【課題】ロール金型表面の全周において光学フィルムの品質上問題となるような不連続部分のないシームレスな微細パターンを形成することができるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】円環基板の外周面上にマスター原版型のパターンの反転形状を繰り返し転写して円環マスターを作製し（ステップＳ２）、その円環マスターを用いて、円環状の内周面にパターンが転写された電鋳マスターを作製し（ステップＳ３）、その電鋳マスターの内周面に電気メッキによって金属層を析出させることにより、円環状の外周面にパターンを有するロール金型を作製する（ステップＳ４）。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを備えた成形部材と、剥離性とパターンの自立性という背反する要求に応えた成形部材の製造方法。
【解決手段】第１配設工程にて、モールド１の主面１ａに凹凸構造２が位置する領域を含むように設定された第１領域１１に転写材料２１を配設し、第２配設工程にて、第１領域の周囲に位置するようにモールドの主面に設定された第２領域１２の所望の領域に上記転写材料と接触するように転写材料を配設し、硬化工程にて、第１配設工程で配設した転写材料を硬化することにより凹凸構造の凹部に位置するパターンと該パターンと一体化されモールドの主面上に位置する接合部を形成し、第２配設工程で配設した転写材料を硬化することにより周辺部を形成し、離型工程にて、周辺部に剥離力を作用させて周辺部から接合部方向に引き離す。上記で使用する転写材料を、パターンと接合部の弾性よりも周辺部の弾性を大きくすることができるものとする。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントリソグラフィーにおいて従来使用されているF-SAMと遜色ない離型性を有し、耐久性の点でさらにすぐれている離型処理方法および離型膜を提供する。
【解決手段】 ナノインプリント用モールドの表面に設ける離型膜として、ポリジメチルシロキサン（PDMS）薄膜を使用する。上記のポリジメチルシロキサン薄膜は、ポリジメチルシロキサンの片側末端にシランカップリング基が結合した化合物を用いてモールド表面に成膜するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】凹凸のピッチが５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である転写用パターンの凹部においてノッチ量を低減することができる成形型の製造方法を提供する。
【解決手段】母材１の表面上にＳｉ膜２，４，６とＳｉＯ_２膜３，５，７とを交互に積層した積層膜１０を形成し、その積層膜１０上に、凸部１５ｂの形状に対応する形状のハード膜マスク１１Ａを形成する。このハード膜マスク１１Ａをマスクにして、積層膜１０の膜２〜７に対して上層から下層に向かってそれぞれ異方性ドライエッチングの処理を行うことで凹部１５ａ及び凸部１５ｂが繰り返し連続した転写用パターン１５を形成する。その後、ハード膜マスク１１Ａを除去することで成形型１００の製造が終了する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レンズスタンプの製造方法及びこれにより製造されたレンズスタンプに関する。
【解決手段】本発明は、レンズの球面と対応する球面を有するレンズマスターの表面に樹脂を塗布する樹脂塗布段階と、前記レンズマスターの表面にモスアイパターンを有する転写用テンプレートをインプリンティングし、前記レンズマスターの球面にモスアイパターンを転写するパターン転写段階と、前記レンズマスターの表面を電鋳成形し、前記レンズマスターの球面と対応するようにモスアイパターンが形成された溝面を有するレンズスタンプを製作するスタンプ成形段階と、を含む。本発明によると、レンズの成形工程時、前記レンズの球面に反射防止部を同時に成形することができるため、レンズの製造コストを低減し、レンズの生産性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】合成樹脂製の成形品のリブの裏側の意匠面にテカリが目立たない成形金型の製造方法およびその成形品を提供する。
【解決手段】一方の面にシボが形成されて意匠面となり、その裏面にリブが形成される合成樹脂製の成形品の成形金型３の製造方法である。キャビティ壁面３０にシボに対応する凹部３１と凸部３２がエッチング加工により形成され、次に、凹部３１と凸部３２の表面に中凹凸３３がサンドブラスト加工により形成され、次に、凸部３２の表面に小凹凸３４がサンドブラスト加工により形成される。また、この成形金型３により製造され、山部２１および谷部２２と、山部２１の表面に形成される中凹凸２３と、谷部２２の表面に形成される小凹凸２４と、で形成されるシボを有する成形品である。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム基材の腐食を抑制できるナノインプリント用モールドの製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム基材１０の表面に、複数の細孔６２を有する陽極酸化アルミナ６４が形成されたナノインプリント用モールドを製造する方法であって、アルミニウム基材の表面を陽極酸化して複数の細孔６２を有する酸化皮膜６４を形成した後、該酸化皮膜の少なくとも一部を処理液中で除去する除去工程を有し、除去工程にて、アルミニウム基材と接触する部材の、該アルミニウム基材と接触する部分の材質が、前記アルミニウム基材と同じ材質である、ナノインプリント用モールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面に形成された微細凹凸構造を転写するインプリント法に用いられる金型の細孔の深さのバラツキが抑えられた金型を製造できる方法、およびこれより製造された金型の提供。
【解決手段】円筒状のアルミニウム基材３０を電解液中で陽極酸化して、外周面に複数の細孔を有する陽極酸化アルミナが形成された金型を製造する方法であって、アルミニウム基材３０の内周面に電解液を接触させないように陽極酸化する、金型の製造方法、およびこれより製造された金型。 （もっと読む）

【課題】互いに屈曲する形で配された第１板部と第２板部の双方に亘って第１成形品と第２成形品との境界部分が形成された多色成形品を成形可能な多色成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】トリムボード２０は、第１成形品３０と第２成形品４０との境界に沿って延設された溝部２３が主面部２１と立壁部２２に亘って延びる形で形成されるものであり、第１成形空間９１に溶融樹脂を射出して第１成形品３０を成形する第１成形工程と、第２成形空間９２に第１成形品３０とは異なる色の溶融樹脂を射出して第２成形品４０を成形する第２成形工程と、を備え、第１成形工程においては、溝部２３の延設方向に沿って延びる延設面７１Ａを有するスライド型７０を、主面部２１及び立壁部２２によって構成される屈曲面の延設方向に移動させることで、延設面７１Ａによって第１成形空間９１における第２成形空間９２側の開口を閉塞した状態とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細構造物が表面に形成された小型のスタンパが繋ぎ合わされて、かつ、スタンパ間の継ぎ目における微細構造物のピッチずれを抑制可能とする大判の微細構造物成型スタンパ及びそれを用いた微細構造物成型シートを提供する。
【解決手段】円盤状シート１１の上面に多数の小型微細構造物１２を同心円状、或いは螺旋状に形成し、更に、その最外周となる４つの隅部に、大型微細構造物１３を形成する。そして、４つの大型微細構造物１３に沿って円盤状シート１１を切断することにより、矩形状シート７２を形成し、更に、複数の矩形状シート７２を平面的に接続して広面積シート７３を作製する。従って、円盤状シート１１の切断位置を高精度に設定することができ、接続部分において小型微細構造物１２の周期性を保持することができる。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凸状部分の頂部を含む当該頂部の近傍領域に、前記除去工程（Ｓ６）での前記エッチングによる前記凹凸パターンのパターン消失を抑制する形状の保護膜を、化学的成膜処理により形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備える。 （もっと読む）

【課題】離型層としての堆積膜を表面に有するモールドの製造において、モールドの製造におけるスループットをより向上させることを可能とする。
【解決手段】離型層１４としての堆積膜を表面に有するモールド１の製造において、堆積性ガス５ａ・５ｂを含むエッチングガスを用いて、石英基板１０およびマスク層Ｍからなる構造体に所望の形状の凹凸パターンが形成されるとともに、堆積性ガス５ａ・５ｂの堆積物からなる堆積膜がこの凹凸パターンに沿って形成されるように石英基板１０をプラズマエッチングする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、所望の反射防止機能を有する反射防止フィルムを製造可能とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法、上記製造方法により製造された反射防止フィルム製造用金型および反射防止フィルムの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、表面に複数の微細孔が形成された反射防止フィルム製造用金型の製造方法であって、表面がアルミニウムからなる金属基体を用い、陽極酸化法によって上記金属基体の表面に上記複数の微細孔を形成して反射防止フィルム製造用金型を形成する陽極酸化工程と、上記陽極酸化工程で得られた反射防止フィルム製造用金型表面の正反射率を測定し、上記正反射率が所定の検査基準を満たすものであるか検査する検査工程とを有し、上記検査基準は、上記正反射率が７０．９％〜７８．２％の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】 テンプレート領域内において光硬化樹脂に均一な光強度の光を照射することができるインプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係るインプリント用テンプレートは、第１の基板を持ち、前記第１の基板の主面上に第１の凹凸パターンを有する第１の光硬化樹脂が設けられる。前記第１の基板の主面上に前記第１の凹凸パターンとはパターン密度が異なる第２の凹凸パターンを有し、かつ前記第１の光硬化樹脂と異なる光透過率を有する第２の光硬化樹脂が設けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置などのディスプレイの光源からの照明光路制御用光学レンズシートに関するものであって、その表面を形成している単位となる光学レンズが規則的に配置されている場合、液晶パネルの画素と光学レンズが干渉してモアレを生じ易いという問題と、その単位となる光学レンズの表面形状によっては、耐擦傷性や輝度の低下を生じるという問題があり、それらの解決を課題とする。
【解決手段】単位となる光学レンズの表面に、その単位寸法より微細な寸法の微細凹凸部を、３箇所以上で前記表面に沿って、前記表面を覆うように設けることにより、前記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】観察位置とは異なる位置から所定の模様を視認できるスクリーン及び当該スクリーンを製造するためのスクリーン成形型の製造方法を提供すること。
【解決手段】光が入射される入射面３１に、当該光を反射させる凹状のレンズ要素４Ａが複数配列されたスクリーン３であって、それぞれのレンズ要素４Ａに形成され、入射された光を第１方向に反射させる第１反射領域（有効反射領域ＡＲ）と、第１反射領域以外の位置に形成され、入射された光を第１方向とは異なる第２方向に反射させる第２反射領域と、を有し、第２反射領域には、第１方向に正対する位置とは異なる位置から入射面３１を観察した際に視認可能な模様が形成されている。 （もっと読む）

【課題】表面に微細な凹凸形状が継ぎ目なく形成された、機械強度に優れたロール状モールドとその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極酸化ポーラスアルミナの規則的な細孔配列を利用して形成された凹凸形状が、表面に継ぎ目なく形成されている連続インプリント用ロール状モールドと、それを作製するために、表面にホールアレー構造またはピラーアレー構造を有するロール状モールドの作製には、陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成したパイプまたは丸棒形状のアルミニウム材を鋳型として用い、陽極酸化ポーラスアルミナ層の細孔内へ物質の充填を行い、鋳型を溶解除去することで、細孔配列が転写されたロール状モールドを製造できる。得られたロール状モールドは、ポリマー等の基板表面に継ぎ目なく微細なパターンを連続転写するためのインプリント用モールドとして使用できる。 （もっと読む）

【課題】十分な耐圧強度を有しながらバルーン直管部、及びバルーンテーパー部が均一に薄肉であり、屈曲した血管の狭窄部への挿入を容易にする柔軟性を兼ね備えたバルーンを提供する。
【解決手段】バルーンを成形する金型１０において、バルーンの直管部、またはその一部に相当する金型内壁３０の摩擦係数をバルーンのテーパー部、またはテーパー部とそれと連続する直管部の一部に至る部分に相当する金型内壁の摩擦係数よりも大きくした。 （もっと読む）

【課題】従来にない新規な手法によりパターン形成層を硬化させ、モールドの凹凸パターンを転写し得る微細構造体及びその製造方法を提案する。
【解決手段】転写部２となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド５の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。かくして、本発明の微細構造体１の製造方法では、熱インプリント方式や、光インプリント方式とは全く異なる電離放射線Rによりパターン形成層2aを硬化させるインプリント方式であり、従来にない新規な手法によりパターン形成層2aを硬化させ、モールド５の凹凸パターンを転写し得る。 （もっと読む）

【課題】高い精度で安定したパターン形成が可能であり、取扱い性にも優れたモールドと、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールド１の一方の面をパターン形成用の凹凸構造領域２を有するパターン形成面１Ａとし、他方の面をベース面１Ｂとし、少なくともパターン形成面１Ａおよびベース面１Ｂにポリジメチルシロキサン層を備えたものとし、パターン形成面１Ａに位置するポリジメチルシロキサン層３を、低分子量シロキサンを［−Ｓｉ（ＣＨ₃）₂Ｏ−］_k（ｋは３〜２０の整数）で表される環状構造としたときに、低分子量シロキサンの含有量が２０００ｐｐｍ以上である高含有率ポリジメチルシロキサンからなるもの、ベース面１Ｂに位置するポリジメチルシロキサン層４を、上記の低分子量シロキサンの含有量が１０００ｐｐｍ以下である低含有率ポリジメチルシロキサンからなるものとした。 （もっと読む）