【課題】高い離型性を有し、かつ簡単に再現可能であるとともに、微細パターンの形状保持性に優れたインプリント用モールドおよびその製造方法、並びに微細構造の製造方法を提供することである。
【解決手段】微細パターン２を表面１ａに有する表面層１と、この表面層１の裏面１ｂを支持する支持層５とを備え、表面層１が紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなるインプリント用モールド１０およびその製造方法である。モールド１０を用いて微細構造を製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】加工性を向上できる金属構造体の製造方法および金属構造体を提供する。
【解決手段】金属構造体の製造方法は、以下の工程を備えている。基板上にパターン１２ａを有する樹脂型を形成する。樹脂型のパターン１２ａを覆うように金属層１３を形成する。炭酸ガスレーザを照射することにより、樹脂型を除去する。樹脂型を形成する工程は、基板を被覆するように樹脂層を形成する工程と、樹脂層上に、パターンを有するマスクを配置し、マスクのパターンを介してレーザを照射することにより、樹脂層の一部を除去する工程とを含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ナノ構造体作製用型体の陽極酸化皮膜の膜厚を調整することで、耐傷性や耐久性等を有するナノ構造体作製用型体とそのナノ構造体作製用型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ナノ構造を利用したナノ構造体を作製するための型体であって、アルミニウム材料の表面に陽極酸化皮膜が形成されたものであり、該陽極酸化皮膜は、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下でポアを有し、該ポアは、テーパー形状部とその下部にある細孔形状部とからなり、該テーパー形状部は、陽極酸化皮膜の表面では広く開口しており、深部に入るに従って徐々に細くなっていくテーパー形状となっており、該細孔形状部は、実質的に等しい径の細孔形状となっており、該テーパー形状部を有するテーパー形状層の下側に連続して細孔形状部を有する細孔形状層を有することを特徴とするナノ構造体作製用型体。 （もっと読む）

【課題】成形金型の手直しや成形後の塗装を必要とせず、簡単に白ボケの発生しないシボを有する樹脂成形品を製造する。
【解決手段】本発明に係る樹脂成形品の製造方法は、所定表面にシボ２を設けた樹脂成形品１を射出成形で製造するに際し、シボ２を構成する凸部３の凹部４底面からの立ち上がり角度θ、および、シボ２の凹凸最大高さｄに対する凹凸平均高さｒの比と、シボ２に現れる白ボケの程度との相関をそれぞれ取得する相関取得工程と、相関取得工程で求めた相関に基づき、凸部３の凹部４底面からの立ち上がり角度θ、および、シボ２の凹凸最大高さｄに対する凹凸平均高さｒの比を、シボ２に白ボケが見られない範囲に設定する最適値設定工程と、最適値設定工程で設定したθ，Ｒ（＝ｒ／ｄ）の値に基づきシボ２を設計するシボ設計工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法及びパターン形成体を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、基板上に第１層目のハードマスク層１２、エッチストッパ層１３、第２層目のハードマスク層２２を形成し、該ハードマスク層及びエッチストッパ層をパターニングし、該ハードマスク層をエッチングマスクとして基板１１に異方性エッチングを行う。複数の段差を備えた微細な３次元構造パターン形成方法及びパターン形成体。 （もっと読む）

【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が９５％以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 （もっと読む）

【課題】インプリント材を適切な位置に滴下すること。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、インクジェットヘッドからインプリント材が滴下される基板を載置するステージと、前記基板上のインプリント材に押し付けられるテンプレートと、の間の前記ステージ面内の回転方向の位置ずれ量を、テンプレート位置ずれ量として検出する。前記ステージの移動方向と、前記インクジェットヘッドに設けられている複数からなるノズルのノズル列方向と、の間の前記ステージ面内の回転方向の位置ずれ量をノズル位置ずれ量として検出する。そして、前記テンプレート位置ずれ量および前記ノズル位置ずれ量に起因して生じる前記インプリント材の滴下位置の位置ずれを解消するよう、前記ステージの移動方向を制御するとともに、前記各ノズルから吐出するインプリント材の吐出タイミングを制御する。 （もっと読む）

【課題】表面が曲面形状または凹凸 形状を有する基板上に、平滑性の高い被エッチング層と熱反応型レジスト材料を積層した積層体を設けることを目的の一つとする。
【解決手段】曲面形状または凹凸形状の基板上に、フロン系ガスを用いたドライエッチング処理に用いられ、且つ元素群Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂから少なくとも１種類を含む元素及びその酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、セレン化物、シリサイドのいずれかから選択されるドライエッチング材を含むドライエッチング層と、前記ドライエッチング層の上に熱反応型レジスト層とを積層する。 （もっと読む）

【課題】高精度な位置合わせを弊害なく実現する。
【解決手段】実施形態に係わるナノインプリント用テンプレートは、同一面に転写パターン１６ａ及びアライメントマークＡＭ２を備え、アライメントマークＡＭ２は、偏光子又は位相差フィルム１７により構成される。そして、ナノインプリント技術による基板上へのパターン転写時に、偏光を用いることにより、又は、光の位相差を検出することにより、基板とナノインプリント用テンプレートとの位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】 表面に凹凸模様を有する媒体の艶ムラを除去するための艶ムラ除去用ノイズデータ生成装置、艶ムラ除去装置等を提供する。
【解決手段】 制御部１１は、入力されたハイトフィールド２について所定の評価条件における各画素の輝度値を算出し、媒体表面全体としての輝度値の不均一性が低減するよう各画素の輝度値に応じたノイズデータを生成し、出力する。ノイズは、例えばノイズオブジェクトの大きさ及び深さを固定し、密度を変数とすれば輝度値の調整に利用できる。ノイズ付与前後の輝度値とノイズ密度との関係を予め定義したノイズ付与テーブル１００を予め生成して記憶部１２に記憶しておき、ノイズ付与テーブル１００に定義された範囲でノイズ付与後に全画素の輝度値が均一となるような目標画素値を決定し、ノイズ付与テーブル１００から各画素に付与すべきノイズ密度を求め、ノイズデータ６を生成する。 （もっと読む）

【課題】目標とする形状に変形させるのに有利な原版を提供する。
【解決手段】転写されるパターンを有する原版であって、この原版は、負の実効ポアソン比を有する。又は、この原版は、石英板の実効ポアソン比より小さい実効ポアソン比を有する。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ ｔｏ Ｎｉ電鋳において、再現性よく凹凸パターンの良好なＮｉ複盤の形成を可能とし、かつ１００ｎｍを切るスケールにおいても適用可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤１２において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層１４を備える。フッ素化合物はパーフルオロポリエーテルが好ましい。 （もっと読む）

【課題】所望の形状のマイクロニードルが構成されたマイクロニードルシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロニードルシート４２は、中央部Ａｃ”と、当該中央部Ａｃ”を取り囲む側周部Ａｄ”と、側周部Ａｄ”を取り囲む外縁部Ａｏ”とを含むシート状の基材２７と、中央部Ａｃ”より第１の所定長だけ延在する所定数のニードル２８と、側周部Ａｄ”より第１の所定長より短い長さだけ延在する１つ以上の突起Ｐとを備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、壜体に「凸レンズ」として機能する膨出部分を形成した際に、当該膨出部分を透過した光が意図せず集光することを防ぎ、安全性の高い壜体を提供することを目的とする。
【解決手段】
光透過性のある有底筒状胴部の前後に対向した側壁の、一方の側壁に表示部分を有するラベルを配置し、他方の側壁に該ラベルの貼着面の表示部分が側壁を透過して目視し得る球弧殻形状である膨出部を形成した合成樹脂製ブロー成形壜体に、前記一方の側壁のラベルが貼着されていない部分に、前記膨出部の透過光が一点に集光することを防ぐための集光分散部を形成した。 （もっと読む）

【課題】高い防眩効果を示しながら、白ちゃけを防止し、画像表示装置に配置してギラツキが発生せず、コントラストの低下がない防眩フィルムの凹凸形状を有する金型を製造し、その金型を用いて、優れた防眩フィルムを製造する。
【解決手段】金型用基材１の表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に平坦部と凹部３からなる第１凹凸面４を形成する第１凹凸面形成工程と、第１凹凸面をエッチング処理によって鈍らせて第２凹凸面１１を形成する第２凹凸面形成工程と、形成された第２凹凸面にクロムめっきを施すめっき工程とを含み、第１凹凸面における平坦部の占める面積をＡ（％）とし、凹部の平均深さをＢ（μｍ）とし、凹部の中心間直線距離の平均値をＣ（μｍ）とし、第２凹凸面形成工程におけるエッチング深さをＤ（μｍ）としたときに、特定の条件を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法ならびに当該金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド１を、基体２と、この基体２の一方の面２ａに位置する転写形状部３と、少なくとも転写形状部３上に位置する濡れ性変化層４とを備えたものとし、濡れ性変化層４は第１の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第２の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 （もっと読む）

【課題】基板表面にナノオーダーの微細な凹凸面のナノ構造を有する光学素子用成形型、同ナノ構造を有するセンシングチップ用光学素子及び同ナノ構造有する蛍光測定用光学素子を実現する。
【解決手段】基板２上に１層以上のエッチング転写層３を形成し、このエッチング転写層３上に半球状の微粒子生成用の薄膜４を形成し、熱反応、光反応、ガス反応のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、薄膜４に、その物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせて、半球状の島状微粒子５を複数、形成し、複数の島状微粒子５を保護マスクとしてエッチング転写層３及び前記基板２を反応ガスによって順次エッチングして、基板２の微細な表面に錐形状のパターンを形成して、基板２表面に微細な凹凸面（ナノ構造型面）１’を有する光学素子用成形型１を製造する。 （もっと読む）

【課題】電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する
【解決手段】レジストパターン２を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜３を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線４を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高速搬送によってエンボス形成した場合に発生する同伴エアーを低減させ、低速搬送時と同一形状を有するエンボスを形成する。
【解決手段】マットローラ３１と、フィルムＦをマットローラ３１と挟持して搬送することで、フィルムＦにエンボスを形成するエンボス形成ローラ３２と、マットローラ３１とフィルムＦとの間に発生する同伴エアーを緩和させるエアー緩和手段とを備え、エアー緩和手段を、表面粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ≦Ｒａ≦１０μｍで規定されるマットローラ３１で構成した。 （もっと読む）