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Fターム[4F209AJ01]の内容

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【課題】テンプレート表面に充填性と離型性を両立した離型層を形成する。
【解決手段】本実施形態では、インプリント処理時に光硬化性樹脂に接触させる凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面処理を行う。この表面処理方法は、テンプレート1のパターン面に第1シランカップリング剤を供給する工程と、テンプレート1のパターン面に第2シランカップリング剤を供給する工程と、を備えている。第1シランカップリング剤を使用してテンプレート表面に形成する離型層は、第2シランカップリング剤を使用してテンプレート表面に形成する離型層と比較して、前記光硬化性樹脂に対する接触角及び水に対する接触角が低い。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置にて、型と樹脂とを引き離す際の離型性と、使用可能期間の長期化の点で有利な型を提供する。
【解決手段】型1は、石英からなり、被処理体としての樹脂を成形するパターン部3を有する。この型1は、樹脂と接触するパターン部3の表面上に形成された、フッ化水素を含む液体に対して不溶である材料からなる第1層4と、第1層4の表面上に積層する形で形成された、シランカップリング剤を含む化学吸着膜としての第2層5とを有する。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの表面の転写パターン形成領域に成膜ガスを供給して離型膜を形成するにあたり、テンプレートの側面及び裏面に前記離型膜が形成されることを防ぐ技術を提供すること。
【解決手段】転写パターン形成領域に、局所的に前記成膜ガスを供給して前記離型膜を形成するための成膜ガス供給部と、前記転写パターン形成領域の周囲に形成される外側領域に前記転写パターン形成領域の外周に沿ってパージ用流体を供給するパージ用流体供給部と、前記外側領域において前記パージ用流体が供給される領域の内側を前記転写パターン形成領域の外周に沿って排気して、外側領域を転写パターン形成領域に向かう前記パージ用流体と、転写パターン形成領域からテンプレートの側面へ向かう前記余剰の成膜ガスとを除去するための排気部と、を備えるように装置を構成してガスの側面への回りこみを防ぐ。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターン内への光硬化性有機材料の充填速度が低下することを防止し、インプリント処理に要する時間の増加を抑制する。
【解決手段】本実施形態によれば、インプリント用テンプレート10は、1面に凹凸パターンを有するインプリント用テンプレートであって、光透過性を有する基材12と、基材12上に設けられ、複数の粒子14を含んだ第1層16と、第1層16上に設けられ、前記凹凸パターンが形成されており、光透過性及びガス透過性を有する第2層18と、を備える。粒子14は、所定波長の光を吸収して熱を放出する。 (もっと読む)


【課題】継ぎ目による段差がなく形状自由度に優れた凹凸パターンを大面積に亘って形成することが可能なインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】表面に凹凸パターンと端面に整合部2とを有する複数のモールド部材3,4を該整合部2を介して組み合わせてなるモールド組立体と、前記モールド組立体の凹凸パターンを有する表面と反対側の面に固定した弾性体5とを備えることを特徴とするインプリント用モールド1である。また、前記整合部2は、前記モールド部材の裏面に対して平行な面と該裏面に対して垂直な面とから形成されるか又は前記モールド部材の裏面に対し30度〜60度の角度又は150度〜120度の角度で傾斜した面を備えることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】凹凸のピッチが5nm以上200nm以下である転写用パターンの凹部においてノッチ量を低減することができる成形型の製造方法を提供する。
【解決手段】母材1の表面上にSi膜2,4,6とSiO膜3,5,7とを交互に積層した積層膜10を形成し、その積層膜10上に、凸部15bの形状に対応する形状のハード膜マスク11Aを形成する。このハード膜マスク11Aをマスクにして、積層膜10の膜2〜7に対して上層から下層に向かってそれぞれ異方性ドライエッチングの処理を行うことで凹部15a及び凸部15bが繰り返し連続した転写用パターン15を形成する。その後、ハード膜マスク11Aを除去することで成形型100の製造が終了する。 (もっと読む)


【課題】基板上にシランカップリング剤を適切に成膜し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートTの表面に紫外線を照射し、当該表面を洗浄する(図11(a))。その後、テンプレートT上に離型剤Sを塗布する(図11(b))。その後、テンプレートTの離型剤S上にアルコールAを塗布する(図11(c))。その後、テンプレートT上の離型剤Sに超音波振動を付与する(図11(d))。この超音波振動により、テンプレートTの表面と離型剤Sとの化学反応が促進され、当該テンプレートTの表面と離型剤Sとの密着性が向上する。その後、テンプレートT上の離型剤Sをリンスし、当該テンプレートT上に転写パターンに沿った離型膜Sを成膜する(図11(e))。 (もっと読む)


【課題】面荒れの影響を低減でき離型性を向上するとともに形状の精度低下の防止を図る。
【解決手段】基板11と、基板の表面に形成された段差を有する多段凸部12とを有し、多段凸部の段差面12bが基板表面11aと略平行状態とされ、この段差面より先端側の多段凸部先端部12cが金属箔101から形成され、前記段差面より基板側の多段凸部基端部12dがめっきにより形成されてなるインプリントモールド10。 (もっと読む)


【課題】 ナノインプリントのパターン形成において、離型欠陥を抑制する。
【解決手段】
被加工膜上にパターン転写層を形成する工程と、表面に所定の凹凸パターンを有し、表面にポーラス層が形成され、ポーラス層が離型剤を含有するモールドを、パターン転写層に接触させる工程と、パターン転写層にモールドを接触させた状態で、パターン転写層を硬化させる工程と、モールドをパターン転写層から離型する工程とを備える。ポーラス層として、例えば、低誘電率絶縁膜、又はアモルファスカーボンを用いる。 (もっと読む)


【課題】 パターンの微細化に対応可能なナノインプリンと用モールドおよびその製造方法ならびにそれを用いた凹凸構造の製造方法を提供する。
【解決手段】 結晶性基板11と、結晶性基板11の一主面11a上に配置された、一主面11aに平行な底面21および一主面11aに非平行な面を含む複数の結晶面22を有する突起構造20とを備えるナノインプリント用モールド10である。 (もっと読む)


【課題】2P法を用いて作製される微細構造転写物の厚みムラを低減すること。
【解決手段】(i)微細パターンAを備えたスタンパと透明基板とを用意し、スタンパまたは透明基板上に光硬化性樹脂原料を供する工程、(ii)光硬化性樹脂原料を挟むようにしてスタンパと透明基板とを対向配置させる工程、および、(iii)透明基板を介して光硬化性樹脂原料に光を照射して樹脂原料を硬化させ、それによって、微細パターンAの反転形状に相当する微細パターンが形成されて成る成形品を得る工程を含んで成り、工程(i)のスタンパとして、微細パターンAの形成領域内に隆起パターンBが設けられたスタンパを用い、工程(ii)では、隆起パターンBを介在させてスタンパと透明基板とを一定の間隔で対向配置させる。 (もっと読む)


【課題】サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該基材及びレジストパターンの表面にDLC被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたDLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にDLCパターンを形成してなるようにした。 (もっと読む)


【課題】インプリント耐性を十分に備えながらも、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定のパターンを被転写物に転写するための元型モールド30に離型層が設けられる離型層付きモールドにおいて、前記離型層に含まれる化合物の分子鎖における主鎖にはフルオロカーボンが含まれ、前記化合物の分子鎖は、元型モールドに対して吸着している吸着官能基を少なくとも2個以上有し、前記吸着官能基において、前記吸着官能基と元型モールドとの吸着の元となる結合エネルギーが、前記化合物の分子鎖における吸着官能基同士の結合エネルギーよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】2つの連続するチップ間の距離を最小化する、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドを設計する。
【解決手段】本発明は、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドに関する。このモールドは、第1材料製の層を備え、この層は、第1面上に第2の剛体材料製の層を含み、第1面と反対側の面上に第3の剛体材料製の層を含み、第2の剛体材料製の層は、層内にマイクロメートルオーダー又はナノメートルオーダーのパターンを有するn個の構造ゾーン(n≧1)が形成され、第3の剛体材料製の層は、層内に、n個の構造ゾーンに対向するn個のくぼみが形成され、n個のくぼみは第4材料で充填され、これによりn個の部分領域が形成され、所定波長λdetにおける第3材料の層の透過率は、n個の部分領域いずれの透過率よりも低く、第1、第2、及び第3材料の層の所定波長λdetにおける透過率は、これらの層を通る所定波長λdetの光の透過率が、n個の部分領域の任意の1つ、第1材料製の層、及び第2材料製の層を通る光の透過率よりも小さいような透過率である。
本発明は、こうしたモールドを製造する2つの方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】加工性に優れたインプリント用ブランクス、インプリント用テンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のインプリント用ブランクス10は、下地層11と、下地層11上に積層され、sp混成軌道を形成する炭素とsp混成軌道を形成する炭素との混合比が、積層方向に隣接する層間で異なる複数のダイヤモンドライクカーボン層12、13と、を備えた。 (もっと読む)


(a)第一の面上に規定のインプリント表面パターンおよび第一の面と反対側の第二の面上に規定のインプリント表面パターンを有するインプリント基板金型を提供する段階;(b)ポリマー構造をインプリント基板金型の第一の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階;ならびに(c)別のポリマー構造をインプリント基板金型の第二の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階を含む、ポリマー構造上にインプリントを作製する方法が開示される。

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【課題】プレス加工による正常なパターンの転写が可能なインプリント加工用スタンパーを提供する。
【解決手段】基板上に磁性膜を成膜し、その上にレジストを塗布した後、インプリント加工用スタンパーを押し付けてレジストに微細構造を転写し、さらにレジストをマスクとして磁性膜をエッチングすることにより、パターン化された磁性膜を有する磁気記録媒体を製造する方法に用いられるインプリント加工用スタンパーであって、表面に凹凸パターンを有する金属製のスタンパー本体と、前記スタンパー本体の表面に形成された、無機カーボンを10%以上含む膜とを具備したことを特徴とするインプリント加工用スタンパー。 (もっと読む)


【課題】 フッ素コート材の塗布や、DLC等の膜形成を行うことなしに、マイクロレベル、ナノレベルの精密加工用微細成形型としての優れた離型性を実現する。
【解決手段】 ガラス状炭素材を2100℃〜3000℃の範囲で加熱処理して、自己潤滑離型性を有する微細成形型材料とし、これを用いた微細成形型を形成する。 (もっと読む)


【課題】プレスを繰り返しても緩衝材の厚み減少分が元の状態近くまでその都度復元し、シート状基材に転写ムラを発生することなく転写成形することのできる微細形状転写シートの製造装置と製造方法を提供する。
【解決手段】微細形状が表面に形成された金型3と、金型の表面にシート状の樹脂基材2を押圧するプレート板と、樹脂基材が挿入される位置とプレート板との間に設けられた緩衝材17とを含む微細形状転写シートの製造装置1において、緩衝材のクッション率が25%以上かつ変形回復率が40%以上である。微細形状が表面に形成された金型の表面にシート状の樹脂基材を供給した後、緩衝材を介してプレート板により樹脂基材を金型に押圧して樹脂基材の表面に微細形状を転写する微細形状転写シートの成形方法において、緩衝材として、クッション率が25%以上かつ変形回復率が40%以上である緩衝材を用いる。 (もっと読む)


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