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Fターム[4F100EJ61]の内容

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【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧0.1Pa以上10Pa以下という環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にガスバリア性を有するガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程と、を備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 (もっと読む)


【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 少なくとも、複数枚のプラスチックフィルムが剥離可能に積層された状態である基材フィルムの最表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧0.1Pa以上10Pa以下という環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にガスバリア性を有するガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程と、を備えてなる製造方法とした。 (もっと読む)



【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧0.1Pa以上10Pa以下という環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にガスバリア性を有するガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程と、を備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 (もっと読む)


【課題】活性化処理がなされた光学フィルム表面を保護するための光学フィルム用表面保護フィルムであって、表面保護フィルムを光学フィルムから剥離する際に発生する剥離帯電量を低減でき、かつ表面保護フィルムを剥離した後の光学フィルム表面の汚染性の問題のない、表面保護フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムおよび粘着剤層を有する表面保護フィルムであって、当該表面保護フィルムの粘着剤層を介して、光学フィルムに取り付けられ、粘着剤層に接する光学フィルム表面は、活性化処理されており、前記表面保護フィルムの粘着剤層は、イオン系帯電防止剤を含有していることを特徴とする表面保護フィルム付光学フィルム。 (もっと読む)


【課題】ポリイミド基板と導電性膜層との間の剥離が防止された積層板を提供する。
【解決手段】ポリイミド基板2の表面をアルカリ性水溶液に接触させることによって、ポリイミド基板2表面にアルカリ処理層を形成するアルカリ処理工程と、前記アルカリ処理層を、金属触媒を含む水溶液に接触させ、前記アルカリ処理層に金属触媒を付与する触媒付与工程と、前記金属触媒が付与された前記アルカリ処理層を、還元処理溶液に接触させ、前記アルカリ処理層に付与された金属触媒を還元することによって、第1の表面処理層3を形成する還元工程と、前記第1の表面処理層3表面にプラズマ処理を行い、第2の表面処理層を形成するプラズマ工程と、前記表面処理層上にシード層5を積層するシード層形成工程と、前記シード層上に金属層6を積層する金属層形成工程と、からなる積層板の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】ポリイミド基板と導電性膜層との間の剥離が防止された積層板を提供する。
【解決手段】ポリイミド基板2の表面をアルカリ性水溶液に接触させることによって、ポリイミド基板表面にアルカリ処理層を形成するアルカリ処理工程と、前記アルカリ処理層を、金属触媒を含む水溶液に接触させ、前記アルカリ処理層に金属触媒を付与する触媒付与工程と、前記金属触媒が付与された前記アルカリ処理層を、還元処理溶液に接触させ、前記アルカリ処理層に付与された金属触媒を還元することによって、第1の表面処理層3を形成する還元工程と、前記第1の表面処理層表面をシランカップリング剤に浸透し、熱を印加し、表面の水分を乾燥させることによって、疎水性を有する第2の表面処理層を形成する第2の表面処理工程と、前記表面処理層上にシード層5を積層するシード層形成工程と、前記シード層上に金属層6を積層する金属層形成工程と、からなる積層板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】加飾樹脂成形品に意匠性を付与するための射出成形同時転写加飾法に用いられる加飾フィルムであって、加飾樹脂成形品の最表面の層として転写される保護層が、電離放射線硬化性樹脂を含有し、かつ保護層が架橋硬化されていても加飾樹脂成形品に良好に転写されると共に、装飾層の転移性を悪化させずに、装飾層と保護層との耐候密着性が良好な加飾フィルムを提供する。
【解決手段】基材11上に、離型層12、保護層13、プライマー層14、及び装飾層15をこの順で積層してなる、射出成形同時転写用の三次元成形加飾フィルム10であって、前記保護層13が、重合性(メタ)アクリレートオリゴマーを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、かつ前記プライマー層14が、2液硬化型であり、そのガラス転移温度Tgが65℃以上であることを特徴とする三次元成形加飾フィルムである。 (もっと読む)


【課題】透明性及び近赤外線遮蔽機能を有する様々な形状の近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂成形体を、物理成膜法などを用いることなく簡便な方法で作製でき、成形時に黄変等の変化が起こらず、且つ近赤外線遮蔽機能を有する微粒子が均一に分散し、優れた近赤外線遮蔽機能を有するポリエステル樹脂組成物を提供する。
【解決手段】近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂成形体を製造するために用いられる近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂組成物であって、ポリエステル樹脂と、平均粒径30nm以下の窒化チタン微粒子と、熱分解温度が230℃以上であって、ポリエステル主鎖に塩基性官能基をもつ分散剤と、を含むことを特徴とする近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】互いに積層状に配置された金属板とセラミック板とを備えた積層材であって、最外側にNiを主成分とする金属板がNi層として配置された積層材を安価に製造することができる積層材を提供する。
【解決手段】積層材1は、複数枚の金属板2,3,31と少なくとも1枚のセラミック板4とが、金属板2,3,31とセラミック板4とが隣接するように、且つ、少なくとも2枚の金属板3,31が互いに隣接するように積層されるとともに、隣り合う金属板3,31どうし、および、隣り合う金属板2,3とセラミック板4とが放電プラズマ焼結法により接合されている。前記少なくとも2枚の金属板のうち最外側に配置された金属板31が、Niを主成分とするNi板である。 (もっと読む)


【課題】金属板とセラミック板との間の界面剥離を防止することができ、更に、製造コストの低減を図ることができる積層材を提供する。
【解決手段】積層材1は、複数枚の金属板2,3と1枚のセラミック板4とが、金属板2とセラミック板4とが隣接するように積層されるとともに、隣り合う金属板2とセラミック板4とが放電プラズマ焼結法により接合されたものである。セラミック板4と隣接する全ての金属板2,3の融点の差が140℃以内である。セラミック板4における金属板2と接合された側の面4aの外周縁4zよりも内側に、金属板2のセラミック板4との接合面2aが位置している。 (もっと読む)


【課題】無接着剤フレキシブルラミネートのタイコート層又はタイコート層と同等の金属又は合金を金属導体層状に形成する。同時に回路配線のファインピッチ化の妨げとなるサイドエッチングを抑制する。
【解決手段】少なくとも一方の面がプラズマ処理されたポリイミドフィルムと、その上に形成されたタイコート層と、該タイコート層上に形成された金属導体層を有し、さらに該金属導体層の上に前記タイコート層と同一成分の層を有することを特徴とする無接着剤フレキシブルラミネート。 (もっと読む)


【課題】従来の方式、構成では不十分であった、密着性、ガスバリア性、耐久性が改善されたガスバリアフィルムを提供すること。
【解決手段】基材となる高分子フィルム1の片面もしくは両面に、表面がOH基で覆われかつ表面の算術平均粗さ(Ra)が3nm以下である密着層2を形成し、その上に原子層堆積法(ALD法)によってセラミック膜3を形成し、さらにその上に膨潤性能を有した保護層4が形成されていることを特徴とするガスバリアフィルムとその製造方法。 (もっと読む)


【課題】多くの製造工程を経ることなく低コストで製造可能であって、薄層で高レベルの防湿性能を発揮でき、かつ、吸湿量の制御が容易である防湿性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも2層の蒸着フィルム1を有し、その層間に少なくとも1層の吸湿層2が挟持されてなる防湿性積層体10である。吸湿層2が、含水率が1%以下のバインダ樹脂と、水分吸着性物質とからなる。蒸着フィルム1が、基材の一方の面に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第1のガスバリア性塗布膜と、物理気相成長法または化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第2のガスバリア性塗布膜と、が順次形成されてなる。 (もっと読む)


【課題】 有機成分を含有する有機珪素酸合物の撥水性連続蒸着膜を有するFFC製造用撥水性離型フィルムを提供する。
【解決手段】 プラズマ化学気相成長法(PE−CVD法)により、プラスチック基材上に炭素含有珪素化合物膜を形成させてなるFFC製造用撥水性離型フィルムにおいて、離型層として、分子内にSi−O結合を含有する有機珪素化合物を蒸着原料とし、前記有機珪素化合物ガスの蒸着時に低酸素ガス雰囲気下で、プラスチック基材上に有機成分を含有するように有機珪素酸化物の連続蒸着膜をプラズマ化学気相成長により成膜させ、有機珪素化合物中の有機成分に基づく撥水性を発現させ、離型性を付与してなるFFC製造用撥水性離型フィルムである。 (もっと読む)


【課題】プラズマ照射処理による表面改質方法において、プラズマ照射処理中に除去が必要となるホモポリマーを形成することのない表面改質方法を実現し、フッ素樹脂とゴムとの接着耐久性に優れた弾性複合材を効率よく製造できる弾性複合材の製造方法および弾性複合材を提供する。
【解決手段】本発明の表面改質方法においては、フッ素樹脂を主成分とする基体の表面に、シランカップリング剤の存在下でプラズマ照射処理を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸化珪素膜表面性状を制御することにより、高温高湿環境下で試験を行ってもバリア性が劣化しないガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム基材1の両面または片面に酸化珪素膜2を積層してなるガスバリア積層体において、白色干渉計(SWLI)によって測定される前記酸化珪素膜表面の1平方mmあたりの高さ0.2μm以上の突起数が600個以下の範囲内であり、好ましくは前記酸化珪素膜表面の1平方mmあたりの高さ0.3μm以上の突起数が400個以下の範囲内であり、前記酸化珪素膜表面の1平方mmあたりの高さ0.5μm以上の突起数が250個以下の範囲内であり、前記酸化珪素膜表面の1平方mmあたりの高さ0.7μm以上の突起数が150個以下の範囲内である、ガスバリア積層体。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性および耐久性の良好な光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材1の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成することと、第1の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜33を物理的蒸着により形成することとを有する。透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第1の化合物群に含まれる少なくとも1種を含む第1の気体をイオン化することを含む。 (もっと読む)


【課題】耐熱性・耐光性に優れ、熱や光による黄変を生じることなく、高い反射率を維持できるものであって、金属箔層と光反射性を有する弾性体層とが化学的に強固に結合されており、さらにその弾性体層と基材とが化学的に強固に結合して基板を形成することができる金属箔付き反射シートを提供する。
【解決手段】金属箔付き反射シートは、光反射剤11の粒子を分散しつつ含有している弾性ゴム製でありその被接着面側表面に水酸基を有する弾性体層12と、水酸基を被接着面側表面に有する金属箔層13とが、互いのそれら水酸基を介して共有結合しつつ、積層して接着しているものである。 (もっと読む)


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