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Fターム[4F100EJ52]の内容

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【課題】透明導電シート(電極シート)の導電パターン(電極)の色味の違いを小さくすることにより、タッチパネルの視認性を改良する。
【解決手段】透明支持体に、ハロゲン化銀乳剤を含む感光層が形成された感光材料にパターン露光と現像処理を施すことにより現像銀の導電性細線からなる透明導電シート(電極シート)を製造する透明導電シート(電極シート)製造用の感光材料であって、前記感光層が、ハロゲン組成の異なる乳剤を含む複数の感光層、ハロゲン化銀乳剤を含む感光層の銀密度が異なる複数の感光層、または現像抑制剤の添加量の異なる複数の感光層、の少なくともいずれかからなることを特徴とする透明導電シート(電極シート)製造用の感光材料。 (もっと読む)


【課題】接着強度が高く、且つ、耐久性に優れたゴム基材とポリエステルフィルム基材の積層体、および、これに用いることができる接着剤組成物を提供する。
【解決手段】ポリエステルまたは/およびポリエステルウレタン、アクリル基含有化合物、ポリイソシアネート化合物、及び光重合開始剤を含有する接着剤組成物を用いて、ゴム基材とポリエステル基材との積層体を形成する。前記ゴム基材がゴム100質量部に対しアクリル基含有化合物1〜40質量部と光重合開始剤0.2〜4質量部を配合してなる。ポリエステル基材に接着剤組成物を塗布して熱硬化させることでポリエステル基材表面に接着剤層を設けた後、接着剤層表面にゴム基材を載置して光照射することでゴム基材とポリエステル基材の接着を行なう。 (もっと読む)


【課題】加工適性、使用適性及び意匠性の全てを高い水準で兼ね備える化粧シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、少なくとも接着層、着色隠蔽層、絵柄層、プライマー層、電離放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化してなる表面保護層、及び転写用フィルムをこの順に有してなる化粧シートであって、該基材の厚さが100〜350μmであり且つ該基材の弾性率が800〜8000MPaであり、該表面保護層の厚さが2〜20μmであり、該転写用フィルムの厚さが20〜200μmであり且つ該転写用フィルムの濡れ指数が30〜55mN/mであることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】表面保護層の層厚を厚くしても、耐衝撃性を悪化させることなく、高荷重条件下での耐傷性に優れた床用化粧シート及び床用化粧材を提供する。
【解決手段】基材シート上に、少なくとも透明性樹脂層及び表面保護層を有する床用化粧シートであって、(1)前記透明性樹脂層は、前記表面保護層の下層に積層されており、且つマルテンス硬さが20N/mm以上であり、(2)前記表面保護層は、層厚が30μm以上150μm未満であり、且つマルテンス硬さが40超〜70N/mmである。 (もっと読む)


【課題】高い抗アレルゲン性を有する化粧シート、これを用いた化粧板、及び被塗物に高い抗アレルゲン性を付与しうる電離放射線硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】基材上に抗アレルゲン機能層を有し、該抗アレルゲン機能層が硬化性成分及びフェノール性水酸基を有する抗アレルゲン剤を含む電離放射線硬化性組成物の硬化物であり、該硬化性成分として分子量250以下のポリイソシアネートと分子量100〜250のポリオールとヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物とから得られるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含むである化粧シート及びこれを用いた化粧板である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、対象が軽量物においても防滑性に優れる化粧シートであって、防滑性の低下が抑制された化粧シートを提供する。
【解決手段】表面保護層を最表面に有する化粧シートであって、
(1)前記表面保護層のマルテンス硬さが30〜170N/mmであり、
(2)前記表面保護層は凹凸を有し、かつ当該凹凸の平均間隔Smが180μm〜500μmであり、
(3)前記表面保護層の最大高さRzが20〜60μmである
ことを特徴とする化粧シート。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性を有し、かつ、ガスバリア層と積層する薄膜層との密着性に優れた透明ガスバリアフィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高分子基材フィルム上に、少なくとも珪素酸化物からなる薄膜層が積層された透明ガスバリアフィルムであって、該珪素酸化物からなる薄膜層の表面がアルゴン(Ar)と窒素(N2)の混合ガスを原料とするイオン照射処理されてなるものであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム。 (もっと読む)


【課題】溶融成形における十分なロングラン性を備え、かつ、黄変等の着色が低減されたEVOH樹脂の製造方法、この製造方法から得られるEVOH樹脂、及びこの樹脂から得られる多層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、エチレン−ビニルアルコール共重合体又はこのエチレン−ビニルアルコール共重合体の前駆体であるエチレン−ビニルエステル共重合体に赤外線を照射する赤外線照射工程を有するエチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高強度かつ環境配慮型である上、耐薬品性及び耐汚染性を有すると共に、高隠蔽性及び高平滑性を合わせもつ化粧板を提供する。
【解決手段】基材の一方の面に、接着剤層、原紙、隠蔽インキ層、及び表面保護層を順に有し、該表面保護層が、隠蔽性顔料を含む電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化物層であることを特徴とする化粧板である。 (もっと読む)


【課題】フィルムの成型性と硬度を両立させ、しかも巻取り加工適性を備えた成型用積層ハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】成型用積層ハードコートフィルム1は、基材フィルム11上に、樹脂を含有するハードコート層12、および保護フィルム13を順に設けてなる構成である。この成型用積層ハードコートフィルム1は、23℃、50%RHの雰囲気下における伸び率が10%以上である。 (もっと読む)


【課題】塗膜表面に優れた防汚性を有した防汚層を形成した防汚性硬化塗膜を有する物品及び防汚性フィルムを提供する。
【解決手段】フッ素含有率が15〜30質量%であり、ポリ(パーフルオロアルキレンエーテル)鎖及び重合性基を有する重合性含フッ素樹脂(a)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物(A)11を基材(B)10に塗工し、該塗工塗膜表面に、25℃における表面自由エネルギー35mJ/m以下の表面状態のコーティング層13を有するフィルム(C)12のコーティング層13を接触させた状態で、活性エネルギー線を照射して、前記活性エネルギー線硬化性組成物(A)11を硬化した後、前記フィルム(C)12を剥離することにより得られることを特徴とする防汚性硬化塗膜を有する物品又は防汚性フィルム。 (もっと読む)


【課題】金属箔と金属箔上に配置される抵抗層との間の剥離を抑制し、且つ抵抗層の抵抗値のばらつきを低減可能な電気抵抗層付き金属箔及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学的方法で測定した十点平均粗さRzが1μm以下であり、イオンビーム強度0.70〜2.10sec・W/cm2のイオンビーム照射により処理された表面を有する金属箔と、金属箔の前記表面上に配置された電気抵抗層とを備える。 (もっと読む)


【課題】十分な反射防止性を有しながら耐傷性の向上した反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】透明支持体上に、低屈折率層形成用塗布組成物を塗布し光照射して最外層に低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記低屈折率層形成用塗布組成物が、含フッ素ポリマー及び外殻の内部に1つの空孔を有する屈折率1.17〜1.40の中空シリカ微粒子を含有し、
該含フッ素ポリマーが、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位とを構成成分とする含フッ素共重合体であり、かつ
前記中空シリカ微粒子の平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】押圧による歪に対する復元性が高く、耐擦傷性に優れ、特に押圧による歪が反復される場合に対する耐擦傷性が高く、耐久性に優れると共に高い反射防止機能を有し、外観が良好な積層体やその製造方法を提供する。
【解決手段】基材11上に、中間層15を介して、ナノ凹凸構造の表面を有する表層12を設けた積層体10であって、20℃において振動周波数1Hzの条件で測定した表層12の貯蔵弾性率(SG)に対する中間層15の貯蔵弾性率(MG)の比(MG/SG)が、0.003以上、0.14以下である積層体10。 (もっと読む)


【課題】スプレー塗工において良好な塗工性が得られると共に、優れた透明性および耐擦傷性を有する硬化膜を形成可能な硬化性組成物、および該硬化性組成物から形成された硬化膜を有する積層体、ならびに該硬化膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る硬化性組成物は、(A)多官能(メタ)アクリルモノマー、(B)光重合開始剤、(C)無機酸化物粒子、および(D)有機溶剤、を含有する硬化性組成物であって、前記硬化性組成物中の前記(C)成分の含有量が、前記(D)成分以外の全成分の合計を100質量部としたときに、0.0001質量部以上5質量部以下であり、かつ、前記(C)成分に含まれる粒子径200nm以上1000nm以下の範囲にある粒子の含有量が0.0001質量部以上1質量部以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 光学フィルムを巻き取った際の巻き締まりや貼り付きなどの巻き不良をなくし、かつ光学フィルムのシワの発生を抑制することにある。
【解決手段】 ウェブ状の透明基材10上にハードコート層12を備える光学フィルムの製造方法であって、両端部側にナール部10Aを施し、該両ナール部間を平坦部10Bとした前記ウェブ状の透明基材10に対し、電離放射線硬化型材料を含むハードコート層形成用塗液を、前記平坦部10B及び前記ナール部10Aを含むように塗布して塗膜を形成する工程と、この形成された塗膜に対し、照射量が平坦部10Bよりもナール部10Aで大きくなるように電離放射線を照射し、塗膜を硬化させたハードコート層を形成する工程とを順に設けた光学フィルムの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】Si−O−Si結合を含む固体化合物表面乃至は、予め透明性材料膜が形成されたSi−O−Si結合を含む固体化合物表面に、膜厚変化を誘起せずに、微細な凹凸構造を形成する手法を確立する。
【解決手段】任意の基体1上に高分子製プライマー2を介してSi−O−Si結合を含む固体化合物膜3乃至は、透明性材料膜と固体化合物膜3との積層構造を形成し、その表面から波長190nmより長く400nm以下の光を照射することにより、固体化合物膜3乃至は、透明性材料膜とSi−O−Si結合を含む固体化合物膜3の積層構造に、膜厚変化を与えることなく、露光部分のみをマイクロ/ナノオーダーで沈下させる。 (もっと読む)


【課題】PDP用コントラスト向上フィルタと製造方法、これを用いたプラズマディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】PDP用コントラスト向上フィルタ10は、透明基材1上に形成された光透過部2aと光吸収部2bを有するコントラスト向上層2に接してネオン光吸収層3が更に形成され、コントラスト向上層の少なくとも光透過部が光重合性化合物と、光重合開始剤として下記式[1]で表わされる化合物を含む樹脂組成物の硬化物からなる。


(式中、R1は芳香族基、メチル基、または水素を表わし、R2〜R7はそれぞれ独立して直鎖または分岐鎖状のアルキル基を表わす。) (もっと読む)


【課題】有機層を塗布により形成する場合において、バリア性積層体の有機層の発泡を抑制する。
【解決手段】無機層、有機層および無機層が、該順に互いに隣接する構造を有するバリア性積層体であって、前記有機層は、25℃一気圧において、硬化前の粘度が400mPa・s以上の液体または固体であり、かつ、(メタ)アクリル当量が260以下の(メタ)アクリレートを固形分で50重量%以上と、(メタ)アクリロイルオキシ基を含むシランカップリング剤とを含む重合性組成物を層状に塗布して硬化させたものであるバリア性積層体。 (もっと読む)


【課題】優れた耐候性を有し、かつブリードアウトによる性能低下を抑制した耐候性シートを提供すること。
【解決手段】基材シート、表面保護層A、及び表面保護層Bを順に有し、該表面保護層Aが電離放射線硬化性樹脂A、紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Aの硬化物からなり、該表面保護層Bが電離放射線硬化性樹脂B、反応性官能基αを有する紫外線吸収剤及び反応性官能基βを有するヒンダードアミン系光安定剤を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Bの硬化物からなり、該表面保護層Bの厚さが10μm以上である耐候性シートである。 (もっと読む)


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