善を目的として形成され、バリア層13による基材表面の被覆性を高める。これにより、バリア層13の膜質が高まり、所望の水蒸気バリア性を確保することができる。 (もっと読む)


【課題】水酸化マグネシウムを高充填させても粘度の増加が起こらない、難燃性およびハンドリング性に優れた熱硬化性樹脂組成物を提供すること、さらに、この組成物から樹脂絶縁層が形成された金属張積層板およびプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)1分子中にエステル基と2つ以上の不飽和二重結合とを有するラジカル重合性化合物と、(B)1分子中に2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、(C)ケイ素化合物及びアルミニウム化合物の一方または両方からなる被覆層を表面に有する水酸化マグネシウムとを含有することを特徴とする、熱硬化性樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】結晶化時間を短縮化することができる透明導電性薄膜を有する透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の少なくとも一方の面に、少なくとも2層の透明導電性薄膜からなる透明導電性薄膜積層体を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電性薄膜は、いずれも、酸化インジウムまたは4価金属元素の酸化物を含有するインジウム系複合酸化物の結晶質膜であり、前記透明導電性薄膜積層体の表面の側に、酸化インジウムまたは4価金属元素の酸化物の割合が0を超え6重量%以下の第一の透明導電性薄膜(21)を有し、前記透明導電性薄膜積層体の表面の側から第一の透明導電性薄膜に次いで、前記第一の透明導電性薄膜(21)よりも、4価金属元素の酸化物の割合が大きい第二の透明導電性薄膜(22)を有する。 (もっと読む)


【課題】遮熱性に優れた合わせガラスを得ることができ、かつ該合わせガラスの優れた遮熱性を長期間にわたり維持できる合わせガラス用中間膜、及び該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスを提供する。
【解決手段】本発明に係る合わせガラス用中間膜1は、遮熱層2と、紫外線遮蔽層3とを備える。遮熱層2は、熱可塑性樹脂と、遮熱粒子と、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物及びアントラシアニン化合物の内の少なくとも一種の成分とを含む。紫外線遮蔽層3は、熱可塑性樹脂と、紫外線遮蔽剤とを含む。本発明に係る合わせガラスは、第1,第2の合わせガラス構成部材と、該第1,第2の合わせガラス構成部材の間に挟み込まれた中間膜とを備える。該中間膜が、本発明に係る合わせガラス用中間膜1である。 (もっと読む)


【課題】防塵性を向上させることができ、光学特性に優れた光学素子、光学素子の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】
基板1と、当該基板1上に配置され、低屈折率層2Aと高屈折率層2Bとを交互に順にそれぞれ複数積層された光学機能膜と、を備える光学素子であって、前記光学機能膜の基板1から最も離れた最表層2Sは、第1低屈折率層2Aであり、第1低屈折率層2Aに隣接する第1高屈折率層2Bは、複数層から構成され、当該複数層は最表層2S側から順に導電層22と非導電層23を配置して構成され、前記光学機能膜がUV−IRカットフィルター膜である場合、前記導電層22の物理膜厚は60nm未満である。 (もっと読む)


【課題】光透過率が高く、透過着色が少ない透明導電性積層フィルム、これの製造方法及びこれを含むタッチパネルを提供する。
【解決手段】光学的透明基材10上に屈折率と厚さを調節した20および30の2層構造を含む積層体100をプラズマ−強化化学気相蒸着法を含む工程を通じて、緻密でかつ安定した構造の透明導電性積層フィルム100を提供することができ、可視光透過率が高く、透過着色が少なく、高温・高湿環境で表面抵抗の変化率が少なく、高い薄膜耐久性を有する透明導電性積層フィルムを提供することができ、大面積生産性を高めて製造費用を低くすることができる効果がある。 (もっと読む)


【課題】塗布液の種類を減らすことが可能で、製造工程を簡略化でき、十分な表面ピーク反射率を獲得できるミラーコート層を有する光学物品の製造方法及び同方法で製造した光学物品を提供すること。
【解決手段】ハ−ドコ−ト層を形成したプラスチック製の光学基材の表面に酸化スズ系複合微粒子を主成分とする揮発性溶媒に分散させた第1の塗布液を塗布し、揮発性溶媒を揮発させて第1の高屈折率層を形成させる。次いで第1の高屈折率層上に酸化スズ系複合微粒子の平均粒径よりも小さくない平均粒径の中空シリカ微粒子を分散させた有機ケイ素化合物を主成分とする第2の塗布液をスピンコ−ト法にて塗布し加熱処理をして前記高屈折率層の上層に低屈折率層を形成する。次いで低屈折率層上に有機ケイ素化合物を主成分とした第3の塗布液を湿式法によって塗布し加熱処理をし第2の高屈折率層を形成させ、表面ピーク反射率が7%以上のミラーコート層を形成させる。 (もっと読む)


【課題】非付着性、耐摩耗性に優れた被覆材の提供。
【解決手段】比較的大きなサイズ、すなわち、1マイクロメートルより大きい、好ましくは10マイクロメートルより大きいダイヤモンド粒子と、フルオロポリマーとを含む非付着性被膜組成物を基材に適用することができる。さらに、基材と、前記基材に適用された下塗り被膜とを含む構造物であって、前記下塗り被膜が、耐熱性非フルオロポリマーポリマーバインダーとダイヤモンド粒子とを含むプライマー層と、場合により、同様にダイヤモンド粒子を含む中塗り被膜とを含む、構造物。 (もっと読む)


【課題】異物による成膜不良を抑制するプラズマCVD成膜装置を提供する。
【解決手段】基材100が巻き掛けられる第1成膜ロール31と、第1成膜ロール31に対向し、基板100の搬送経路の下流で基材100が巻き掛けられる第2成膜ロール32と、第1,第2成膜ロールの内部にそれぞれ設けられ、第1,第2成膜ロールが対向する空間に膨らんだ無終端のトンネル状の磁場を形成する磁場形成装置61,62と、第1成膜ロール31と第2成膜ロール32とに接続され、印加電圧の極性が交互に反転するプラズマ発生用電源51と、第1成膜ロール31と第2成膜ロール32との間の搬送経路に設けられ、成膜面100aで基材100が巻き掛けられ基材100の搬送方向を変更するターンバー22,23と、を備え、ターンバー22,23は、気体を噴射する複数の噴射口を有し、噴射口から成膜面100aに気体を噴出して基材100を浮遊させる。 (もっと読む)


【課題】水蒸気バリア性に優れる液晶ポリエステルから構成される基材層と、水蒸気バリア層とを有し、水蒸気バリア性に優れる積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層を、下記式(1)で表される繰返し単位と、下記式(2)で表される繰返し単位と、下記式(3)で表される繰返し単位とを有し、2,6−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、40モル%以上である液晶ポリエステルから構成し、その少なくとも一方の面上に、水蒸気バリア層を配置する。
−O−Ar1−CO− (1)
−CO−Ar2−CO− (2)
−O−Ar3−O− (3)
(Ar1は、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。Ar2及びAr3は、それぞれ独立に、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。) (もっと読む)


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