【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。（Ａ）成分：特定の式で表されるビフェニル（メタ）アクリレート。（Ｂ）成分：下記式（２）で表されるフルオレン（メタ）アクリレート及び／又は特定の式で表されるビスフェノール（メタ）アクリレート。


（式中、Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、Ａ^１及びＡ^２は互いに独立して炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、ｍ及びｎは互いに独立して０乃至３の整数を表す。）（Ｃ）成分：光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】摺動抵抗と強度のバランスがとれた摺動部材を提供すること。
【解決手段】多孔質フッ素樹脂膜を含む摺動部材であって、多孔質フッ素樹脂膜の孔に熱硬化性樹脂および潤滑剤を保持させたものを構成する。多孔質フッ素樹脂膜にエンボス加工を施してもよい。 （もっと読む）

【課題】従来の塗布工程とインプリント工程の両立という技術的困難性を緩和し、且つ低粘度で流動性の高い塗布液を用いても幅方向の広がりを防止する。
【解決手段】微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、基材フィルム２の一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層１１を形成し、カバーフィルム６を貼合した後、パターン露光を施し、硬化性樹脂硬化部１２を設けることで幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より高い塗膜厚みの均一性を確保した状態でロール体に巻き取ってインプリント用の転写フィルム１０を製造する。更には、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】
レーザ彫刻およびインモールド転写技術によりプラスチック製品上にレーザ彫刻パターンを形成する方法およびその製品を提供する。
【解決手段】
まず、透明薄膜２１を有する転写薄膜２０を製作し、透明薄膜２１の底面に１層の紫外線硬化透明ワニスを塗布して保護層２２を形成した後、保護層２２の下方に１層の印刷層２３を塗布する工程と、射出成形金型のキャビティ中に転写薄膜２０を配置し、金型のキャビティ中にプラスチックを注入してプラスチック射出成形物品１０を形成し、プラスチック射出成形物品１０の表面に転写薄膜２０を貼り付ける工程と、保護層２２が貼り付けられたプラスチック射出成形物品１０の表面に紫外線を照射し、保護層２２を硬化させる工程と、レーザ彫刻機が生成させるレーザビーム３１により、プラスチック射出成形物品１０の表面上にレーザ彫刻パターンを形成させる工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、高速で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供する。
【解決手段】エンボス装置１０は、エンボスロール２０およびバックアップロール３０から原反５０の進行方向に沿ってずれた位置に配置された第１案内ロール３５および第２案内ロール４０を有する。エンボスロール２０およびバックアップロール３０の少なくとも一方の径は、原反５０の幅方向中央部分５１ａに対面する位置において、原反５０の幅方向両端部５１ｂに対面する位置よりも、太くなっている。第１案内ロール３５および第２案内ロール４０は、原反５０の端部分５１bを圧しながら回転する。 （もっと読む）

【課題】単一のＮＤフィルターにおいて再現性よく、かつ簡便に段階的、または連続的に光学濃度を変更するＮＤフィルターおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＮＤフィルターは、厚さ１ｍｍにおける波長３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が８５％以上の熱可塑性樹脂（Ａ）と、一次粒子径１０〜８０ｎｍの可視光領域に吸収をもつ金属酸化物および／または金属窒化物（Ｂ）と、赤外線吸収剤（Ｃ）とを含有する組成物（Ｘ）から形成されるＮＤフィルターであって、波長４００〜７００ｎｍにおける光線透過率の平均値Ｔ（ａｖｅ）_(400-700)に対して、光線透過率の最小
値Ｔ（ｍｉｎ）_(400-700)と最大値Ｔ（ｍａｘ）_(400-700)が下記式（１）および式（２）を満たすことを特徴とする。 ０．９２×Ｔ（ａｖｅ）_(400-700)≦Ｔ（ｍｉｎ）_(400-700)・・・（１）１．０８×Ｔ（ａｖｅ）_(400-700)≧Ｔ（ｍａｘ）_(400-700)・・・（２） （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンが形成された樹脂製のレプリカモールドを高精度にかつ大量に高い生産性で製造できる樹脂製モールド作製用積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本願発明の樹脂製モールド作製用積層体１０は、マスターモールドを用いた圧縮成形により樹脂製モールドを作製する際に圧縮成形に供される積層体であって、互いに対向する一対の基体１１，１２と、一対の基体１１，１２間に挟まれた液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料の層１３と、硬化性樹脂材料の硬化物からなり、前記一対の基体１１，１２間に挟まれた流動抑止体１４とを有し、硬化性樹脂材料の層１３が、一対の基体１１，１２および流動抑止体１４によって封入されている。 （もっと読む）

【課題】表面にシボ模様を有する成形体を効率良く製造する。
【解決手段】熱可塑性プラスチック材からなるものであって表面側にシボパターン面１１を有し、裏面側には模様層１２を有するシボ付きシート１と離型フィルム３との重合わせにて形成されるラミネート材３０を、所定の温度に加熱する予熱工程（Ａ）と、予熱されたラミネート材３０を真空引き手段９９を有する凹型９１のところに密閉状態を保って設置するセッティング工程（Ｂ）と、凹型９１側から真空引きを行ないラミネート材３０を成形加工する真空成形工程（Ｃ）と、ラミネート材３０を形成するシボ付きシート１の裏面側に熱可塑性プラスチック材を注入するインジェクション成形工程（Ｄ）と、両型９１、９２を開いて成形加工物５を取出すとともに、取出された成形加工物５の表面側に存在する離型フィルム３を引き剥がす離型フィルム除去工程（Ｅ）と、からなる。 （もっと読む）

【課題】 樹脂製薄板の両面を同時にコロナ放電処理できるコロナ放電処理方法を提供する。
【解決手段】 樹脂製薄板１の接着工程前に、誘電体ロール２に沿って樹脂製薄板１を搬送し、樹脂製薄板１を挟んで誘電体ロール２の反対側に設けた放電電極３から放電を行うコロナ放電処理方法において、放電領域内の樹脂製薄板１と誘電体ロール２との間に間隙４を設けながら放電することで、樹脂製薄板１の両面をコロナ放電処理しており、更に、樹脂製薄板１の両端１ａを誘電体ロール２上に支持することで、樹脂製薄板１の中程部１ｂと誘電体ロール２との間に間隙４を設けながら放電している。 （もっと読む）

【課題】生産性良く低コストで良好な転写率にて微細パターンの連続形成を行うことが可能で薄型の微細構造パターンを有するウェブ製造方法を提供する
【解決手段】ウェブ上に放射線硬化性樹脂層を設ける工程と、
微細構造パターンを有するロール型モールドを前記放射線硬化性樹脂層に押圧して構造転写する工程と、
前記放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程とを含む微細構造パターンを有するウェブ製造方法において、前記ロール型モールドの対水接触角と前記放射線硬化性樹脂層の対水接触角との差が１５°以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 表面に光沢の差があり、人、物による擦れに対してエンボス凸部の光沢の変化がないエンボス化粧板を得る。
【構成】 エンボス化粧板において、型板として、金属製のプレートの表面にエッチングレジスト層を設けてエッチング処理をした後、該エッチングレジスト層を除去して全面を研磨するとともに、エッチング処理により形成された凸部及び凹部の角に丸みを持たせ、次いで凸部にブラストレジスト層を設けて全面をブラスト加工し、しかる後、該ブラストレジスト層を除去し、次いで、再度全面をブラスト加工した賦型プレートを用いる。 （もっと読む）

【課題】 パターンを、配置（形成）する材料によって柱や孔を作成し、工程を簡素化することが可能な微細粒子を用いたパターン作成方法を提供する。
【解決手段】 基板１１上に、水分散性紫外線硬化型樹脂とポリスチレン標準微粒子１３と混ぜ合わせたものを、スピンコートにて塗布する。塗布した膜の水分を揮発させてポリスチレン標準微粒子１３を表層化した後、紫外線を照射することにより樹脂層１２を固定する。次に、庫内温度９０℃に設定したオーブンを用いて３０秒間加熱保持する。このようにしてできた基板１１を遠心分離機にセットして、２０００ｒｐｍで３０秒間回転させる。 （もっと読む）

不透明ウェブの両側にパターン化表面を成形する装置および方法。装置は第１のパターン化ロール（１８）と、第２のパターン化ロール（２０）と、ウェブが連続移動されつつパターンが透明ウェブ（１２）の両側に転写されるように、第１および第２のパターン化ロール（１８、２０）を回転させる手段とを含む。このプロセス中、第１および第２のパターン化ロール（１８、２０）が硬化エネルギーに対して不透明な複数の領域を備えるとともに、それらのパターンが少なくとも１００マイクロメートル以内に連続位置合わせされた状態で維持される。
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【課題】溶液製膜設備におけるフィルムの帯電量を抑える。
【解決手段】流延した軟膜を剥ぎ取って乾燥・冷却した後に巻き芯に巻き取ってフィルム１０１を製造する。乾燥後にフィルム１０１を冷却するための冷却室１０７に除電装置１２０を設け、冷却室１０７で冷却しながらフィルム１０１を除電する。冷却後のフィルム１０１にナーリング付与ローラ１０９によりナーリングを施しながら、除電装置１２１によりフィルム１０１を除電する。巻き取りの直前にも除電装置１２２を設け、フィルム１０１を除電する。巻き取り前の乾燥・冷却工程や、ナーリング付与工程、巻き取り工程で除電を行い、フィルム製造における帯電履歴を改善するため、フィルム１０１の帯電電位を−５〜＋５Ｖにすることができる。フィルム１０１の帯電量が低く抑えられ、フィルム１０１の鹸化処理や塗布処理において帯電電位に起因する塗布斑の発生が無くなる。 （もっと読む）