【課題】安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置を実現する成膜装置を提供することを課題の一とする。また、マザーガラスのような大きな基板を用いて、信頼性の高い半導体装置の大量生産を行うことの出来る成膜装置を提供することを課題の一とする。また、上記成膜装置を用いて安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】基板の搬送機構と、搬送機構が送る基板の進行方向に沿って、酸化物半導体を成膜する第１の成膜室と、第１の熱処理を行う第１の加熱室とを有し、基板は、該基板の成膜面と鉛直方向との成す角が１°以上３０°以内に収まるよう保持され、大気に曝すことなく、基板に第１の膜を成膜した後に第１の熱処理を施すことのできる成膜装置を用いて、酸化物半導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一部が凹状または凸状に形成されている板状の結晶化ガラス成形体の製造方法であって、高い形状精度を有し、かつ高い均一性で結晶化している結晶化ガラス成形体を製造し得る方法を提供する。
【解決手段】結晶性ガラス板２を用意する。結晶性ガラス板２の少なくとも一部２Ａにバーナー１１の炎を直接当てることにより結晶性ガラス板２の少なくとも一部２Ａを加熱する。結晶性ガラス板２の加熱部２Ａをプレスにより凹状または凸状に成形する。少なくとも一部２Ａが凹状または凸状に成形された結晶性ガラス板２を熱処理することにより結晶化させる。 （もっと読む）

【課題】短時間で結晶化し、成形したガラスの形状と表面状態を保持しつつ結晶化する結晶性ガラス、及び、機械的強度が優れ、建材用結晶化ガラスとして好適な熱膨張係数を有し、アルカリ金属酸化物の含有量が少なく優れた化学的耐久性を有する結晶化ガラス、並びに該結晶性ガラス及び結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５５．０〜６５．０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ８．０〜１４．０％、ＭｇＯ １０．０〜２０．０％、ＣａＯ １．５〜６．０ ％、Ｌｉ₂Ｏ １．０〜２．２％、Ｎａ₂Ｏ ０．７〜３．０％、Ｋ₂Ｏ ２．５〜４．０％、Ｆ １．５〜３．０％を含む組成を有することを特徴とするＭｇＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラス及び結晶化ガラス。 （もっと読む）

強度の高い光源により光学部品に生じる損傷を防止する１つの方法は、光学部品を所定の時間アニーリングすることを含む。他の方法は、フッ化物イオン及び二フッ化水素イオンを含むエッチング液中で光学部品をエッチングすることを含む。該方法はまた、プロセスの間にエッチング溶液を超音波で攪拌すること、次いで光学部品をすすぎ浴ですすぐことを含む。 （もっと読む）

【課題】大きくて、複雑な形状の物品が成形可能であるガラス物品の製造方法およびその方法により得られた物品の提供。
【解決手段】粒子、ビーズ、ミクロスフェアまたは繊維の形態のガラスを準備する工程であって、そのガラスが少なくとも２種類の金属酸化物と、ガラスの重量に基づいてＳｉＯ₂を０〜２０重量％未満、Ｂ₂Ｏ₃を０〜２０重量％未満およびＰ₂Ｏ₅を０〜４０重量％未満とを含み、前記ガラスは、ガラス転移温度Ｔgと結晶化開始温度Ｔxとを有しており、そのガラス転移温度Ｔgと結晶化開始温度Ｔxとの差が少なくとも２５Ｋである工程、Ｔg以上の温度で、前記粒子、ビーズ、ミクロスフェアまたは繊維が融合して、融合した形成体を成形するように前記ガラスを加熱する工程、および前記融合した形成体を加熱して、平均サイズが１マイクロメートル未満の晶子を少なくとも１容量％含むガラス−セラミックを形成する工程を含む、ガラス−セラミックの製造方法。 （もっと読む）