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Fターム[4F100EJ52]の内容

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【課題】反射率が低く、着色が少なく、層厚ムラに対する色味ムラが小さく、耐擦傷性に優れ、良好な帯電防止性能を有し、キズのてかりが少なく、耐光性に優れた反射防止フィルム、これを用いた偏光板並びに画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体と、層厚が200nm以下で、互いに屈折率の異なる2層以上の層からなる薄膜層とを有し、薄膜層は低屈折率層と低屈折率層より高屈折率の高屈折率層とを有し、高屈折率層は、その屈折率が1.65〜1.90で、5度入射の鏡面反射率の450〜650nmの波長での平均値が1%以下で、波長380〜780nmの領域におけるCIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の色味CIE1976L***色空間のa*、b*値が、−8≦a*≦8、−10≦b*≦10である反射防止フィルム (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は活性エネルギー線照射によるハードコート層の急激な硬化収縮を抑制し平面性を改善したハードコートフィルム及びその製造方法、並びに反射防止層を設けた時に反射色ムラ、破断の低減した反射防止フィルムを提供することにある。
【解決手段】 幅1.4〜4mの樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化樹脂層を設けた後、活性エネルギー線の照射時間(t)と照度(W)の関係が下記a、bの範囲に調整された活性エネルギー線照射ゾーンを通過させて、活性エネルギー線を照射し硬化することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
a.最大照度Wmaxが0.1〜0.3(W/cm2)の範囲
b.照射開始から最大照度Wmaxに達するまでの傾きdW/dtが、0.1〜0.6(W/cm2・sec)の範囲 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は1.2m以上の塗布幅でハードコート層を設けても、優れた帯電防止機能、膜物性、平面性を有し、干渉ムラやヘイズ上昇のないクリアハードコートフィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた反射防止性に優れた反射防止フィルムを提供することにある。
【解決手段】 透明プラスチック基材上に塗布幅1.2m以上で少なくとも2層以上のクリアハードコート層を設け、その少なくともいずれかの層に活性エネルギー線硬化樹脂を含むクリアハードコートフィルムの製造方法であって、少なくとも基材側の層の塗布液と表面側の層の塗布液とを2層以上同時重層塗布し、次いで乾燥・硬化させることを特徴とするクリアハードコートフィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】汚染除去性に優れる被膜を基材表面に形成した防汚性基材、及びこの防汚性基材を一工程で、かつ、省スペースで製造可能な製造方法を提供すること。
【解決手段】合成樹脂組成物からなる基材と、この基材の表面に被覆された被覆層とを備え、被覆層が、光硬化性樹脂と、光重合開始剤と、撥水撥油剤を含有する光硬化性樹脂組成物から形成された防汚性基材を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


酸素スカベンジャフィルムは、酸素スカベンジャ含有層、および環式オレフィンコポリマー含有層を含む。酸素スカベンジャフィルムは、酸素スカベンジャと環式オレフィンコポリマーのブレンドを含有する層を含む。酸素スカベンジャフィルムをトリガーする方法は、酸素スカベンジャ含有層、および環式オレフィンコポリマー含有層を含む酸素スカベンジャフィルムを提供すること;ならびに前記酸素スカベンジャフィルムに、前記酸素スカベンジャをトリガーするのに有効な線量の化学線を照射すること含む。酸素スカベンジャフィルムをトリガーする方法は、酸素スカベンジャと環式オレフィンコポリマーのブレンドを含有する層を含む酸素スカベンジャフィルムを提供すること;ならびに前記酸素スカベンジャフィルムに、前記酸素スカベンジャをトリガーするのに有効な線量の化学線を照射することを含む。 (もっと読む)


本発明は、滑剤を有する1つ以上の物品の表面における静止摩擦力および動摩擦力を軽減する方法に関する。当該方法は、少なくとも1つの表面に滑剤を塗布して塗布表面を形成する塗布工程と、当該塗布表面にエネルギー源からエネルギー照射を行う照射工程とから成り、エネルギー照射がほぼ大気圧下におけるイオン化ガスプラズマ処理、ガンマ線照射処理または電子線照射処理である。滑剤を塗布する前に、少なくとも1つの表面にほぼ大気圧下におけるイオン化ガスプラズマ処理を行ってもよい。本発明は、更に、上記本発明の方法で得られる物品にも関する。
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(a)硬化した離脱層によって互いに接着されたフィルム層および金属層を含む転写フィルムを準備するステップ;(b)基板を準備するステップ;(c)電子線硬化性転写用接着剤を基板の一部に塗布するステップ;(d)転写用接着剤が金属層と基板との間に配置され中間製品を形成させるように、転写フィルムを基板に固定するステップ;(e)中間製品を電子線硬化装置に通して転写用接着剤を硬化させるステップ;(f)転写フィルムを取り外すステップを含む、基板を金属化することにより製造された積層構造物。金属化された製品において、硬化した離脱被膜は金属のみと結合している。硬化した離脱層は、引張試験における破断時硬化伸びが約20%未満であるのが好ましい。正確な金属化されたエッジが製造され、例えば、エッジの変動が約±0.010インチまたはそれよりも優れている。本方法は、全体的または選択的な金属転写を利用することができる。
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【課題】 従来技術の欠点を回避するべき、表面および表面近傍の固体領域のポリマー化合物である基体材料と他の材料との間の確り接合した複合体の提供。
【解決手段】 この課題は、表面および表面近傍の固体領域に僅かな活性表面エネルギーのポリマー化合物を有する基体材料と他の材料との接合複合体において、接合される物質(1,4)相互の間に、ナノ組織化されたナノ複合材料(5)を有する変移領域(6)が、該変移領域が20nm〜20μmの層厚を有しそして専らナノ複合材料(5)で形成されており、該ナノ複合体は基体材料(1)と他の材料(4)で構成されそして基体材料(1)と他の材料(4)との割合が基体材料(1)の直ぐ近くの専ら基体材料から他の材料(4)の直ぐ近くの専ら他の材料に亙って変化するように形成されており、その結果基体材料(1)が他の材料(4)中でナノ組織化されて変移することを特徴とする、上記接合複合体によって解決される。
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複合建築用物品は、物品の耐久性を改良するための1箇所または複数の表面下の界面領域が提供されるように構成されている。それぞれの表面下の界面領域は、繊維セメントと放射線硬化性材料とのマトリックスで作られる。放射線硬化性材料は、繊維セメントと共に絡み合った網目構造を形成して、物品を劣化させる可能性のある環境因子の進入に抵抗する界面領域を提供する。表面下の界面領域の数、形状および分布は、最終製品の所望の特性に応じて変動させることができる。表面下の界面領域はまた、基材ならびに外部塗装層と一体となって形成することができるので、外部塗装と基材間の密着性をも向上させる。 (もっと読む)


本発明は、透明基材と、前記透明基材の一方の面に接着層を介して設けられたメッシュ状の金属層と、を備えた電磁波シールドシートに関する。前記金属層は、多数の開口部と該開口部を囲繞するライン部とを有するメッシュ部と、前記メッシュ部の周縁に設けられた額縁部と、を有している。前記接着層とは反対側の前記額縁部の表面には、金属が露出されており、前記開口部には、透明な電離放射線硬化樹脂層が埋め込まれている。好ましくは、前記接着層とは反対側の前記額縁部の前記表面の表面粗さは、JIS−B0601(1994年版)に準拠する10点平均粗さで、0.5〜1.5μmである。 (もっと読む)


フルオロポリマー基材は、式(I)


(式中、Rは、水素か、あるいは1〜18個の炭素原子を有するアルキル基またはシクロアルキル基または6〜18個の炭素原子を有するアリール基、アルカリール基、またはアラルキル基を表し;Xは、OまたはNHを表し;R1、R2、R3、およびR4は、それぞれ独立してH、1〜18個の炭素原子を有するアルキル基、1〜18個の炭素原子を有するアルケニル基、6〜10個の炭素原子を有するアリール基を表すか、またはR、R1、R2、R3、およびR4のいずれか2つは一緒になって、2〜6個の炭素原子を有するアルキレン基を表すが、ただし、R1およびR2の少なくとも1つまたはR3およびR4の少なくとも1つはHでない)
を有する少なくとも1つの種を含む光化学的方法で変性される。
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放射線硬化バインダー中に、層状粘土粒子を含有する層を含む光学フィルムが提供される。また、可撓性の透明な支持体上に当該分散体を塗布することを含む光学フィルムの形成方法、並びに当該フィルムを使用したLCD装置及び接触スクリーンディスプレーが提供される。 (もっと読む)


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