【課題】歩留まりよくパターンを形成することができるパターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラムを提供する。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成装置は、凹凸部を有するテンプレートを被転写物に押印し、凹凸部の形状が転写されたパターンを形成する装置である。パターン形成装置は、計算部と、調整部と、転写部と、を備える。計算部は、パターンの設計情報を用いてテンプレートをパターンから離型する際にパターンに加わる力の分布を計算する。調整部は、計算部で計算した力の分布を均一化するための形成条件及びパターンの設計情報の少なくともいずれかを調整する。転写部は、調整部で調整した形成条件及び設計情報の少なくともいずれかにより凹凸部の形状を被転写物に転写する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の製造方法において、曲率を有する光学面を有する光学素子の光学面に光軸と交差する方向に延びる凹凸形状の微細構造を容易に形成することができるようにする。
【解決手段】凹レンズ面１ａに光軸と交差する方向に延びる凹凸形状を有する反射防止部を備えるレンズの製造方法であって、凹レンズ面１ａを有するレンズ本体１を形成する本体加工工程と、凹レンズ面１ａに成形用樹脂を塗布し、反射防止部を転写する成形面部５ａが、変形可能な基体部５Ａの表面に形成された微細構造形成用型５を、凹レンズ面１ａに押圧し、成形用樹脂を硬化させる成形工程と、成形面部５ａの面頂に関する力のモーメントを作用させて、基体部５Ａを変形させることにより、微細構造形成用型５をその外周側から反射防止部の凹凸形状の延びる方向に漸次離間させて脱型を行う脱型工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 光硬化性ナノインプリント用組成物を用いて、金型パターンよりも微細なパターンを基板上に形成するパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類の加水分解物を含有する光硬化性ナノインプリント用組成物を基板上に塗布し塗膜を形成し、金型と前記塗膜とを接触させ、金型のパターンを転写し、光照射して塗膜を硬化させた後に、１２０℃〜２５０℃で熱処理をすることで金型のパターンよりも微細なパターンを基板上に形成する。 （もっと読む）

【課題】 生産性の高いインプリントモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】 フォトリソグラフィを用いて凹凸構造が形成されたマスターモールドの一方の面と第１基板の一方の面の間に被転写材料を介在させて、前記マスターモールドの凹凸構造を反転させた第１反転凹凸構造を有する第１転写層を形成する第１転写層形成工程と、前記第１転写層と前記マスターモールドを離し、前記第１転写層を備えた前記第１基板を得る第１剥離工程と、を含み、前記マスターモールドの一方の面の外形で規定されるエリアＳｍと、前記第１基板の一方の面の外形で規定されるエリアＳｐを対比した場合、エリアＳｍがエリアＳｐを物理的に包含する関係にあるように構成する。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルムの異方収縮が抑えられ、寸法精度の良好な樹脂スタンパが得られる微細構造転写装置を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された多角形状のマザースタンパ１２と、前記マザースタンパの微細な凹凸パターンを有する面１２ａに対向するように樹脂フィルム１８を挟持する挟持体２４と、を有する微細構造転写装置１０であって、前記挟持体２４は、少なくとも、前記マザースタンパの凹凸パターンを有する面１２ａの各辺の中央部乃至その近傍に対応する位置の樹脂フィルム１８の縁部１８ａを固定し、前記凹凸パターンを有する面１２ａの各頂点近傍に対応する位置の樹脂フィルム１８の縁部は固定しないことを特徴とする微細構造転写装置１０。 （もっと読む）

【課題】複数の微小な凸部または凹部が並べられて構成されるアレイ基板を、型部材を用いて転写成形する際に、基材への複雑な前工程をおこなうことなく、原材料となる基材と、型部材との間に生じる気体がアレイ基板などに転写されることなくアレイ基板などを形成できる方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性を有するフイルム状の基板に対し、当該基板厚の０．２５倍から２倍の孔径、および当該孔径の５倍から４０倍のピッチを有して複数の孔を形成する孔形成工程と、複数の凸部または凹部がアレイ状に形成された型部材を加熱し、複数の孔が形成された基板の押圧をすることによって、基板に複数の凸部または凹部の転写をする転写工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】型と成形材料とを直接接触させることなく、型に形成されている成形パターンに対応したパターンを備えた成形体の成形方法等を提供する。
【解決手段】成形パターン１３が形成されている型１１のおもて面に、弾性を備え平板状に形成された成形用基板３を設置し、型１１に空気を通すことで成形用基板３を真空吸着して弾性変形させ、成形用基板３を型１１の成形パターン１３の形状に倣わせ、成形材料５を、成形用基板３のおもて面に供給し、成形材料５を硬化し、硬化した成形材料５とともに成形用基板３を型１１から離す。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】紫外線硬化樹脂等の光硬化性樹脂を用いることなく、高い耐熱性を持つインプリントフィルムを高効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】芳香族ポリマーフィルムを浸漬、滴下、コーティング、印刷等により有機溶媒に接触させ、軟化せしめる工程と、プレス機、ロール等を用いる機械的な押圧、気体による加圧、減圧、自重による加圧等により芳香族ポリマーフィルムをテンプレートに接触せしめる工程とを有するインプリントフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】加熱手段を用いることなく、チューブ容器の側面に立体的な加飾を施すこと。
【解決手段】円筒形状のチューブ胴部の一端部を前記チューブ胴部内部を貫通する固定軸の端部に固定する固定工程と、前記チューブ胴部に内嵌する中空円筒形状のチューブ内嵌治具で前記チューブ胴部の姿勢を保ちつつ、前記チューブ内嵌治具に形成されるピンを前記チューブ胴部の内面に対して付勢することで前記チューブ胴部に模様を形成する加飾工程と、を有し、前記加飾工程では、前記固定軸側面に形成されるガイド溝に前記チューブ内嵌治具の内側面に形成されるガイド突起をガイドさせつつ、前記チューブ内嵌治具又は前記固定軸を作動させ前記チューブ内嵌治具と前記固定軸とを前記固定軸の軸方向に相対的に移動させることで加飾を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の塗布工程とインプリント工程の両立という技術的困難性を緩和し、且つ低粘度で流動性の高い塗布液を用いても幅方向の広がりを防止する。
【解決手段】微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、基材フィルム２の一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層１１を形成し、カバーフィルム６を貼合した後、パターン露光を施し、硬化性樹脂硬化部１２を設けることで幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より高い塗膜厚みの均一性を確保した状態でロール体に巻き取ってインプリント用の転写フィルム１０を製造する。更には、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材との間の密着性が高いＵＶナノインプリント成型体を得ることができるＵＶナノインプリント成型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ＵＶ硬化樹脂３は、樹脂全体に対して水酸基を含む樹脂を２５重量％〜６０重量％含有する。本発明の方法により得られたＵＶナノインプリント成型体は、図２に示すように樹脂基材２とＵＶ硬化樹脂３とが結合していると考えられる。すなわち、樹脂基材２、例えばＰＥＴフィルムの表面には、酸素で終端された分子が存在する。本発明の方法で用いるＵＶ硬化樹脂３は、樹脂全体に対して水酸基を含む樹脂を２５重量％〜６０重量％含有するので、図２に示すように、水酸基（ＯＨ基）が多く存在する。このため、樹脂基材２表面の酸素とＵＶ硬化樹脂３の水酸基との間で水素結合が形成されることとなる。これにより、樹脂基材２とＵＶ硬化樹脂３との間の密着性が高いＵＶナノインプリント成型体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンが形成された樹脂製のレプリカモールドを高精度にかつ大量に高い生産性で製造できる樹脂製モールド作製用積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本願発明の樹脂製モールド作製用積層体１０は、マスターモールドを用いた圧縮成形により樹脂製モールドを作製する際に圧縮成形に供される積層体であって、互いに対向する一対の基体１１，１２と、一対の基体１１，１２間に挟まれた液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料の層１３と、硬化性樹脂材料の硬化物からなり、前記一対の基体１１，１２間に挟まれた流動抑止体１４とを有し、硬化性樹脂材料の層１３が、一対の基体１１，１２および流動抑止体１４によって封入されている。 （もっと読む）

【課題】材料損失が少なく、基板との高い密着性を有するめっき膜の製造技術を提供すること。
【解決手段】（ａ）金型(4)の凹部(2)内に、触媒液を付着させることによって触媒層(10)を形成すること、（ｂ）金型の一面側に樹脂を鋳込むことにより、凹部に対応した凸部を一面側に有するスタンプ(12)を形成すること、（ｃ）金型からスタンプを取り外し、触媒層を凸部に転写すること、（ｄ）スタンプの一面側を、基板(16)上に配置された半硬化状態の樹脂(14)に押し当てることにより、凸部に対応した形状を半硬化状態の樹脂に転写するとともに触媒層を半硬化状態の樹脂に転写すること、（ｅ）半硬化状態の樹脂を硬化させること、（ｆ）基板上の樹脂に転写された触媒層上にめっき膜を形成すること、を含むめっき膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 端面処理にばらつきがなく、安定した研磨性能の樹脂フィルムを加工する加工装置を提供する。
【解決手段】 固定ステージ２にバッキングフィルム５を固定し、押圧プレート３を加熱した状態で、固定ステージ２に固定されたバッキングフィルム５に押圧し、バッキングフィルム５の端面部分を熱破壊してシーリングを行う。押圧プレート３は、プレート移動部４に、所定の傾斜角度に保持されるとともに、バッキングフィルム５の厚み方向に平行な方向に移動させてバッキングフィルム５に押圧される。 （もっと読む）

【課題】 加工ローラの軸線方向に関する被加工体への凹凸の付与の均一性を向上できるエンボス加工装置を提供する。
【解決手段】 本発明のエンボス加工装置１は、印画物１００を、その厚さ方向の両側に配置された加圧ローラ２０とエンボスローラとで挟み込んだ状態で一方向に移送しながら印画物１００に凹凸を付与する。そして、エンボスローラ２１を回転可能に支持するフレーム３０と、印画物１００の厚さ方向に関して変位可能な状態で加圧ローラ２０を回転可能に支持するローラ支持部材２４と、加圧ローラ２０の軸線方向ＣＬ１の両端側に配置されて、その一方の側において加圧ローラが印画物１００に加える圧力と、他方の側において加圧ローラが印画物１００に加える圧力とをそれぞれ独立に調整可能な一対の加圧機構４０Ａ、４０Ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 被加工体の厚さの変化に対応でき、被加工体への凹凸の付与の均一性を向上できるエンボス加工装置を提供する。
【解決手段】 本発明のエンボス加工装置１は、印画物１００を、その厚さ方向の両側に配置された加圧ローラ２０とエンボスローラとで挟み込んだ状態で一方向に移送しながら印画物１００に凹凸を付与する。そして、エンボスローラ２１を回転可能に支持するフレーム３０と、印画物１００の厚さ方向に関して変位可能な状態で加圧ローラ２０を回転可能に支持するローラ支持部材２４と、加圧ばね４１Ａを介在させてローラ支持部材２４と連結された連結部材４２を有するとともに、加圧ばね４１Ａを圧縮させつつ連結部材４２を厚さ方向に変位させる加圧機構４０Ａと、を備える。 （もっと読む）