【課題】発光素子からより効率よく光を取り出すことのできるマイクロレンズアレイを、簡便な工程で成型する。
【解決手段】両面に異なる大きさの凹凸を有するマイクロレンズアレイを成型することとした。また樹脂シートおよび樹脂ペレットを併用して、両面で異なる大きさの凹凸を有するマイクロレンズアレイを成型することとした。具体的には第１のレンズ面を形成する第１の凹凸構造が複数設けられた第１の金型と、第１の金型の該凹凸構造の１０万分の１以上５分の１以下のピッチを有する第２のレンズ面を形成する第２の凹凸構造を複数有する第２の金型との間に、レンズ成形材として、第１の金型側から、樹脂ペレット及び樹脂シートをこの順に配置し、加熱プレス処理により樹脂ペレットと樹脂シートとを融合させ、第１のレンズ面と、該第１のレンズ面の裏面側に第２のレンズ面とを有する樹脂構造体を成形する。 （もっと読む）

【課題】配線パターンをバイアホールと共に形成することを可能とするインプリントモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】インプリントモールドの製造方法は、面方位が｛１１０｝である主面３１ａを有するデバイス層３１と、ハンドル層３３と、デバイス層３１とハンドル層３３との間に積層されたＢＯＸ層３２と、を有するＳＯＩウェハ３０を準備する準備工程Ｓ１０と、少なくともデバイス層３１をウェットエッチングすることで、角柱１３を形成する角柱形成工程Ｓ２０，Ｓ３０と、少なくともハンドル層３３をドライエッチングすることで、角柱１３を支持する凸部１２を形成する凸部形成工程Ｓ４０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】層形成ブレードへのトナー粒子の固着を長期に渡って抑制できるとともに、画像をきめ細かくできる電子写真機器用現像ロールを提供すること。
【解決手段】軸体１２と、軸体１２の外周に形成されたゴム弾性層１４と、を備えた現像ロール１０において、ゴム弾性層１４の表面には、型転写により、径φ_１に対する高さｈの比（ｈ／φ_１）が０．５以上の凸部１６ａが多数形成されており、多数の凸部１６ａが形成されたゴム弾性層１４の表面には、さらに、トナー離型性を高める表面改質が施されている。 （もっと読む）

【課題】金属配線と配線基板の密着性の向上を図ることができるインプリントモールドを提供する。
【解決手段】基材２と、所定のパターンを転写可能とする基材２の主面表面に形成された凸部４とを備え、凸部４の頂部４１の周縁部４２の少なくとも一部に溝４５が設けられているインプリントモールド１。 （もっと読む）

【課題】シームレスな凹凸パターン形成モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は表面上に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成モールドを製造する方法であって、予め形成された凹凸パターン形成シート10の3次元データを計測する工程と、その計測データを元に、金属、金属化合物、樹脂の少なくとも１種からなる表面上に、切削加工により、前記凹凸パターン形成シート10と同等または相似形の凹凸パターンを形成する工程とからなることを特徴とする凹凸パターン形成モールドの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】光学シートを形成するのロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート１０の凹凸部分を成形するロール金型２０を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体２１を回転させ、切削工具３０により光学シートの凹凸に対応する溝２３を形成させる工程を含み、溝を形成させる工程では、切削工具による切り込みは、切削工具のバイト角度のうち、送り方向後ろ側となるバイト角度と同じ角度となるように送りつつロール基体の回転軸に近付ける方向に行われることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サブミクロン（１μｍ以下）のサイズのパターンを持つシームレスモールドを高い生産性・量産性で得ること。
【解決手段】本発明のモールドのエッチング装置は、真空槽中に配置されたスリーブ形状のモールド（１５）と、前記真空槽中の前記モールド（１５）の表面に対向する位置に配置された円筒形状の対向電極（２２）と、を具備し、前記モールド（１５）に高周波を印加させ、前記対向電極（２２）を接地して前記モールドをエッチング処理するエッチング装置であって、前記エッチング処理の際、前記モールド（１５）を回転させないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】浸透性の高い活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて転写を行う場合でも、被転写体から容易に剥離できるレプリカモールド、およびこのレプリカモールドを用いて製造した微細凹凸構造を表面に有する成形体とその製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレプリカモールド１０は、隣り合う凸部１６の平均間隔が４００ｎｍ以下の微細凹凸構造を表面に有し、前記微細凹凸構造が、硬化後の表面自由エネルギーが３９ｍＪ／ｍ^２以上である活性エネルギー線硬化性樹脂（α）を（１００−Ｙ）質量％と、シリコーンアクリレート（β）をＹ質量％含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（Ｉ）の硬化物１４からなり、前記活性エネルギー線硬化性樹脂（α）の硬化後の表面自由エネルギーをＸｍＪ／ｍ^２としたときに、ＸとＹが式（−０．６６Ｘ＋３０≦Ｙ（ただし、３９≦Ｘ＜４３．４））または（０．２≦Ｙ（ただし、４３．４≦Ｘ））を満たす。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】ソリを抑えながら幅広化のダイヘッド本体にＤＬＣ層を設ける。
【解決手段】ドープが流通する流路が設けられた流延ダイは、ダイ本体を備える。ダイ本体の上部には流路の入口が開口する。ダイ本体の下方先端部には流路の出口が開口する。ダイ本体は１対の側板と１対のリップ板とを有する。流路は１対の側板と１対のリップ板とによって囲まれてなる。リップ板は、流路の入口の構成部材であるリップ板本体と、出口の構成部材であるダイヘッド８２とからなる。ダイヘッド８２はボルトによりリップ板本体と締結可能である。ダイヘッド８２は、楔形のダイヘッド本体８５とダイヘッド本体８５の表面全体に設けられたＤＬＣ膜８６からなる。ＤＬＣ膜８６は、イオン蒸着法によりダイヘッド本体８５に設けられる。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】 大面積のパターンでも熱膨張の影響を受けにくい型を提供すること。
【解決手段】 樹脂、特に好ましくはインプリント技術により成型可能な樹脂からなり被成形物200に転写するための成型パターン１ａを有する成型層１と、樹脂の熱膨張係数より低い材料、例えば金属からなる基層２とを有し、被成形物200の被成形面に対し可撓性を有するフィルム状に形成されるインプリント用型。基層２と成形層１の間に基層２及び成形層１の両方と結合する材料からなる中間層を有していても良い。 （もっと読む）

【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置において、装置の大型化を抑制する。
【解決手段】凸部Ｗ２を形成するための凹部Ｍ３を備えた型Ｍ１を保持し、この保持した型Ｍ１を水平方向で移動位置決めする型保持部７と、基板Ｗ１を保持し、この保持した基板Ｗ１を上下方向で移動位置決めする基板保持部９とを有するマスター型製造装置１である。 （もっと読む）

【課題】従来の成形方法では、微細な回折構造を有する対物レンズを安定して成形することができなかった。
【解決手段】青色レーザを用いた光ピックアップ装置に搭載され、表面に微細構造を有する対物レンズの製造方法であって、二酸化炭素の含浸率が０．５〜１．５ｗｔ％の樹脂材料を射出成形装置に供給する供給工程と、前記供給された樹脂材料を金型内に射出し、レンズ形状に成形する成形工程と、を備える。このような構成により、微細構造を有する対物レンズを安定して成形することができる。 （もっと読む）

【課題】４０ｎｍ以下のパターンピッチのナノインプリント金型を簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】
本発明によるナノインプリント金型の製造では、ＳｉＯ_２層を設けたＳｉ基板に、集束イオンビームを用いて所望の位置に金属を堆積し、この基板を加熱して、堆積した金属を凝集させて、ナノインプリント金型のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置およびマスター型製造方法において、マスター型を製造するときにマスター型への微細な塵等の混入を防ぎ、マスター型での不良の発生を抑制する。
【解決手段】凸部Ｗ２を形成するための凹部Ｍ３を備えた型Ｍ１を、凹部Ｍ３が上方を向くように保持し、この保持した型Ｍ１を水平方向で移動位置決めする型保持部７と、型保持部７で保持された型Ｍ１の上方で、凸部Ｗ２が形成される面が下方を向くように基板Ｗ１を保持し、この保持した基板Ｗ１を、型保持部７で保持された型Ｍ１に対して相対的に上下方向で移動位置決めする基板保持部９とを有するマスター型製造装置１である。 （もっと読む）

【課題】模型の抜き取り時に凹凸模様形成部材が模型の表面から剥がれることがない成形用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、模型３０の表面３１の全面又は所定範囲に凹凸模様形成部材４０を貼り付け、該模型３０から反転型５０、該反転型５０から成形用金型１０，２０を製造するにあたり、凹凸模様形成部材４０として、凹凸模様を有する原版（例えば、金網）Ｄの上に敷かれた合成樹脂シート４０’を平滑な表面を有するプレス板Ｂを用いてプレスしたものを用い、該凹凸模様形成部材４０を凹凸模様が転写された凹凸面４１と反対の平滑面４４側で模型３０の表面３１に貼り付けるようにする。 （もっと読む）

【課題】表面修飾が可能な、基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、繰り返しの使用に耐えうる樹脂モールドの提供。
【解決手段】第一面と該第一面と反対側に位置する第二面とを有するフィルム基材の該第一面に微細凹凸構造を有するナノインプリント用の樹脂モールドであって、該樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）に対する該樹脂モールドの微細凹凸構造の表面部のフッ素元素濃度（Ｅｓ）の比が、下記式（１）：
１＜Ｅｓ／Ｅｂ≦３００００ （１）
を満たし、かつ、該樹脂モールドを構成する樹脂中にシリコン元素を含有することを特徴とする前記樹脂モールド。 （もっと読む）

【課題】高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビットパターンドメディアにおいて磁性体領域の元となるドット状の凸部が基板の主表面に形成されており、前記ドット状の凸部が前記基板の主表面において所定の方向に一定周期で形成されているインプリントモールドにおいて、前記ドット状の凸部は、前記基板の主表面を削って形成された、複数の連続的な平面視ライン状の溝が交わってなる格子状の溝部に囲まれることによって形成され、前記一定周期において、前記ライン状の溝の幅は、前記ドット状の凸部の幅よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）