【課題】基板処理のスループットを向上させると共に、基板と塗布膜の密着性を向上することができる基板の処理方法及び基板の処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの表面に形成された密着膜の少なくとも一部の表面に形成された塗布膜に、凹凸パターンが設けられた転写面を備えるテンプレートの転写面を転写するインプリント処理に供するウエハの処理方法であって、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に密着剤を供給する供給工程（ステップＳ−５）と、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に気体を供給して、余剰な密着剤を除去する除去工程（ステップＳ−７）を具備する。 （もっと読む）

【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面１ａを備えるレンズ本体１の凹レンズ面１ａに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型５であって、反射防止部を転写する成形面部５ａと、成形面部５ａを湾曲可能に支持する基体部５と、基体部５を変形することにより成形面部５ａを湾曲させる空洞部６、環状空洞部７、および流体供給部８と、を備える表面加工装置１０を用いて、反射防止部を形成する。 （もっと読む）

【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】消失し難い隠しマークをシンプルに形成可能であるマーキング方法等を提供する。
【解決手段】プラスチックの表面に対し、レーザー光を、マークの形状に対応するように照射して、当該表面のうち当該レーザー光を照射した部分を隆起させることで、当該マークを形成するマーキング方法であって、前記マークの形状に対応する前記レーザー光の照射を複数回行い、少なくとも一部の当該照射を、他の当該照射に対して一部重なるように行う。このようなレーザー光の照射により、マークの幅方向の断面形状が台形状となる。 （もっと読む）

【課題】平面視が種々の形状の無延伸プラスチックからなる包装用成型品について、その開口縁に縁巻き部を形成するのを可能にする。
【解決手段】包装用成型品を、椀型本体の開口縁に巻き代１５を有する無延伸プラスチック製のプレ成型品ｐから作製する。プレ成型品ｐを、その本体が筒形のカーリング型２１ｅ、２２ｄの内側になるように、かつその巻き代１５の先端部がカーリング溝２１ｇ、２２ｆに導入されるようにセットする。カーリング型をヒータ２１ｆ、２２ｅで加熱しながら、カーリング溝２１ｇ、２２ｆがプレ成型品ｐの本体の開口縁に接近するようにスライドさせる。加熱により軟化した巻き代１５がプレ成型品ｐの本体の開口縁に向けて巻き上げられ、縁巻き部が形成される。 （もっと読む）

【課題】基材よりはみ出した被転写材を基材側から取り去る転写型を提供する。
【解決手段】表面に穴を中心に同心円状の複数の凹凸構造１１０を備えた円環領域１０３と円環領域１０３を囲む外部領域１０４及び円領域１０５とを有し、円環領域１０３と、円環領域１０３と同一の大きさであって中心に穴を有する円盤状の基材００１との間に配置された被転写材を挟み押圧することで、被転写材に凹凸構造１１０を転写する転写型１００であって、円環領域１０３、外部領域１０４、及び円領域１０５のそれぞれは、被転写材を円環領域１０３から離型させた時点で外部領域１０４及び円領域１０５に被転写材が接着している離型性を有する。 （もっと読む）

【課題】溶液処理による配向下地層表面の汚染が無く、エッチングに起因する基板の凹部底面の面状低下の影響が無く、高記録密度の磁気記録層を高品質に維持できる磁気記録媒体、及び簡便にパターン形成した磁気記録層を基板上に形成することができる磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂層形成工程と、凹凸部を表面に有するモールド構造体を樹脂層表面に押し当てて凹凸部を樹脂層へ転写するインプリント工程と、樹脂層に形成された凹凸部における凹部底面に残存する樹脂膜をドライエッチングにより除去し、該凹部に対応する基板表面を露出させ凸部樹脂層のみを基板上に残す残膜除去工程と、凹部に対応する基板表面に凸部樹脂層の凸部高さの半分以下の厚みとなるように磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程と、磁気記録層が付着した凸部樹脂層を除去する凸部樹脂層除去工程と含む磁気記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】被加工基材の端部から表面への微小粉末の回り込みが抑制されるレジストパターン形成方法等の提供。
【解決手段】レジストパターン形成方法は、被加工基材１０の少なくとも端部１１の微小粉末を除去するクリーニング工程と、端部の微小粉末が除去された被加工基材の表面に、インプリントレジスト層を形成するインプリントレジスト層形成工程と、複数の凸部と、該凸部の間に形成される凹部とからなる凹凸部を表面に有する凹凸型の該凹凸部を押し当て、該凹凸部のパターンが反転した、レジストパターンを前記被加工基材の表面に形成するレジストパターン形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】剥離層の付着効率が上がり、剥離層の耐久性が改善され、モールド耐久性が向上し、パターン成形性が良好なインプリント用モールド構造体、並びにインプリント方法、磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】円板状の基板と、該基板の一の表面上に、該表面を基準として複数の凸部が配列されたことによって形成された凹凸部を有してなるインプリント用モールド構造体であって、前記インプリント用モールド構造体の凹凸側面に剥離層を有し、該剥離層の厚みが１．０５ｔ〜１．５ｔ（ただし、ｔは、剥離層材料の単分子層厚み（ｎｍ）を表す）であり、かつ１０ｎｍ以下であるインプリント用モールド構造体とする。 （もっと読む）

【課題】インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。
【解決手段】中心を基準としたデータ領域の凹凸部及びサーボ領域の凹凸部の内周端、及び外周端の少なくともいずれかには、前記磁気記録媒体の基板におけるパターン形成予定領域の内周端、及び外周端の少なくともいずれかに対して延長されたダミーパターンが形成されたことを特徴とするインプリント用モールド構造体等である。 （もっと読む）

【課題】隙間部分を傷つけたり樹脂や基板の削り屑が発生するなどなく、簡易かつ適切にスタンパを剥離できるようにする。
【解決手段】スタンパを用いてピットパターンをディスク基板に転写する工程において、転写後、ディスク基板上の硬化された樹脂からのスタンパ剥離を良好に行うため、転写工程に先立って、予め剥離開始部位の樹脂を硬化して転写前硬化部を形成しておく。転写工程では、スタンパが圧着された状態で樹脂層が硬化されて凹凸パターンの転写が行われる。その後、スタンパを剥離する際に、転写前硬化部とスタンパとの間に自然に隙間ができるため、その隙間部分をきっかけとして、例えばエアブローを行いながらスタンパを剥離していく。 （もっと読む）

【課題】形状安定性を損なうことなく可撓性を有するシートを保持する。
【解決手段】一側が第２加圧部材１４により支持された可撓性のあるシート部材３４に対し、他側から環状弾性部材１２を圧接して、シート部材３４を環状弾性部材１２とシート部材３４との間に生じる摩擦力によって、歪み等を発生させることなく拘束する。そして環状弾性部材１２を環をたどる方向の中心線を中心に回転させることによりシート部材３４に対し放射状の張力を作用させることによりシート部材３４が例えば熱応力等により変形することを回避する。 （もっと読む）

【課題】 気泡を含まない良好な転写・接合界面を、同一の装置によって、簡便かつ低コストで得られる転写・接合方法および装置を提供すること。
【解決手段】 微細パターン１０２が設けられたスタンパー１０３に載置された第１部材１００を、第１の型１０１により加圧しながら接触させ、赤外線照射手段１０６を用いてその接触面に赤外線１０７を線状に照射し加熱し、赤外線照射手段１０６を移動させ微細パターン１０２の転写が一方向に順次行われるようにする転写工程と、転写工程後、スタンパー１０３を取り除き、転写済み第１部材１００を、第１の型１０１により、第２の型１０５に載置された第２部材１０４と加圧しながら接触させ、赤外線照射手段１０６を用いてその接触面に赤外線を線状に照射し加熱し、赤外線照射手段１０６を移動させ、接触面の接合が一方向に順次行われるようにする接合工程とを有する転写・接合方法および装置。 （もっと読む）

【課題】 開口部を有する部材であっても、この開口部を含めて部材に反射防止構造体を容易に形成でき、遮光性が要求される部材であっても反射を防止すべき光の入射を抑制して迷光を解消できる反射防止構造体を有する部材の製造方法および部材を提供する。
【解決手段】 熱可塑性樹脂にて形成されるとともに円形開口部を有する被成形体としての部材１と、曲面形状を有し、曲面に形成すべき反射防止構造体の反転形状が形成された型７とを準備する。型７の曲面を部材１の円形開口部２に押圧するとともに、部材１を加熱により軟化させつつ、反転形状を円形開口部のエッジ部に転写する。次に、部材１と型７とを離型させるとともに、部材１を冷却する。これにより、部材１の円形開口部のエッジ部５に、反射防止構造体が形成される。 （もっと読む）

【課題】低コストのプレス成形を経て微細パターンを得るための成形方法を提供する。
【解決手段】下型１１５の上に、被転写体１０９を設置し、湾曲手段１１７により加圧して上型１１０の外周部を湾曲した状態にした後、上プレスヘッド１１２と下プレスヘッド１１６を加熱し、上型１１０の湾曲した状態を保ったまま、上プレスヘッド１１２によって上型１１０で被転写体１０９を押圧して、導波路パターン１１１を被転写体１０９に転写する。さらに、湾曲手段１１７の加圧力を除去することにより、被転写体１０９の外周部から徐々に離型を開始させ、最後に、上プレスヘッド１１２の加圧力を成形時とは逆向きに作用させて型開きを行い、成形品１２２を取り出す。 （もっと読む）

【課題】
量産性の高く、良好な転写性を得ることができる成形品の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる成形品の製造方法は、転写面を有する金型より形成されるキャビティ内に熱可塑性樹脂からなる母材シート１を挿入し、金型の転写面を該母材シート１の表面に押し付けることにより金型転写面の形状を母材シート１に転写させるものである。特に、母材シート１に対してその表面近傍に二酸化炭素を含有させ、さらに母材のガラス転移温度よりも低温度の金型転写面を押し付けることを特徴とする。二酸化炭素が転写表面を軟化させることで、母材全体の温度を上昇させることなく温度制御を一定にて成形できるので量産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 スタンパの浮き上がりを良好に防止でき、加熱、冷却効率を良好にできるスタンパ取付装置および熱転写プレス機械を提供すること。
【解決手段】 スタンパホルダ２３（２３Ａ，２３Ｂ）にスタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）の全面に対応する位置に貫通孔２３１（２３１Ａ，２３１Ｂ）を形成する。貫通孔２３１（２３１Ａ，２３１Ｂ）を連通溝２３２（２３２Ａ，２３２Ｂ）で連通し、温調プレート２２（２２Ａ，２２Ｂ）の両側において吸引用孔２２２（２２２Ａ，２２２Ｂ）と連通させる。スタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）を全面にわたって吸着保持できるので、スタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）の中央部の浮き上がりを防止できる。またスタンパ２４（２４Ａ，２４Ｂ）がスタンパホルダ２３（２３Ａ，２３Ｂ）を介して温調プレート２２（２２Ａ，２２Ｂ）に良好に密着するので、加熱、冷却効率を良好にできる。 （もっと読む）

【課題】
より簡便に且つ低コストで、高アスペクト比の微細構造を有する成形物を成形できる成形装置及び光学素子を提供する。
【解決手段】
型円板２ａと素材Ｍとの離型時に、素材Ｍの上面中央部の隆起などの不具合が生じない。これは、転写時に素材Ｍの上面が外側に張り出すような変形を枠部材３が防止しているためであり、即ち被転写部の面内における応力分布の不均一さが抑制されるので、離型時に開放される応力もより均一化され、素材Ｍの上面と型円板２ａとが均一に分離されるためである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、プラスチック光学部品にマークを形成するためのマーキング方法、このマーキング方法を用いた眼鏡レンズの製造方法およびプラスチックレンズに関し、レーザ光を照射した後の加熱によるマークの消失を解消することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック光学部品の表面にレーザ光を照射して照射部分の前記表面を隆起させマーク形状に対応する形状の隆起部を形成するレーザ光照射工程と、前記プラスチック光学部品の前記表面に形成された前記隆起部を機械的に除去する隆起部除去工程と、前記プラスチック光学部品を加熱して前記隆起部の除去された部分を表面から陥没させてマークを形成するマーク付与工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来のホットエンボス法、射出成形法、圧縮成形法、ナノインプリント法に比べて格段に優れた製品を高い生産性で生産可能な微細転写方法および装置を提供すること。
【解決手段】 微細な凹凸形状１Ｌｃを有する下型スタンパー１Ｌの表面１Ｌａ上にプラスチック基材２を装着し、加圧手段６により、上型１２Ｕをプラスチック基材２に向けて加圧し、プラスチック基材２を下型スタンパー１Ｌに押圧する。下型スタンパー支持体５Ｌには幅方向７に長いスリット状の開口部８を設け、そこを通して炭酸ガスレーザ１３によりビーム状の赤外線３を照射し長手方向４に移動させ下型スタンパー１Ｌの微細な凹凸形状と反転する凹凸形状をプラスチック基材２に形成し、冷却し、プラスチック基材２を離型する。 （もっと読む）