【課題】 離型力が小さいパターン方法を提供すること。
【解決手段】 表面に凹部および／または凸部を有するモールドに硬化性組成物を接触させた状態で該硬化性組成物を硬化させ、前記モールドと前記硬化性組成物とを剥離して前記硬化性組成物の凹部および／または凸部を有するパターンを得るパターン形成方法であって、（ｉ）前記モールドと前記硬化性組成物の硬化物との間に且つそれぞれに接触するように、ガス発生剤を有するガス発生領域を設ける工程、（ｉｉ）前記（ｉ）工程で設けられた前記ガス発生領域からガスを発生させる工程、（ｉｉｉ）前記（ｉｉ）工程と同時またはその後に、前記モールドと前記硬化性組成物の硬化物とを剥離する工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面の転写パターン形成領域に成膜ガスを供給して離型膜を形成するにあたり、テンプレートの側面及び裏面に前記離型膜が形成されることを防ぐ技術を提供すること。
【解決手段】転写パターン形成領域に、局所的に前記成膜ガスを供給して前記離型膜を形成するための成膜ガス供給部と、前記転写パターン形成領域の周囲に形成される外側領域に前記転写パターン形成領域の外周に沿ってパージ用流体を供給するパージ用流体供給部と、前記外側領域において前記パージ用流体が供給される領域の内側を前記転写パターン形成領域の外周に沿って排気して、外側領域を転写パターン形成領域に向かう前記パージ用流体と、転写パターン形成領域からテンプレートの側面へ向かう前記余剰の成膜ガスとを除去するための排気部と、を備えるように装置を構成してガスの側面への回りこみを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン１３を表面に有するモールド本体１２と、この表面に形成された離型層１４とを備えたナノインプリント用のモールド１において、離型層１４が、主鎖を構成する原子数が２０未満である短鎖離型剤２０と、主鎖を構成する原子数が２０以上である長鎖離型剤２２とを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】 ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールド用硬化性樹脂組成物、及び樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】 ポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とを有する複合樹脂（Ａ）を含有する樹脂モールド用硬化性樹脂組成物を提供することで、ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールドを提供することができる。また、該樹脂モールドから作成されるレプリカモールド、及びレプリカモールドの製造方法を提供する （もっと読む）

【課題】基材中を通過する導波光又は透過光を抑制でき、被転写材に連続的に微細構造を転写できるロール状モールドを提供すること。
【解決手段】本発明のロール状モールド（１）は、円筒状基材（１１）と、円筒状基材（１１）の外周面上に設けられた微細構造層（１２）と、円筒状基材（１１）の内周面上及び／又は微細構造層（１２）上に設けられたＵＶ吸収層（１３）と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】貫通孔を高精度に形成することが可能なインプリントモールドを提供する。
【解決手段】インプリントモールド１０は、例えば、シリコン（Ｓｉ）から構成される熱インプリント用の金型である。支持部１１と、支持部１１から突出し、バイアホールに対応する突起部１２と、突起部１２の先端面１４１に形成された親油性膜１６と、この先端面１４１を除く全ての表面に離型膜１７を備えている。この親油性膜１６は、例えば、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ，C6H19NSi2）、又はオクタデシルトリクロロシラン（ＯＴＳ，SiCl3C18H37）等から構成されている。一方、離型膜１７としては、例えば、フッ素系単分子膜等を例示することができる。 （もっと読む）

【課題】モールドの微細凹凸構造を繰り返し転写しても、モールドと硬化樹脂層との離型性および転写された微細凹凸構造の形状や表面特性を維持でき、微細凹凸構造を表面に有する物品を安定的に生産性よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】（Ｉ）モールド離型剤を含む離型処理溶液で、陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド２０の表面を被覆する工程、（ＩＩ）工程（Ｉ）の後、重合性化合物と重合開始剤と内部離型剤とを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８を、ロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成し、微細凹凸構造を表面に有する物品４０を得る工程を有し、モールド離型剤と内部離型剤とのＳＰ値の差が２．０以下である。 （もっと読む）

【課題】パターン転写不良やモールドの目詰まりを未然に防いで生産性を向上させる。
【解決手段】パターン転写装置１１Ａ０の制御装置２３は、離型層厚取得部５１と、離型層厚判定部５３と、供給量演算部５５と、供給量制御部５９とを備える。離型層厚取得部５１は、残留離型層３２の厚さに係る相関値を取得する。離型層厚判定部５３は、残留離型層３２の厚さに係る相関値が所定の基準を満たすか否かを判定する。供給量演算部５５は、離型層厚判定部５３の判定結果に基づいて、離型剤供給部２１における離型剤の供給量を演算する。供給量制御部５９は、モールド３１上のそれぞれの位置において、適正な量の離型剤を適時に供給する制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントリソグラフィーにおいて従来使用されているF-SAMと遜色ない離型性を有し、耐久性の点でさらにすぐれている離型処理方法および離型膜を提供する。
【解決手段】 ナノインプリント用モールドの表面に設ける離型膜として、ポリジメチルシロキサン（PDMS）薄膜を使用する。上記のポリジメチルシロキサン薄膜は、ポリジメチルシロキサンの片側末端にシランカップリング基が結合した化合物を用いてモールド表面に成膜するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材上に構造を形成するための方法を提供すること。
【解決手段】前記方法は、（ａ）一定の表面パターンを有するモールドを、光分解性アモルファスポリマー基材上に支持された紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂基材に接触させるステップであって、前記一定の表面パターンが前記ＵＶ硬化性樹脂基材上に構造を形成するステップ；（ｂ）ＵＶ放射に前記ＵＶ硬化性樹脂を曝すことによって、前記アモルファスポリマー基材上に支持された前記ＵＶ硬化性樹脂を硬化させるステップ；及び（ｃ）前記硬化した樹脂を前記モールドから分離するステップを含む。本発明は、さらに、前記を行うための装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートをパターンから離型する工程において、パターンが破壊することを防止するインプリント用テンプレート及びインプリント方法を提供する。
【解決手段】本実施形態によれば、インプリント用テンプレートは、１面に凹凸パターンを有するテンプレートであって、光透過性を有する基材と、前記基材上に設けられ、前記凹凸パターンの凸部となる樹脂層とを備えている。前記樹脂層は、第１波長の光の照射により収縮して体積が小さくなり、前記第１波長とは異なる第２波長の光の照射により膨張して体積が大きくなる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるアルコキシシラン化合物又は下記一般式（２）で示されるシラザン化合物からなるナノインプリントモールド用離型剤。


（式中、Ｒ_f及びＲ_f’は炭素数１〜１０のフルオロアルキル基であり、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜６の脂肪族１価炭化水素基である。Ｒ²及びＲ³はメチル基又はエチル基であり、各々同一又は異なっていてもよい。Ｘ及びＹはエーテル結合又はエステル結合であり、各々同一又は異なっていてもよい。ａ及びｂは各々０又は１であり、ｍ、ｎ及びｐは各々０〜６の整数、ｑは１〜６の整数、ｒは０〜２の整数である。）
【効果】本発明によれば、離型性のよい離型層を持つため、パターン寸法に影響をほとんど与えず、離型時の親和力によるパターン欠損を低減し、高精度なインプリント形成が可能なナノインプリントモールド用離型剤を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】生産性の高いパターン形成方法を実現するテンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレートの表面処理装置及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、凹凸パターンが設けられた転写面を有し、前記凹凸パターンの凹部に、光によって硬化する前の状態の光硬化性樹脂液を充填し、前記光によって前記光硬化性樹脂液を硬化させて形成される樹脂の表面に前記凹凸パターンを反映した形状を形成するためのテンプレートが提供される。前記テンプレートは、基材と、表面層と、を備える。前記基材は、凹凸が設けられた主面を有し、前記光硬化性樹脂液が硬化する光に対して透過性である。前記表面層は、前記基材の前記凹凸を覆い、前記凹凸の形状を反映した前記凹凸パターンを形成する。前記表面層の、前記光によって硬化する前の状態の前記光硬化性樹脂液に対する接触角は３０度以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基本微細構造体同士を可能な限り近接させて、しかもこの基本微細構造体を高精度に位置決めした微細構造体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを形成した基本微細構造体３が基材２上で複数隣接して並ぶように配置した微細構造体１の製造方法において、前記凹凸パターンの反転凹凸パターン４ｂが形成された金型１１上で前記凹凸パターンを有する硬化樹脂からなる前記基本微細構造体３を成形する基本成形工程と、この基本成形工程で得られた前記基本微細構造体３を前記基材２に移動する移動工程と、を有し、前記基本成形工程と前記移動工程とを２回以上繰り返すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 前記モールドのアライメントマーク領域の表面が、硬化前のインプリント用被転写樹脂に対して、少なくとも、前記モールドの転写領域の表面よりも高い撥液性を生じるようにすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】樹脂と自然繊維からなる合成紙をエンボスして、自然の繊維からなる紙のエンボス紙と同様なエンボス合成紙を製作する方法及び装置を提供すること。
【解決手段】重さが20g/m² 〜210g/m² である三層構造の合成紙を（１）石英電気オーブン，赤外線加熱器で65℃〜160℃，好ましくは115℃にて予熱及び加熱して，（２）少なくともショアA硬さが60〜90であるゴム製型押しロールと、表面に浮き彫り模様の型があるエンボスロールとからなるエンボス設備にてエンボスし，（３）上記エンボス設備は、エンボス加工中に、エンボスロールとゴム製型押しロールとを同調させて同時に冷却し、（４）更に左右一組の冷却ドラムで冷却し、合成紙上の浮き彫り模様を定着成形してエンボス合成紙となすことからなる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント用のメサ型のモールドの洗浄においてモールドの破損を抑制する。
【解決手段】ナノインプリントに使用したレジストの残渣が付着した状態のナノインプリントモールドに施される洗浄方法において、平板状の支持部１１と、該支持部の一面にありかつ該一面から所定の高さを有するメサ部１２を有するモールド１が凹凸パターン領域Ｒ１上にフッ素化合物を含有する離型層１４を備えた状態で、上記モールド１を洗浄液に浸漬して超音波洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】 添加剤を含有するエチレン系共重合体樹脂シートの成形においても、ラバーとられが発生せず、生産性を低下させないうえ、エンボス加工性などに優れた押出成形用エンボス型ロール、及びそれを用いたエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 エチレン系共重合体樹脂シートの押出成形用エンボス型ロールであって、軸芯部の外周にシリコーンゴム層、接着層およびフッ素樹脂層が順次積層されてなり、かつ、算術平均粗さ（Ｒａ）が５．０μｍ以上であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が２５〜４０μｍであることを特徴とする。このとき、シリコーンゴムのＪＩＳ Ｋ ６２５３ デュロメータ タイプＡによるゴム硬度が３０〜８０であることが好ましい。 （もっと読む）