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Fターム[4F209AB04]の内容

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Fターム[4F209AB04]に分類される特許

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【課題】光硬化後に短時間且つ簡便に離型することができ、離型力が小さい硬化性組成物を提供する。また、離型力が小さいパターン形成方法を提供する。
【解決手段】硬化用組成物は、重合性モノマーと重合開始剤とを有し、前記重合開始剤が前記重合性モノマーの重合を開始させ、前記重合性モノマーが重合することで硬化する硬化性組成物において、前記硬化性組成物は圧力を受けてガスを発生するガス発生剤を更に有する。 (もっと読む)


【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料2が提供される。このような被膜形成材料2を基板1上に形成し、モールド3を押し当て、モールド3の反転パターン3bを転写した被膜2aを形成し、モールド3を被膜2aから引き離す(離型)。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料2を用いることで、離型の際、モールド3への被膜2aの付着が抑制される。 (もっと読む)


【課題】離型力が小さく、発泡による欠陥が少なく、かつ生産性に優れた膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、重合性モノマーと、光刺激によりガスを発生する感光性ガス発生剤と、を含む光硬化性組成物を塗布して塗布膜(被形状転写層1)を形成する工程と、前記塗布膜にモールド3を接触させる工程と、モールド3を介して前記塗布膜に光を照射して前記塗布膜を硬化させると共に前記塗布膜内にガスを発生させる工程と、前記塗布膜に光を照射した後、前記塗布膜からモールド3を離し、基板2上に所定のパターン形状を有する膜(硬化膜11)を形成する工程と、を含み、前記塗布膜に光を照射する工程において、前記塗布膜に含まれる重合性モノマーの重合反応の反応速度が、前記塗布膜に含まれる感光性ガス発生剤のガス発生反応の反応速度よりも速いことを特徴とする、膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】パターン欠陥の少ないパターンを形成可能なインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】(A)重合性化合物および(B)光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物であって、溶剤を除く全成分の合計重量に対する含有水分の割合が0.8重量%未満であるインプリント用硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】 インプリントのために基板上に載置するレジスト膜の膜厚を薄く且つ精度良く制御することができ、パターン寸法精度の向上に寄与する。
【解決手段】 インプリントプロセスを用いたパターン形成方法であって、基板上10に、不揮発性の第1の樹脂成分、揮発性の第2の樹脂成分、及び第1の樹脂成分の硬化反応を促進する結合反応開始材を含むインプリント用のレジスト20を、空間的に離散した状態で載置し、レジスト20中の第2の樹脂成分を揮発させることにより、レジスト20の体積を減少させ、体積減少処理工程後のレジスト20に対して、テンプレート30のパターン面を押印し、テンプレート30のパターン面が押印された状態でレジスト21を硬化させ、レジスト21が硬化した後に該レジスト21からテンプレート30を剥離する。 (もっと読む)


【課題】ある長期間一定の割合で、生物学的に活性な化合物を輸送するための薬物輸送装置の提供。
【解決手段】1)容器を有し、前記容器は、2)少なくとも1つの活性成分と、任意で3)少なくとも1つの薬学的に許容な担体とから構成され、ポリウレタン系ポリマーで覆われている容器。ポリウレタン系ポリマーとしては好ましくは、熱可塑性ポリウレタンと熱硬化性ポリウレタンから選択され、それらは更に好ましくは、マクロジアル(macrodials)、ジイソシアン酸塩、二官能鎖エキステンダー(difunctional chain extenders)、又はそれらの混合物から作られる。 (もっと読む)


【課題】 パターン形成性および耐熱性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】マレイミド構造を有する重合性化合物(Ax)をインプリント用硬化性組成物に配合する。 (もっと読む)


【課題】
凹凸パターンおよび凹凸形状の制御が行い易い凹凸パターン形成方法を提供する。
【解決手段】
基材上に硬化性成分を含む活性エネルギー線硬化性組成物を積層する工程(A)、前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物にマスクを介さずにレーザー光を照射する工程(B)、および前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物を加熱する工程(C)をこの順に有し、
前記工程(B)において、デジタルミラーデバイスを介してレーザー光の照射量をパターン状に変化させ、かつ該パターンがレーザー光の照射量を段階的に変化させながら照射する領域を有することを特徴とする、凹凸パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】表面の微細凹凸構造に欠陥が少ない高品質な物品を、安定的かつ容易に製造できる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有する金型6とフィルム7(基材)との間に活性エネルギー線硬化性組成物を挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、フィルム7の表面に微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層12を形成することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品14を製造する方法であって、活性エネルギー線硬化性組成物として、1分子鎖中におけるジメチルシロキサン構造の比率の低い成分の含有量が高い、ジメチルシロキサン構造とエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性シリコーンオイルモノマーと、他の重合性化合物とを含むものを用い、金型6として、表面積1m当りに付着したタンパク質が1000個以下である金型を用いる。 (もっと読む)


【課題】優れた防汚性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できるナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材の提供。
【解決手段】4官能(メタ)アクリレートモノマー(A)を50〜95質量部、ポリアルキレングリコール構造の繰り返し単位の合計が4〜25の2官能(メタ)アクリレートモノマー(B)を5〜35質量部、前記モノマー(A)、(B)と共重合可能な単官能(メタ)アクリレートモノマー(C)を15質量部以下含む重合反応性モノマー成分100質量部に対して、0.01〜10質量部の活性エネルギー線重合開始剤(D)、0.01〜3質量部の離型剤(E)、0.01〜3質量部の滑剤(F)を含有するナノ凹凸構造用樹脂組成物、および該樹脂組成物を用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材。 (もっと読む)


【課題】パターンを形成する雰囲気にかかわらず、パターン形成性に優れ、かつ、パターンの欠陥が少ないインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)炭素−炭素多重結合を有する化合物、(B)分子量1500以下のSi−H結合を有する化合物、ならびに(C)光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物、または、(AB)分子量1500以下の炭素−炭素多重結合およびSi−H結合を有する化合物、ならびに、(C)光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】インプリント成型硬化体を製造する過程において、インプリント成型硬化体の基材密着性と型剥離性を両立ができるインプリント成型用光硬化性樹脂組成物、基材密着性と型剥離性に優れたインプリント成型硬化体及びこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】ラジカル重合反応性モノマー及び/又はオリゴマー(成分A)と、光ラジカル重合開始剤(成分B)とを含むインプリント成型用光硬化性樹脂組成物であって、
成分A中、光ラジカル反応する官能基を6以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー(成分A1)と、芳香環を有する(メタ)アクリレートモノマー及び/又はオリゴマー(成分A2)(但し、成分A1は除く)の合計の含有量が10〜100重量%であり、成分A1と成分A2の合計中、前記成分A2が0〜90重量%であるインプリント成型用光硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 (A)重合性化合物と、(B)25℃、1atmの条件下においてASTM−D3539に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を1としたとき1〜15の範囲内にある有機溶媒とを含有し、(A)成分100重量部に対して(B)成分を0.01〜10重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】 パターンの転写が容易にでき、該パターンの基板との密着性、及び金型からの離型性が良く、エッチング耐性に優れ、分散性のよい組成物で生産性に優れた光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】 光硬化性ナノインプリント用組成物は、(A)フッ素化有機シラン化合物、メタ)アクリル基含有珪素化合物を含む混合物を加水分解した加水分解物、(B)(メタ)アクリル基を有する重合性単量体、並びに(C)光重合開始剤を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】パターン剥がれを効果的に抑制し、塗布性に優れ、かつ、経時安定性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)重合性単量体、(B)重合開始剤および(C)溶剤を含有する硬化性組成物の製造方法であって、重合性単量体(A)および重合開始剤(B)からなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液(D)を1種類調整し、該液(D)をフィルターに通過させ、その後に、溶剤(C)を加えるか、重合性単量体(A)および重合開始剤(B)からなる群のうち少なくとも1種の化合物を含む液(D)を2種類以上調整し、それぞれの液(D)をフィルターに通過させた後互いに混合したものに、溶剤(C)を加えることを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、スタンパが十分な光の透過性を有しており、微細構造転写時における転写精度に優れ、良好なスループットを発揮することができると共に、スタンパの劣化を防止することができる微細構造転写装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の微細構造転写装置は、第1の波長の光で硬化させた第1の光硬化性樹脂組成物からなるスタンパと、前記第1の波長よりも長い第2の波長の光を発する光源と、前記光源から発する前記第2の波長の光で硬化する第2の光硬化性樹脂組成物が供給された被転写体と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物(A)と、シランカップリング剤(B)と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー(C)と、光重合開始剤(D)と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー(C)以外のラジカル重合性モノマー(E)と、界面活性剤(F)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】接着性、微細パターン形成、離型性に優れた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】基材11、該基材上に設けられた金属層14及び該金属層上に設けられたSiO層15が積層されてなるエッチング層12、並びに該エッチング層上に設けられ、カチオン硬化性樹脂組成物とラジカル硬化性樹脂組成物とを含むレジスト層13を具備する感光性樹脂積層体。該カチオン硬化性樹脂組成物は、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種類のカチオン硬化性モノマーと光酸発生剤を含み、該ラジカル硬化性樹脂組成物は、(メタ)アクリレート誘導体であるラジカル硬化性モノマーと光ラジカル発生剤と所定のウレタン(メタ)アクリレート化合物を含み、該ウレタン(メタ)アクリレート化合物の含有量は、該カチオン及び該ラジカル硬化性樹脂組成物の固形分合計100重量部に対し0.1〜5重量部である。 (もっと読む)


【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が95%以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れた光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)光重合性単量体と、(B)光重合開始剤と、(C)シランカップリング剤と、(D)重量平均分子量が30〜1000である酸とを含む、光硬化性組成物。 (もっと読む)


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