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Fターム[4F210AG18]の内容

プラスチック等の延伸成形、応力解放成形 (31,869) | 一般形状、構造物品(用途物品優先) (3,408) | 多管状、多室状構造体(←ハニカム状) (1)

Fターム[4F210AG18]に分類される特許

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【課題】
独立した微少凹部を密に設けた第1基板の上面にハニカム材を塗布して薄いハニカム材層を形成し上記凹部を密閉して密閉空間にする第1工程と、
上記密閉空間内のガスを膨張させて上記ハニカム材を延伸させることで薄くて細長い無数のシェル(中空体)を一定方向に形成する第2工程と、
上記ハニカム材を乾燥させる第3工程とからなる、微細シェルによるハニカム構造体の製造方法について、
アスペクト比が5以上の微細シェル(中空体)によるハニカム構造体を製造できるように、上記微細シェルの膨張延伸工程を工夫すること。
【解決手段】
上記第1工程と第2工程と第3工程とからなる微細なシェルによるハニカム構造体の製造方法について、上記凹部が形成された面を重力の作用方向に向けた状態で、ハニカム材による塗布層を形成するとともに上記密閉空間内のガスを膨張させてハニカム材を延伸させ、さらに、ハニカム材を乾燥させること。 (もっと読む)


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