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Fターム[4G014AH00]の内容

ガラスの溶融、製造 (1,397) | 固相法、液相法、気相法等によるガラスの製造 (1,077)

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【課題】低コストで種々の石英ガラスシリンダー材料を製造できるようにする。
【解決手段】炉1は、炉天井2、中央に空所31を有する炉底3及び炉壁4から構成され、炉底3は支柱7にブラケット71を介して支持されている。炉1の中央には耐火材からなる円形の中芯9が設置してある。支柱7は、回転・昇降可能であり、炉底3は炉天井2に円形に配置された熱源5に対して回転及び昇降可能である。石英ガラス原料粉が熱源5に供給され、溶融される。中芯9は、溶融時の熱放射を阻止し、溶融部の温度低下を防止する。炉底3を回転させながら降下させることによって溶融した石英ガラスは炉底3に円筒形状に積層して固化していき、円筒形の石英ガラスシリンダー材料8が得られる。 (もっと読む)


【課題】従来の火炎加水分解法や、新たなスート押圧法、ゾル・ゲル法などの方法で作製することが困難な、ドープされたシリカ・チタニアガラスを使用した、EUVLの投影光学系の大型部品を提供する。
【解決手段】5℃から35℃の温度範囲に亘ってCTEが0±30ppb/℃以下である材料から成る素子ブランク10が、ドープされたシリカ・チタニアガラスから成る、インサート14を備える。シリカ・チタニアガラスに加えられたドーパントは、酸化アルミニウムと選択された遷移金属酸化物とから成る群から選択されたものであり、また素子ブランク10の材料は、ガラスとガラスセラミックとから成る群から選択される。このインサート14は、フリットを用いて、またはフリットを用いることなく、ブランク10に融合接合される。 (もっと読む)


【課題】ルツボの基体となる外層と、前記外層の内周面に形成された内層とを備えたシリカ焼結体ルツボにおいて、前記内層が外層から剥離し難く、かつシリカガラスルツボとなした際、内層の気泡を抑制したシリカ焼結体ルツボを提供する。
【解決手段】外層が、溶融シリカ粒子を堆積させて成形し、焼成された層であり、内層が、前記外層の内周面に、球状のシリカ粒子及びシリカ微粉末を含有する内層用コーティング液によるコーティング層が形成され、前記コーティング層を焼成して形成された層であり、前記内層は、球状のシリカ粒子が相互に連結されると共に、球状のシリカ粒子の間に空間が存在している。 (もっと読む)


【課題】ルツボの基体となる外層と、前記外層の内周面に形成された、シリコン等の溶融液と接する内層とを備えたシリカ焼結体ルツボにおいて、前記内層が外層から剥離し難いシリカ焼結体ルツボを提供する。
【解決手段】ルツボの基体となる外層と、前記外層の内周面に形成された、シリコン等の溶融液と接する内層とを備えたシリカ焼結体ルツボであって、前記外層が、溶融シリカ粒子からなる層であり、前記内層が、球状のシリカ粒子及びシリカ微粉末からなる層であり、前記内層と外層の界面近傍における球状のシリカ粒子の間の空間もしくは溶融シリカ粒子の間の空間が、前記シリカ微粉末によって閉塞されている。 (もっと読む)


【課題】温度の影響による変形を低減する、EUVリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面31a及び第1ゼロ交差温度TZC1でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiOドープ石英ガラスから構成された基板32を備える第2ミラー22と、反射面及び第1ゼロ交差温度とは異なる第2ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiOドープ石英ガラスから構成された第2基板を備える第2光学素子とを備え、第1ゼロ交差温度における第1基板32の熱膨張率の勾配(ΔCTE>)及び/又は第2ゼロ交差温度における第2基板の熱膨張率の勾配(ΔCTE)は負の符号を有する光学機構に関する。 (もっと読む)


【課題】Tzcに対する許容値、CTE対温度の傾き、およびTzcの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ25nm未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ200μm以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 (もっと読む)


【課題】ルツボの構成材料に含まれるアルカリ金属によってルツボ内のシリコン融液が汚染されるのを防止することができ、しかも、シリコン融液の保持のための十分な強度を備えており、シリコン単結晶引上げの歩留向上を図ることができるシリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボを提供する。
【解決手段】ルツボ内層が合成石英ガラスからなり、ルツボ外層が2〜10ppmの添加Alが固溶した天然石英ガラスからなる石英ガラスルツボを構成する。 (もっと読む)


【課題】
CZ工程において用いられる時、るつぼ壁にはほとんど体積変化が観察されず、そして溶融レベルにおいてはほとんど影響せず、減少した結晶欠陥でゆっくり引き上げられるシリコンインゴットに特に好適なるつぼを提供する。
【解決手段】
本発明のシリカガラスるつぼは、安定している無気泡内層及び不透明な外層を有し、この両方の層は、チョクラルスキー工程の操業中、減少した気泡成長を示す。本発明の溶融工程は、成形された粒子が緻密な溶融シリカに溶融される溶融前線において動力学的なガスバランスを制御している。 (もっと読む)


【課題】要求される種々の形状に対応して、必要な光遮蔽性と赤外域の放射率を満たす黒色部分を持ち、合成石英ガラスと同等の金属不純物の純度を保持し、天然石英ガラス並の高温粘度特性を有し、溶接などの高温加工が可能で、表面から炭素が放出しない透明層と、黒色石英中、及び、透明層と黒色石英ガラスの界面に泡や異物がない、透明層付き黒色合成石英ガラス及びその製造方法を容易に提供する。
【解決手段】黒色石英ガラス部分と透明層石英ガラス部分を含む透明層付き黒色合成石英ガラスの製造方法であって、水酸基を含むシリカ多孔質ガラス体を、揮発性有機珪素化合物雰囲気中、所定温度で気相反応させた後、所定温度にて焼成する黒色石英ガラス作成工程と、前記黒色石英ガラス部分に、特定のシリカスラリーである透明層材料を塗布し、所定の条件で加熱処理する透明層作成工程と、を含むようにした。 (もっと読む)


【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、OH基含有量が1ppm以下であり、塩素の含有量が30ppm以下で、厚さ2mmの波長190nmでの透過率が50%以下であり、1280℃での粘度(Logη)が12.0poise以上であり、低圧水銀ランプの254nmの紫外線を照射した場合に400nm〜650nmの可視光領域に0.01秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 (もっと読む)


【課題】ガラス成形体への気泡の混入や、成形体の平坦度の低下を抑制でき、また成形型のリサイクル性を向上させることのできる石英ガラスの成形方法を提供する。
【解決手段】底板6と側壁3と天板5とで囲まれた成形型1内に石英ガラス8を載置し、石英ガラス8を軟化点以上に加熱、溶融して成形する石英ガラスの成形方法において、底板6が、二以上のカーボン製の板からなり、当該板は互いに隣接する端面が接合するように敷設されてなり、板の接合面から、成形型1の最も近い側壁3の内壁面31までの距離が、この内壁面31と対向する内壁面31までの距離の15%以下の距離である石英ガラスの成形方法。 (もっと読む)


【課題】断面内の屈折率を均等化できる合成シリカガラス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】合成シリカガラスは、100ppm以上のF元素と、1ppm以上でありかつF元素の含有量の−β/α(式中、αはCl元素1ppmあたり変化する屈折率の値、βはF元素1ppmあたり変化する屈折率の値)倍以下であるCl元素とを含み、屈折率(nd)1.45850をリファレンスとしたときの断面内の比屈折率差が0.01%以下である。合成シリカガラスは、多孔質シリカ原料にフッ素をドープし、透明化されてなり、ドープは、多孔質シリカ原料を、フッ化塩素ガスを含む所定温度の雰囲気に配置することで行うことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】失透コーティングに形成されるピンホールの直径を小さく抑えることができるシリコン結晶成長用石英坩堝のコーティング方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るコーティング方法では、シリコン結晶成長用石英坩堝の内面に厚さ80μm以上4mm以下の無気泡石英層を形成し、前記無気泡石英層の表面をアルカリ土類水酸化物で被覆した後、前記表面に失透が発生する温度以上に加熱する。前記被覆は、前記内面を前記アルカリ土類水酸化物の溶液に浸漬させて行なってもよい。また、前記加熱は、前記シリコン結晶成長用石英坩堝に、溶融原料の固体原料を充填する前に行なってもよい。 (もっと読む)


【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有し、前記ドープ元素が、N、C及びFからなる群から選択される1種以上の第1の元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される1種以上の第2の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、1800℃以上に加熱するようにした。 (もっと読む)


【課題】 シリコン単結晶を製造する際のシリコン単結晶の有転位化を回避し、かつ、高い耐熱性を有し、生産性、歩留まりの低下を抑制することができる石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにそのような石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、石英ガラスからなり、ルツボ形状を有するルツボ基材を準備する工程と、直接法又はスート法により合成石英ガラス材を作製する工程と、前記合成石英ガラス材を、粉砕することなくルツボ形状に加工する工程と、前記ルツボ基材の内壁と、前記ルツボ形状に加工された合成石英ガラス材の外壁とをシリカ粉末を介して熱処理を行って接着させる工程と、を含むことを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。 (もっと読む)


【課題】湿度の浸透が防止できる溶融シリカ本体を提供する。
【解決手段】溶融シリカ本体102は、少なくとも1つの凹状の内部空洞104を具備し、該空洞が幾つかまたはその全ての内部層にわたって硝子質状シリカ106で覆われる構成とする。硝子質状のシリカ層は、溶融シリカ本体の内面の少なくとも一部を硝子質化点まで加熱するステップを含み、ある実施形態では、線形形状に対して直交する螺旋状のような特定の方法で内面にわたって線形の局部熱源を通過し、本体の内面上に、一時的に溶融されたシリカ材料のオーバーラップするスワスを生成する。 (もっと読む)


【課題】溶融シリカ本体に硝子質状の内層を生成する装置及びその動作方法を提供する。
【解決手段】溶融シリカ本体102の内面の少なくとも一部分に隣接して硝子質状のシリカの層112を生成する装置は、内面の前記少なくとも一部の層を硝子質化させるのに十分な熱を内面の少なくとも一部へ与えるために配置された熱源104を具備している。ある実施形態では、熱源104は内面の比較的小さい面積114を一度に加熱するように構成されており、装置は内面に関して熱源を移動するための位置付け機構を具備する。ある実施形態では、熱源はプログラムされたCNC運動制御システムの制御下で、本体102の内面に関して螺旋状に移動される水素−酸素表面ミックス燃料のトーチ104である。 (もっと読む)


【課題】 大型、高寸法精度、高耐久性の、シリカを主な構成成分とするシリカ容器を、安価な比較的低品位のシリカ粉体を主原料として、投入エネルギー量を少なく、低コストで製造するためのシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。
【解決手段】 シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体を形成し、該シリカ基体の内表面上に、シリカゾルからゾル−ゲル法によって透明シリカガラス層を形成するシリカ容器の製造方法。 (もっと読む)


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