【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び方法並びにナノインプリントシステムを提供する。
【解決手段】基板(102)上に機能性液を打滴する複数のノズル(120)、及び少なくとも一部が圧電素子(123)で構成された側壁（121）によって区画され、各ノズルのそれぞれに連通される液室を具備し、圧電素子をせん断変形させて液滴を打滴する液体吐出ヘッド(110)と、基板と液体吐出ヘッドとを相対的に移動させる搬送部(108)と、を具備し、液体吐出ヘッドに具備される複数のノズルについて、両隣のノズルが異なるグループに属するように複数のノズルを３つ以上のグループにグループ化するとともに、同一の打滴タイミングにおいて同一のグループに属するノズルのみから打滴を行い、液体を前記基板上に離散的に着弾させるように圧電素子の動作が制御される。 （もっと読む）

【課題】スループットを向上できるパターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、被加工体２０上に誘電体であるインプリント材２１を未硬化状態で供給する工程と、テンプレート１０における導電性のパターン部１５を、未硬化状態のインプリント材２１に接触させる工程と、インプリント材２１を硬化させる前に、被加工体２０とテンプレート１０のパターン部１５との間に電位差を生じさせ、インプリント材２１に誘電分極を生じさせる工程と、パターン部１５をインプリント材２１に接触させた状態でインプリント材２１を硬化させる工程と、インプリント材２１の硬化後、インプリント材２１からテンプレート１０を剥離する工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】寸法精度に優れたインプリントに用いられるモールドを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。これにより、基板１０をエッチングすると共にエッチングマスク２０の側壁に保護膜３０が形成されるので、エッチングマスク２０の側壁の侵食が阻止される。 （もっと読む）

【課題】
スループットを向上させたパターン転写装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、パターンが形成されたモールド１０をウエハ１上の樹脂６０に押し付け、モールド１０を樹脂６０から離型することによってパターンをウエハ１に転写するパターン転写装置であって、モールド１０の除電を行うイオナイザのノズル３０、３１と、モールド１０の電位を検出する表面電位センサ７０とを有し、イオナイザのノズル３０、３１は、表面電位センサ７０により検出されたモールド１０の電位が所定値以上の場合にモールド１０の除電を行う。 （もっと読む）

【課題】新規な手法によりサイズ補正をすることができるモールド及び該モールドを有する装置を提供する。
【解決手段】モールドまたは該モールドを有する装置であって、凹凸パターンが形成されている第１の面１０５０と、該モールドの厚さ方向に関して、該第１の面と反対側にある第２の面１０５５とを有するモールド２０００を備え、
且つ該第２の面に、あるいは該第１の面と該第２の面との間に設けられており、該凹凸パターンを該第１の面の面内方向に変形させるためのサイズ調整部材２０１０、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】転写型を再利用可能に保持することができる転写型の固定装置および基板の取り外し方法を提供する。
【解決手段】磁石２３から転写型４１に磁力が作用すると、転写型４１は支持台１３の表面に固定される。支持台１３の貫通孔１７から転写型４１の中心孔４６にピン２２が挿入されると、ピン２２の先端は基板４５を突き上げる。ピン２２は転写型４１の中心孔４６から先端を突き出す。その結果、基板４５すなわち被転写膜４４は転写型４１から剥離される。こうして被転写膜４４に転写パターン４３が転写される。転写型４１に作用する磁力の強度が弱められれば、転写型４１は支持台１３の表面から簡単に取り外される。転写型４１は再利用されることができる。しかも、転写型４１の固定にあたって磁石２３が利用される。転写型４１の固定にあたって余計なゴミやコンタミの発生は防止される。 （もっと読む）