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Fターム[4G001BC71]の内容

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【課題】本発明では、電気抵抗率の温度変化依存性が抑制されたハニカム構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】セル壁によって区画されたセルを有する柱状のハニカムユニットを含むハニカム構造体であって、前記セル壁は、炭化ケイ素粒子を含み、前記炭化ケイ素粒子の表面には、窒素含有層が形成されていることを特徴とするハニカム構造体。 (もっと読む)


【課題】接合部位が、被接合材の強度に近い高接合強度を有するセラミックス接合体を提供すること。
【解決手段】
窒化ケイ素セラミックス被接合材どうしが、窒化ケイ素粒子と酸窒化ケイ素ガラスを含む接合部位を介して接合されてなるセラミックス接合体である。接合部位は、その微細構造組織において、窒化ケイ素粒子と酸窒化ケイ素ガラスとが観察される。観察視野における窒化ケイ素粒子と酸窒化ケイ素ガラスとの合計量に対する酸窒化ケイ素ガラスの二次元断面観察による割合が97:3〜60:40である。接合部位に含まれる窒化ケイ素粒子が柱状である。 (もっと読む)


【課題】PBN製品に適用可能な新規有用なトレーサビリティ表示手法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面2がPBNからなる本体1を製造した後、該本体表面の任意箇所に純化黒鉛でトレーサビリティ表示2を設け、該トレーサビリティ表示を含めた本体表面をPBNオーバーコート3で被覆して、PBNオーバーコート製品4が製造される。PBNオーバーコートの膜厚を700μm以下とすれば、本体表面に表示した製品シリアル番号を読み取るに十分な透明性を与えることができるので、トレーサビリティ表示手法として好適である。黒鉛はPBNの物性に悪影響を与えないので、これを用いて形成されるトレーサビリティ表示が本体PBN表面とPBNオーバーコートとの間に介在しても、PBN製品本来の機能や耐久性を損なわない。 (もっと読む)


【課題】低コストで炭化ホウ素プリフォームにケイ素を含浸でき、ケイ素含浸中にクラックの発生を防止できる複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】炭化ホウ素10の強化材と金属ケイ素のマトリックスとからなる複合材料の製造方法であって、炭化ホウ素10の粒子表面に炭素成分20をコーティングしたプリフォームを作製する工程と、前記作製されたプリフォームに金属ケイ素を含浸させる工程と、を含む。これにより、プリフォーム中の炭化ホウ素10の粒子表面が炭素成分20でコーティングされ、金属ケイ素の含浸時に直接に炭化ホウ素10がケイ素に触れることを防止できる。また、表面にコーティングされた炭素成分20がケイ素と反応して炭化ケイ素30になるため、炭化ホウ素10の粒子表面が炭化ケイ素30に覆われ、炭化ホウ素10の粒子が保護される。 (もっと読む)


【課題】製造時に亀裂の発生が抑制された、表層と基材内部の物性が異なる複合セラミックスとその製造方法を提供する。
【解決手段】マトリックス中に強化材が含まれてなる複合セラミックスであって、前記強化材の単位体積当たりの含有率が、前記複合セラミックス表面および表面近傍で最小値をとり、続いて表面から深さ方向に対して漸増して、その後一定値に達することを特徴とし、さらに強化材の含有率が、深さ方向に対して直線状、階段状、漸近曲線状のいずれか1つの形状で漸増する、マトリックスが炭化ケイ素とシリコンと炭素からなり、強化材が炭素繊維であるとより好ましい。 (もっと読む)


【課題】コストがかからず、高温での強度も十分高いSi−SiC系複合材料を提供する。
【解決手段】Si−SiC系複合材料を以下の手順で製造する。まず、SiC成形体と金属Siとを、金属Siが加熱溶融したあとSiC成形体と接触するように配置し、酸化物の標準生成自由エネルギーの負の絶対値がSiより大きい元素からなる易酸化性金属(例えば金属Al)を含む混合物を共存させた状態で、常圧下、Arガス雰囲気中、1400〜1800℃で加熱処理することにより、溶融した金属Siを前記SiC成形体に含浸させる。 (もっと読む)


【課題】 低温〜高温の広い温度域ですぐれた抵抗値特性を有する炭化ケイ素発熱体,ハニカムを製造することができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の製造方法は、炭化ケイ素と、ケイ素と、炭素と、アルミニウム原料と、を混合する工程と、混合物を焼成する工程と、を有する製造方法である。そして、アルミニウム原料の割合,焼成条件を調節することで、優れた抵抗値特性が得られるものとなっている。 (もっと読む)


【課題】押出成形など、低コストの成形法に対して、同じく低コストでかつ環境負荷が少ない酸による洗浄法による半導体製造プロセス用SiC部材の製造方法を提供する。
【解決手段】水系押出成形において、成形体を乾燥後、不活性ガス雰囲気中で350〜450℃の温度で熱処理する脱脂工程と、酸で洗浄する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性を向上でき、またそのばらつきを効果的に抑制することができる窒化珪素質焼結体を提供する。
【解決手段】 単結晶試料についてラマン分光分析を行ったときの1200cm−1での散乱強度を基準散乱強度レベルX0として、その基準散乱強度X0からの増分散乱強度にて表した、500〜530cm−1に出現する最強の散乱ピークの高さをYkとし、また、焼結体のラマン分光分析を行ったときのスペクトルプロファイルの、1200cm−1における基準散乱強度X0からの増分散乱強度Y1として、Y1のYkに対する比Y1/Ykを0.4以上とする。これにより、窒化珪素質焼結体の耐摩耗性を向上させることができ、また、そのばらつきも抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】 部分的な強度の偏りが抑えられた炭化ケイ素質ハニカム体を得ること。
【解決手段】 本発明の炭化ケイ素質ハニカム体は、炭化ケイ素よりなり、軸方向にのびる複数のセルが区画された炭化ケイ素質ハニカム体において、炭化ケイ素質ハニカム体を形成する炭化ケイ素粒子の表面に、酸化被膜が均一に形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】溶解材料の含浸時に十分に炭化ホウ素とケイ素との反応を抑制し、クラックの発生を防止できる。
【解決手段】本発明の複合材料の製造方法は、炭化ホウ素の強化材と金属ケイ素のマトリックスとからなる複合材料の製造方法であって、金属ケイ素に対して10重量%以上の炭化ホウ素が含有されるように、炭化ホウ素含有材料を溶融金属ケイ素に混合し事前溶解させ、1420℃以上1500℃以下で事前溶解材料を、炭化ホウ素のプリフォームに含浸させる。このように、金属ケイ素に対して10重量%以上の炭化ホウ素が含有されるように事前溶解材料を生成し、低温の1420℃以上1500℃以下でプリフォームへの含浸させるため含浸時に炭化ホウ素と金属ケイ素との反応が生じにくい。その結果、反応生成物によるクラックを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】長期の使用に亘って、すぐれた仕上げ面精度を維持しつつ、同時にすぐれた耐摩耗性を発揮し得るCBNインサートを提供する。
【解決手段】逃げ面に溝と被膜が形成されたCBNインサートにおいて、
(a)その被膜後の溝形状が溝の凹凸を含む断面を見た時、溝幅W1とテラス幅W2はW1が1〜25μm、W2が3〜25μm、表面から溝の最も低い位置までの高さHが1.5〜15μmであり、1つのテラスと溝の組み合わせを1周期とした時、2周期以上で構成される形状であり、
(b)溝が形成される逃げ面内の領域が、チャンファーホーニング面と逃げ面の交線から逃げ面側に5〜300μmの範囲であり、
(c)溝を形成する方向が、刃先稜線と平行な線と溝形成方向の成す角θ(刃先先端と反対方向)が
−10°≦θ≦10°の範囲であることを特徴とするCBNインサート。 (もっと読む)


【課題】簡易な工程で製造することができ、広い範囲内で種々の比抵抗値をとることが可能な炭化珪素質セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】導電性を有する多孔質の炭化珪素質セラミックス焼結体であって、粒子表面に二酸化珪素層が形成されている。また、二酸化珪素層は、酸素濃度として0.4質量%〜4.8質量%が形成されている。更に、炭化珪素質セラミックス焼結体は、単一の方向に延びて列設された隔壁により区画された複数のセルを備えるハニカム構造に形成することが可能である。 (もっと読む)


【課題】低温〜高温の広い温度域ですぐれた抵抗値特性を有する炭化ケイ素を製造することができる炭化ケイ素焼結体の製造方法及び炭化ケイ素焼結体を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素焼結体の製造方法は、炭化ケイ素と、チタンを含むチタン原料と、炭素を含む炭素原料と、が混合した原料粉末を調製する原料混合工程と、原料粉末を焼結する焼結工程と、酸化性雰囲気下で炭素を酸化して除去する酸化工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】熱伝導性に優れた新規な構成のAlN粒子を簡易に提供する。
【解決手段】カーボン粒子とアルミナ粒子とを混合して坩堝内に配置し、次いで、前記カーボン粒子及び前記アルミナ粒子に対して、窒素雰囲気下においてマイクロ波を照射し、全体積の5%〜40%の割合で内部に中空部を有することを特徴とする、窒化アルミニウム粒子を製造する。 (もっと読む)


【課題】 低温〜高温の広い温度域ですぐれた抵抗値特性を有する炭化ケイ素焼結体を製造する炭化ケイ素焼結体の製造方法及び炭化ケイ素焼結体を提供すること。
【解決手段】 本発明の炭化ケイ素焼結体の製造方法は、炭化ケイ素と、アルミニウムを含むアルミ原料と、が混合した原料粉末を調製する原料混合工程と、原料粉末を、窒素とアルゴンとからなる雰囲気下で焼結する焼結工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明の炭化ケイ素焼結体は、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法を施してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低温〜高温の広い温度域ですぐれた抵抗値特性を有する炭化ケイ素焼結体を製造する炭化ケイ素焼結体の製造方法及び炭化ケイ素焼結体を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素焼結体の製造方法は、炭化ケイ素と、ホウ素を含むホウ素原料と、が混合した原料粉末を調製する原料混合工程と、原料粉末を、窒素とアルゴンとからなる雰囲気下で焼結する焼結工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、本発明は、プラズマガス耐性、高熱伝導を有し、優れた光学特性を有する窒化アルミニウム焼結体を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る窒化アルミニウム焼結体の製造方法は、窒化アルミニウム粉末とアルカリ土類系酸化物の焼結助剤とを特定の配合比で含む混合物からなる成形体を、還元雰囲気下の特定条件での焼成、特定条件でのアニールすることに特徴があり、この製造方法により、陽電子消滅法における欠陥分析において、窒化アルミニウム結晶中で、180ps(ピコ秒)内に消滅する陽電子の割合が90%以上であることを特徴とし、好ましくは200W/mK以上の熱伝導率を有する窒化アルミニウム焼結体が得られる。 (もっと読む)


【課題】放熱性に優れ、かつ高剛性の金属−セラミックス複合材料を提供する。
【解決手段】セラミックス粒子と結合材のシリカとからなる多孔体の気孔に、金属を浸透させてなる金属−セラミックス複合材料であって、前記金属−セラミックス複合材料の断面において粒径100μm以上のセラミックス粗大粒子の占める面積が35%以上であり、前記セラミックス粗大粒子のシリカ被覆率は30%以下である金属−セラミックス複合材料。断面における前記セラミックス粗大粒子のシリカ被覆率は30%以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、複数のハニカムユニットに安定して通電すると共に、高容量バッテリーから端子を経て電極間に電圧を印加しても断線及び接触抵抗による発熱を抑制することが可能なハニカム構造体及び該ハニカム構造体を有する排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ハニカム構造体10は、複数の貫通孔が長手方向に並設されていると共に、導電性セラミックスを含むハニカムユニット11が接着層12を介して4個接着されており、ハニカムユニット11の外周面には、一対の帯状電極13が形成されており、4個の一対の帯状電極13と電気的に接続されている一対の導電部材14が設置されている。 (もっと読む)


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