【課題】Cuを添加して強度向上を図りつつも耐食性を向上させたアルミニウム板材を面材とし、軽量で歪が少なく且つ強度と耐食性に優れたろう付けサンドイッチパネルを提供する。
【解決手段】上下に対向して配置された二枚のアルミニウム合金製の面材と当該二枚の面材の間に配置されたアルミニウム製またはアルミニウム合金製のコア材とからなるサンドイッチパネルであって、前記各面材と前記コア材とがろう付け接合によって互いに接合されており、前記各面材として、Si：0.4〜1.2質量％、Fe：1.0質量％以下、Mn：1.0〜2.0質量％、Cu：0.2〜1.0質量％を含み、残部がAl及び不可避的不純物からなる組成と、ろう付け後に1μm以下の析出物を3×10⁶個／mm²以上有するとともに60MPa以上の耐力を呈するアルミニウム合金板が組み込まれたもの。 （もっと読む）

【課題】 基材の上に直接又は間接に非晶質炭素膜や硬質セラミックス膜等から成る保護膜が形成された積層体であって耐食性が改善されたものを提供する。
【解決手段】 本発明の一実施形態に係る積層体１は、基材１０と、前記基材の表面に直接又は間接に形成され、ケイ素、チタン、又はアルミニウムの少なくとも１つを含有する非晶質炭素膜、及び、ケイ素、チタン、又はアルミニウムの少なくとも１つを含有する硬質セラミックス膜の少なくとも一方から成る保護膜２０と、フッ素含有シランカップリング剤を含み、少なくとも一部が前記保護膜内に含浸されたコーティング膜３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】均一な微細パターン形状の形成を実現できる積層体、及びこの積層体を用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】積層体（１０）は、基材（３）上に設けられた反応防止層（２）と、反応防止層（２）上に設けられた熱反応型レジスト層（１）とを具備し、反応防止層（２）は、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）及びルテニウム（Ｒｕ）並びにこれらの酸化物及び窒化物並びに炭素（Ｃ）、炭化ホウ素（Ｂ_４Ｃ）、窒化ホウ素炭素（ＢＣＮ）及び窒化炭素（ＣＮ）からなる群より少なくとも１つ以上選ばれる材料で構成され、熱反応型レジスト層（１）は、酸化鉛からなる材料で構成される。 （もっと読む）

【課題】 より耐熱性の高い熱剥離型シートを提供すること。
【解決手段】 イミド基を有する熱剥離型シート。 （もっと読む）

【課題】電波透過性および金属調光沢を有し、反射率が高く、かつ低コストである電波透過性装飾部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基体１２と、透明有機材料層１６と、基体１２と透明有機材料層１６との間に存在し、ゾルゲル法によって形成されたハードコート層１８と、ハードコート層１８の表面に物理的蒸着によって形成された、シリコンと光輝金属との合金からなる連続した光反射薄膜層１４とを有する電波透過性装飾部材１。 （もっと読む）

【課題】印刷方式によりカラーフィルタを形成可能なフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに画素パターン形状及び寸法安定性に優れたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機膜からなるバリア層が両面に設けられたフィルム基板のいずれか一方の面に、印刷方式でカラーフィルタを製造するためのアンカー層が形成され、前記アンカー層が、光硬化型ポリマー、（メタ）アクリルモノマー、シランカップリング剤及び光開始剤を含む塗布剤からなることを特徴とするフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに該フレキシブルカラーフィルタ基板を備えたカラーフィルタ及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成でしかも安価に製造可能であり、微小電子部品などの搬送・整列・貯蔵において、耐摩耗性を損なわずに除電性あるいは制電性の高い非晶質炭素膜積層部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に非晶質炭素膜を成膜した後、非晶質炭素膜の表層部に「飛び飛び」の間隔にて、金属メッキを部分析出させることにより、非晶質炭素膜と基材との電気伝導性を確保する。該手法により、摩擦・摺動部品の表面処理用途においては、導電性を有する金属メッキが、「飛び飛びの部分」の状態で非晶質炭素膜の表面に存在し、非晶質炭素膜を形成した基材上に供給され、基材との摩擦等にて静電気を帯びた部品等のワークの少なくとも一部分が、ワークの存在、移動する経路含め、上記金属メッキ部分と常時、若しくは瞬時に物理的な接触を取ることを可能とするとともに、当該接点を通じて除電が可能となる表面構造体。 （もっと読む）

【課題】豊かな質感を有する意匠感を維持しつつ、優れた拭取り性を有する化粧シート、及びこれを用いた化粧板を提供すること。
【解決手段】基材２上に少なくとも、部分的に設けられた低艶絵柄インキ層３と、該低艶絵柄インキ層３上に存在してこれと接触すると共に、該低艶絵柄インキ層３が形成された領域及び該低艶絵柄インキ層３が形成されてない領域とを含む全面にわたって被覆する表面保護層５を有する化粧シートであって、該低艶絵柄インキ層３を形成する低艶絵柄インキが吸油量（ＪＩＳ Ｋ ５１０１−１３−１：２００４に準拠する）が２５０ｍｌ／１００ｇ以上であるシリカ微粒子を含有し、該表面保護層５は電離放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化してなり、該表面保護層中には、該低艶絵柄インキ層３の直上部及びその近傍に視覚的に凹部として認識される凹部領域が形成される化粧シートである。 （もっと読む）

【課題】支持体と、無機膜とを有する機能性フィルムにおいて、支持体のダメージが少なく、かつ、無機膜の密着性が良好で、さらに、緻密な無機膜の圧縮応力に起因する剥離やクラックの発生を抑制した機能性フィルム、および、その製造方法を提供する。
【解決手段】機能性フィルムの無機膜が、領域Ｂと、領域Ｂよりも低密度／薄い領域Ａとを有し、領域Ｂ−領域Ａ−領域Ｂの積層構造を１以上有する機能性フィルム、および、複数のプラズマＣＶＤによって、成膜領域から外部へのガス流を制御しつつ無機膜を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】シリコン半導体の製造などに用いられる熱処理装置などに好適に使用できる新規な熱線反射部材を提供する。
【解決手段】熱線反射部材１は、基材１０と、熱線反射層２０を備える。熱線反射層２０は、基材１０の上に配されている。熱線反射層２０は、シリコン層２２と酸化シリコン層２１とが交互に積層されてなる。酸化シリコン層２１は、第１の領域２１ａと、第２の領域２１ｂとを含む。第２の領域２１ｂは、第１の領域２１ａとシリコン層２２との間に位置する。第２の領域２１ｂの屈折率ｎ２は、第１の領域２１ａの屈折率ｎ１よりも高い。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性と良好な水蒸気バリアー性能を有する水蒸気バリアーフィルムの製造方法を実現し、そのような優れた性能を有する水蒸気バリアーフィルムと、その水蒸気バリアーフィルムを用いた水蒸気バリアー性に優れた電子機器を得ること。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層４と保護層５が積層された水蒸気バリアーフィルム１０において、その水蒸気バリアーフィルム１０の周縁部の少なくとも一部に、その中央側よりも水蒸気透過率が低い低透過領域Ｒｂを形成することとした。この低透過領域Ｒｂは、周縁部の全体に亘って形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】長時間に亘り十分なバリア性を発揮する積層構造のバリア膜を単一のプラズマＣＶＤ装置にて一貫して成膜することができる量産性のよい成膜方法を提供する。
【解決手段】減圧下のプラズマＣＶＤ装置の反応室内に、シリコンを含む原料ガスと、窒素を含む第１の反応ガスとを導入し、放電用電力を投入してプラズマＣＶＤ法にて処理対象物表面に下層（窒化シリコン膜）Ｂｄを成膜する第１工程と、第１の反応ガスから、窒素及び酸素を含む第２の反応ガスに切り換え、原料ガスと共に反応室内に導入し、中間層（酸窒化シリコン膜）Ｂｍを成膜する第２工程と、第２の反応ガスから第１の反応ガスに切り換え、原料ガスと共に反応室内に導入し、上層（窒化シリコン膜）Ｂｕを成膜する第３工程とを含み、少なくとも第２工程と第３工程との間で、少なくとも原料ガスの導入を一時的に停止する工程を更に含む。 （もっと読む）

【課題】製造プロセス中は強固に接着されており、製造プロセス後には容易に分離することが可能な積層体、分離方法、及び製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性のサポートプレート１２、サポートプレート１２によって支持される、有機物を含む有機物材料層１１と、サポートプレート１２と有機物材料層１１との間に設けられており、サポートプレート１２を介して照射される光を吸収することによって変質する分離層１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】成形性と耐汚染性、特に耐雨だれ汚染性とが両立した塗装鋼板を提供する。
【解決手段】塗装鋼板の少なくとも片面の最表層の塗膜が、テトラアルコキシシランの部分加水分解縮合物を含有し、かつ前記最表層の塗膜の最表面にワックスが投影面積比率で０.５％以上１０％以下露出している。最表層の塗膜の平均線最大山高さ（Ｒｐ）が０.５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。テトラアルコキシシランの部分加水分解縮合物は、最表層の塗膜の樹脂固形分１００質量部に対し０.５〜５０質量部の範囲内とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】コールドスプレー法を用いてセラミックス基材に金属皮膜を形成した積層体を作製する場合に、セラミックスと金属皮膜との間の密着強度が高い積層体及びこのような積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】積層体は、絶縁性を有するセラミックス基材１０と、該セラミックス基材１０の表面に形成された金属又は合金を主成分とする中間層５０と、該中間層５０の表面に、金属又は合金からなる粉末をガスと共に加速し、表面に固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって形成された金属皮膜層（回路層２０、冷却フィン４０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた、フィルムデバイスを提供すること、および、このフィルムデバ
イス作成用に耐熱性樹脂層と無機物の層積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも、無機層と樹脂フィルムから構成されてなる積層体および、この
積層体を利用したフィルムデバイスの製造方法であって、
（１）無機層の少なくとも片面の表面をカップリング剤処理する工程
（２）前記カップリング剤処理された無機層の少なくとも片面を、あらかじめ決めたパタ
ーンに従ってＵＶ照射処理を行うことによって、無機層と樹脂層の間の剥離強度が異なる
部分を設ける工程。
（３）該パターン化した無機層のカップリング剤処理面上に樹脂溶液あるいは、樹脂前駆
体溶液を塗布して得られた塗布溶液層を乾燥、熱処理し前記樹脂層を形成する工程、
上記（１）〜（３）の工程を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
および、この積層体を使ってデバイスを作成後に、前記無機基板からあらかじめ決めたパ
ターンに従ってＵＶ露光する工程により、基板に対する接着剥離強度が弱い部分を剥離す
ることによりフィルムデバイスの作成を実現する。 （もっと読む）

【課題】構造体を構成する、マイクロ粒子とナノ粒子の比率として表記される「組成」が、作製される構造体の膜厚方向、底面側から表面側へと変化している「傾斜組成」を示す「傾斜構造」の形成方法を提供する。
【解決手段】マイクロ粒子とナノ粒子を溶媒中に分散した分散液を基材上に塗布し、静置後、乾燥処理を施すことで、前記マイクロ粒子を分散液中で沈降させることにより、下層部にマイクロ粒子の層を形成し、上層部にナノ粒子の層を形成する傾斜構造の形成方法；及びその方法に使用する為の分散液であって、平均粒子径が１μｍ以上のマイクロ粒子と平均粒子径が１ｎｍ〜１００ｎｍのナノ粒子を溶媒中に分散した分散液。 （もっと読む）

【課題】良好なガスバリア性を有し、光、熱、水等の外的要因に対して、無機層と下地の有機層間、又は有機層と基材間の剥離が抑制され、長期信頼性に優れたガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】基材２と、基材２上に設けられた有機層３と、有機層３上に設けられた無機層４とを有し、有機層３が、ケイ素がウレタン結合を介して共有結合しているアクリル系樹脂を含有し、無機層４と接する有機層３の面にケイ素が０．３原子％以上存在することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた耐食性を有する表面処理鋼材を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、素地鋼材と、最表面に形成される防食樹脂塗膜とを備える表面処理鋼材であって、上記素地鋼材と防食樹脂塗膜との間に、アルミン酸塩及び硫酸塩を含有する中間層をさらに備えることを特徴とする。上記素地鋼材が、Ｃ：０．０１質量％以上０．３０質量％以下、Ｓｉ：０．０５質量％以上１．０質量％以下、Ｍｎ：０．１質量％以上２．０質量％以下、Ｐ：０．０５質量％以下、Ｓ：０．０２質量％以下、Ｎ：０．００８質量％以下、Ａｌ：０．００５質量％以上０．１０質量％以下、Ｃｕ：０．１質量％以上３．０質量％以下、Ｎｉ：０．１質量％以上５．０質量％以下及びＴｉ：０．００５質量％以上０．１質量％以下を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなることが好ましい。 （もっと読む）