【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第１酸化物粉末がＳｎＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた１種の粉末又は２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学的異方性が小さく、さらには光学的異方性の波長分散が小さいことから、偏光板の保護層として液晶表示装置に使用したときに、視野角特性に優れ、表示色味が変化しにくい高分子フィルムであって、更に液晶表示装置等の画像表示装置に好適に使用できるよう貼合性を制御した高分子フィルムを提供すること。
【解決手段】正面レターデーション値Ｒｅ_（λ）および膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ_（λ）（λは波長（ｎｍ）を示す。）が、下記式（ｉ）および（ｉｉ）を満たし、更に少なくとも片側の面の表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上８０ｍＮ／ｍ以下であり、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制し光学異方性を低下させる化合物を含み、
前記光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０−９９％である、セルロースアシレートフィルム。
（ｉ） ０≦Ｒｅ_{（６３０）}≦１０かつ｜Ｒｔｈ_{（６３０）}｜≦２５
（ｉｉ） ｜Ｒｅ_{（４００）}−Ｒｅ_{（７００）}｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ_{（４００）}−Ｒｔｈ_{（７００）}｜≦３５ （もっと読む）

【課題】塗布プロセスを用いて、色味がなく、透明導電性の高い透明導電膜を低コストで容易に製造することができる透明導電膜の製造方法およびそれに用いるカーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を提供する。
【解決手段】表面に親水基を付与したカーボンナノチューブに対して親水性の導電性ポリマーを重量比で０．５以上４以下となるように混合し、溶媒に分散させ、カーボンナノチューブの濃度を０．１ｇ／Ｌ以上２．０ｇ／Ｌ以下とすることにより、カーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を製造する。このカーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を透明基材上に塗布することにより透明導電膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーの相分離構造の形成を迅速かつ簡便に制御することにより、高分子ナノ構造体を備える基板を製造し得る方法の提供。
【解決手段】複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーとカーボンナノチューブとを混合することを特徴とする、ブロックコポリマーの相分離構造の形成方法、複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーの溶液にカーボンナノチューブを混合し、混合溶液を調製する工程と、調製された混合溶液を、基板表面に塗布することにより、ブロックコポリマーの相分離構造を有する層を形成する工程と、前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相を選択的に除去する工程と、を有することを特徴とする、高分子ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法、並びに当該製造方法により製造された高分子ナノ構造体を表面に備える基板。 （もっと読む）

【課題】基材に対する微細セルロース水分散液の塗工性が良好であり、微細セルロースからなる層の経時的な劣化を抑制し、ガスバリア性を高めた積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも大気圧下で表面をプラズマ処理した基材と、その処理表面にカルボキシル基を有する微細セルロースからなる層を接触させた層とヒートシール可能な熱可塑性樹脂層の３層を積層してなることを特徴とする積層体。基材を大気圧下でプラズマ処理する工程と、その処理面にカルボキシル基を有する微細セルロース層をコーティングする工程と、その微細セルロース層上に熱可塑性樹脂層を積層する工程とを具備する積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性が高く、屈曲後や経時保存後も高いガスバリア性を維持し、生産性が高く安価に製造可能なガスバリア性フィルムとその製造方法、及び該ガスバリア性フィルムを有する有機電子デバイスを提供することである。
【解決手段】金属酸化物を含むガスバリア層を有するガスバリア性フィルムの製造方法において、該ガスバリア性フィルムを絶対湿度が０．００１〜３ｇ／ｍ^３の環境下において、水と反応する材料を該ガスバリア層表面に接触させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性能を有するとともに、折り曲げ耐性、平滑性に優れたガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム、そのガスバリアフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】樹脂フィルムなどの基材１上に、プラズマＣＶＤ法などの蒸着法によって形成された金属酸化物を含有する蒸着層２と、ポリシラザンを含む液体を塗布し乾燥した後に真空紫外光を照射して形成されたポリシラザン改質層３とを積層した構成のガスバリアフィルム１０において、蒸着層２に真空紫外光を照射するエキシマ処理と、ポリシラザン改質層３にプラズマを照射するプラズマ処理の、少なくとも一方を施すこととした。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、非粘着性、耐摩耗性、グリップ性が優れた複層シート及びこの複層シートからなるエンドレスベルト並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】フッ素樹脂と耐熱性繊維織布からなる少なくとも１層の複合材層とポリイミド系樹脂からなる表面層とを有する複層シートであって、前記表面層が、前記複合材層に対してなされた表面活性化処理により形成された処理面を介して形成されていることを特徴とする複層シート、及びエンドレスベルト並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、実用上十分な導電性を有し、かつ基材と導電性薄膜の密着性が高い導電性基板を提供すること。
【解決手段】基材上に導電性薄膜を有する導電性基板の製造方法であって、該導電性基板は、該導電性薄膜の少なくとも最表面は金属微粒子が融着しており、該導電性薄膜の少なくとも基材と接する面は微粒子が粒子形状を維持しており、基材上に金属又は金属化合物の微粒子の分散液を印刷し、焼成することによって少なくとも最表面の金属微粒子を融着することを特徴とする、導電性基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】光透過率が高く、透過着色が少ない透明導電性積層フィルム、これの製造方法及びこれを含むタッチパネルを提供する。
【解決手段】光学的透明基材１０上に屈折率と厚さを調節した２０および３０の２層構造を含む積層体１００をプラズマ−強化化学気相蒸着法を含む工程を通じて、緻密でかつ安定した構造の透明導電性積層フィルム１００を提供することができ、可視光透過率が高く、透過着色が少なく、高温・高湿環境で表面抵抗の変化率が少なく、高い薄膜耐久性を有する透明導電性積層フィルムを提供することができ、大面積生産性を高めて製造費用を低くすることができる効果がある。 （もっと読む）

【課題】ロール状のフィルムに金属を蒸着する製造工程において、良好な外観とガスバリア性能の金属膜を提供する。
【解決手段】蒸着装置６のフィルム室１４と蒸着室１３の間に隙間１１，１２を設け、そのコンダクタンスをフィルムが蒸着室に入る側にて、フィルムの出る側に対して３倍以上とすることで蒸着初期の処理面のみに反応ガスの酸素を接触させて酸化膜を形成してフィルム面への密着力を確保し、その上に金属蒸着膜を形成することで、金属膜全体の酸化の度合いを下げて良好な外観とガスバリア性能を得る。 （もっと読む）

【課題】金属色のパターンを装飾することのできるインサート成形用の加飾フィルム、包装用フィルム、透明電極作製用のフィルムなどとして有用なパターン形成用フィルムを提供すること。
【解決手段】基材上に、少なくとも、金属薄膜層、ベタ印刷層及びパターン印刷層を有するパターン形成用フィルムであって、金属薄膜層とベタ印刷層とが接し、ベタ印刷層を構成する樹脂及びパターン印刷層を構成する樹脂が、それぞれ塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、及び塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、ベタ印刷層を構成する樹脂の平均酸価が１〜６ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつパターン印刷層を構成する樹脂の平均酸価が７ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることを特徴とするパターン形成用フィルムである。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、第１酸化物粉末がＭｇＯ粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＣａＯ粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜９９：９５〜１であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
優れたガスバリア性と透明導電性を有し、高温高湿度環境下においてもシート抵抗値の変化が少なく、低い値を保ち、導電性に優れる透明導電性フィルム、その製造方法、この透明導電性フィルムからなる電子デバイス用部材、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】
基材層、ガスバリア層及び透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、ガスバリア層が、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子を含む材料から構成されてなり、該ガスバリア層の表層部における、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子の含有量が、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子の合計１００原子％に対し、ケイ素原子：１８．０〜２８．０％、酸素原子：４８．０〜６６．０％、炭素原子：１０．０〜２８．０％であって、かつ、透明導電性フィルムの、４０℃９０％ＲＨ雰囲気下における水蒸気透過率が６．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、波長５５０ｎｍにおける可視光線透過率が９０％以上である透明導電性フィルム；その製造方法；この透明導電性フィルムからなる電子デバイス用部材；及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】外光に対する優れた反射防止性能を発揮し、且つ、表面抵抗値の増加を抑え、導電性の低下を抑制することが可能な透明導電材を提供すること。
【解決手段】電磁波遮蔽層とコントラスト向上層とを含む透明導電材であって、電磁波遮蔽層は透明基材と、該透明基材上に所定のパターンで形成された導電性パターン層を有するものであり、該導電性パターン層は金属粒子とバインダー樹脂を含み、該導電性パターン層の表面において金属粒子の一部分がバインダー樹脂から露出しており、該金属粒子露出部分がその表面に溝状凹部及び微小突起を有するものである透明導電材である。 （もっと読む）

【課題】耐屈曲性を有するガスバリア性フィルムとして好適な新規な積層フィルムの提供。
【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が、炭素を含む酸化物を含有し、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、炭素を含む酸化物の原子の合計量に対する炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係を示す炭素分布曲線において、下記条件（ｉ）〜（ｉｉ）：
（ｉ）前記炭素分布曲線が実質的に連続である。
（ｉｉ）前記炭素分布曲線が極値を有する。
を全て満たし、前記酸化物が、半導体元素、半金属元素及び金属元素からなる群より選ばれる１種以上の元素（ただし、珪素を除く）の酸化物であることを特徴とする積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】フィルムを屈曲させた場合でもガスバリア性の低下を十分に抑制可能な積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、炭素、及び非金属元素（但し、珪素、炭素、及び酸素を除く。）を少なくとも１種類以上含有しており、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、炭素原子、及び前記非金属元素の原子の合計量に対する炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係を示す炭素分布曲線において、下記条件（i）〜（ii）：（i）前記炭素分布曲線が実質的に連続であること、（ii）前記炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有すること、を全て満たすことを特徴とする積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能な積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の積層フィルムは、基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該薄膜層の膜厚方向における該薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の量の比率との関係を示す炭素分布曲線において、（ｉ) 前記炭素分布曲線が極大値と極小値を有すること、（ｉｉ) 前記炭素分布曲線の極大値が５ａｔ％以下であること、（ｉｉｉ) 前記炭素分布曲線において少なくとも１つの１ａｔ％以上の極大値があることを全て満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フィルムを屈曲させた場合でもガスバリア性の低下を十分に抑制可能な積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素、炭素、及び非金属元素（但し、珪素、酸素、及び炭素を除く。）を少なくとも１種類以上含有しており、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係を示す炭素分布曲線において、下記条件（i）〜（ii）：（i）前記炭素分布曲線が実質的に連続であること、（ii）前記炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有すること、を全て満たすことを特徴とする積層フィルム。 （もっと読む）