【課題】レーザーアブレーション加工による高分子基材への穿孔を、従来よりより小さな孔径でより高アスペクト比でおこない、緻密な孔開け加工を簡便に行う。また、特に、高分子フィルムや高分子シートに開けた緻密な多数の貫通孔を利用した複合電解質膜を提供する。
【解決手段】高分子フィルム又は高分子シートに、レーザーを照射させ、該高分子フィルム又は高分子シートの厚さ方向に複数の貫通細孔を生じさせる工程と、該高分子フィルム又は高分子シートに穿孔された孔の孔径を収縮させて該孔径を縮める工程と、該貫通細孔に電解質生成モノマーを充填させ、次いで該電解質生成モノマーを重合させて複合高分子電解質膜とする工程とを含む高分子電解質膜の製造方法。 （もっと読む）