Fターム［4F210QC00］の内容
プラスチック等の延伸成形、応力解放成形 (31,869) | 延伸成形−延伸方向 (2,801)
Fターム［4F210QC00］の下位に属するFターム
一軸延伸 (1,113)
二軸延伸 (1,535)
多軸延伸 (17)
二軸延伸後、再延伸するもの (109)
その他 (6)
Fターム［4F210QC00］に分類される特許
21 - 21 / 21
芳香族ポリアミドフィルム及び磁気記録媒体
【課題】 均一窪みを多数形成して表面突起形成による弊害を除去し、加工性に優れたフィルムを提供すること。
【解決手段】 少なくとも片面に平均径が２０〜５００ｎｍで深さが５ｎｍ以上ある窪みが１０6〜２×１０8個／ｍｍ2存在し、かつ縁の高さが１０ｎｍを越える窪みの数が５×１０6個／ｍｍ2以下である芳香族ポリアミドフィルム。
（もっと読む）
21 - 21 / 21
[ Back to top ]