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Fターム[4F209PQ20]の内容

Fターム[4F209PQ20]に分類される特許

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【課題】樹脂フィルムに形状変化が生じた場合であっても、樹脂フィルムの凹凸パターンを基板の所望とする位置に合わせることができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂フィルム11と、前記凹凸パターンが転写されるべき光硬化性樹脂層16を有する基板15とを貼り合わせる際に、前記樹脂フィルム11と前記基板15とを位置合わせするアライメント方法であって、前記樹脂フィルム11はその平面形状が多角形であり、前記樹脂フィルム11の頂点部分は保持せずに辺の縁部を保持して平面方向に伸長する工程を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は、前記樹脂スタンパの反対側の面を吸引する複数の吸引孔15を有する吸引機構14と、前記複数の吸引孔15を、前記樹脂スタンパが載置される載置面12aの平面方向にそれぞれ独立して移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ。 (もっと読む)


【課題】樹脂スタンパの変形が生じた場合であっても、樹脂スタンパと基板との位置合わせを精確に行うことができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16の該微細な凹凸パターンを基板18上に形成された光硬化性樹脂層20に転写する際に、前記樹脂スタンパ16と前記基板18とを位置合わせするアライメント方法であって、以下の工程:前記基板18に対向するように配置されたステージ12に、前記凹凸パターン形成面16aとは反対側の面が接するように前記樹脂スタンパ16を載置し、該樹脂スタンパ16を前記反対側の面側から固定する固定工程;前記樹脂スタンパ16の変形部位を検出する検出工程;及び前記変形部位の検出結果に基づいて、前記固定した状態で前記樹脂スタンパ16をその平面方向に伸縮する伸縮工程;を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ16を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台12を有し、該載置台12は複数に分割され、該分割されてなる複数の分割載置部12−1〜12−9の少なくとも一部は、前記樹脂スタンパの前記反対側の面側から前記樹脂スタンパを固定する固定機構と、前記載置台の載置面の平面方向に移動する移動機構と、を有することを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ10。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性に優れ印刷品質の高い印刷物が得られる転写ローラーの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】棒状の金属を芯棒とし、その芯棒に弾性体が積層形成されたローラーの表面に微細パターンを有する転写ローラーを製造する方法であって、加硫ゴム表面に対して所望パターン形状が形成されたマスクを通過させたレーザー光を照射し、加硫ゴム表面にパターン加工することを特徴とする転写ローラーの製造方法及びその方法を用いた転写ローラーの製造装置。 (もっと読む)


【課題】基板の上のインプリント材から型を離型するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上のインプリント材を型で成形して硬化させ、硬化したインプリント材と前記型とを離すことで前記基板にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型を保持して移動する保持部と、前記基板を保持して移動するステージと、前記インプリント処理を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記基板のショット領域のうち外周ショット領域に前記インプリント処理を行う際には、前記外周ショット領域に対して供給されたインプリント材のうち前記基板の半径方向に沿って最も外側の部分の少なくとも一部が前記型と最後に離れるように、前記保持部及び前記ステージの少なくとも一方を制御することを特徴とするインプリント装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】微細なパターンを有する成形体を、目的の形状を有するものとして効率よく製造することができる成形体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の成形体の製造方法は、成形型を用い、ワークを加熱して、幅が10nm以上500μm以下の微細なパターンを有する成形体を製造する方法であって、前記成形型の構成材料と前記ワークの構成材料との貯蔵弾性率E’の差が100[MPa]以上となる温度T[℃]で成形を行う加熱工程と、前記ワークを加熱・成形することにより得られた成形体を前記成形型から離型する離型工程とを有し、前記温度T[℃]における前記ワークの構成材料の線膨張係数をα[℃−1]、前記温度T[℃]における前記成形型の構成材料の線膨張係数をα[℃−1]としたとき、|α−α|≦100.0×10−4の関係を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】真空(減圧)条件の下で熱転写成形を行う成形装置に要する設備経費を圧縮し、連続的な生産を可能とすることにより時間当たりの生産性の向上も実現できる熱転写成形装置を提供する。
【解決手段】被加工材を減圧して搬送する搬送成形ユニット10と、搬送成形ユニット内の被加工材を補助加熱する補助加熱部30と、搬送成形ユニットを挟持して補助加熱部よりも高圧力により被加工材を加熱成形する加圧熱成形部40と、搬送成形ユニット内の被加工材を冷却する加圧冷却部50と、搬送成形ユニットを挟持して加圧冷却部よりも低圧力により被加工材を補助冷却する補助冷却部60と、搬送成形ユニットの脱気部を通じて内部を減圧し補助加熱部に向けて搬出する搬出部70と、補助冷却部から搬送成形ユニットを受け入れてその分離を行う搬入部80と、接続部110を備え搬送成形ユニットを各部の配置順に搬送し所定位置に載置する搬送装置100を有する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置又は前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法において、前記スタンパは前記処理製品として機能を果たす正規パターンが必要とする深さ以上のダミー部分の深さを備えるダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】シリンダー状の金型をパターン母型として使用して透光性基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂を用いて作成することで、所望のレンズ形状及び強拡散性能を得ることができ、高い表面耐擦傷性能を得ることが可能となる。
【解決手段】凹凸部が活性エネルギー線硬化性樹脂を介して透光性基材表面に凹凸構造が付与された金型40を圧着させ、前記硬化性樹脂を介さない金型40と透光性基材との圧着部における金型40の幅方向接線長L0に対する透光性基材の幅方向接線長L2との接触長さ率Aが0.1≦A≦0.7であり、成形離型補助部42が金型40の表面に付与された箇所と、透光性基材とが接触点を有さず、その接触部と非接触部とが少なくとも1回以上繰り返してなり、透光性基材の法線方向での成形離型補助部42の凹部42aとの距離hが20μm<h<200μmとなるように製造される光学シートの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン刑生体を提供することを目的とする。
【解決手段】レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートTの転写パターン(洗浄領域)を当該転写パターンが下方に向くように保持機構4により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートTの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部31により形成し、前記通流空間に液収容部31の底面に形成された第1の開口部31aからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部31と転写パターン2外側領域との間に形成された隙間30を介して排液部32に排液する。リンス液は液収容部31内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートTの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】型に対する樹脂の充填性や離型性に有用なガスを利用する場合でも、基板全体に施される処理の均一性で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置1は、基板12上の未硬化樹脂15を型8により成形して硬化させて、基板12上に硬化した樹脂15のパターンを形成する。このインプリント装置1は、型8と未硬化樹脂15との押し付けに際し、型8の側から基板12上に向けてガスを供給し、かつ供給されたガスを型8の側で回収するガス供給機構4と、基板12を保持しつつ移動可能であり、かつ、保持された基板12の表面に合わせた表面高さで基板12を囲むように外側に配置される平板部22を有する基板保持部5と、基板保持部5に保持された基板12の外周側面と、平板部22の基板12に向かう内周側面との間に存在する間隙領域24に入り込んだガスを回収するガス回収機構25とを有する。 (もっと読む)


【課題】その表面の凹凸形状により高級感のある意匠性と、加工適性及び使用適性とを有する化粧シートを安価にかつ容易に製造できる製造方法、化粧シート及びこれを用いた化粧板を提供する。
【解決手段】硬化させた凹凸賦型層を有する賦型シートと、未硬化の樹脂組成物層を有する積層体Iとを、該凹凸賦型層と樹脂組成物層とが対面するようにラミネートさせた後、電離放射線を照射して未硬化の樹脂組成物層を硬化させて凹凸層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法、ならびに基材シートB、凹凸層、凹凸賦型層、凹凸付与層、及び基材シートAを順に有し、凹凸付与層、凹凸賦型層及び凹凸層が所定の関係を有する化粧シートである。 (もっと読む)


【課題】下層膜にダメージを与えることなく基板上のパターンを反転させることができるパターン材料を、基板上に成膜することが可能な成膜方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、成膜方法が提供される。前記成膜方法では、所望のレイアウトパターンを反転させた反転パターンを第1の基板上に形成する。そして、前記所望のレイアウトパターンのパターン材料を反転材料として第2の基板上に供給する。この後、前記反転パターンを前記反転材料に対向して接触させることにより、毛細管現象を利用して前記反転材料を前記反転パターンに充填する。 (もっと読む)


【課題】
本発明により、転写装置において、レジスト膜厚、及び被転写材の薄い厚みを従来よりも高精度に制御することができる。
【解決手段】
シリコンウェハなどの金型と被転写体、またはレジストフィルムとが接触する面内の、出来るだけ生産に関係の無い一部に微小穴を開けておき、その微小穴から被転写体のみの膜厚を測定する従来よりも高精度センサを取り付けることにより、被転写体のみの寸法が測定でき、転写中における寸法変化に線形性のある簡素な補正値を掛けることにより従来よりも高精度な薄膜の厚み制御を行うことができる。 (もっと読む)


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