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Fターム[4G030GA12]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 杯土の構成原料 (3,529) | 結合剤の使用 (871)

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【課題】セラミック粒子(単結晶粒子)よりも磁気異方性が大きい圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】この製造方法は、(1)セラミック粒子CPを多数含むスラリーSL1を用意する準備ステップ、(2)スラリーSL1中のセラミック粒子CPに分散力を付与することによって各セラミック粒子CPをばらばらに散らばらせる分散ステップ、(3)分散ステップ後のスラリーSL1中のセラミック粒子CPに磁場を印加することによって各セラミック粒子CPの結晶方位を揃える配向ステップ、(4)配向ステップ後のスラリーSL1中のセラミック粒子CPに凝集力を付与することによって結晶方位が揃っている複数のセラミック粒子CPが凝集したセラミック粒子集合体AScpを作製する凝集ステップ、(5)凝集ステップ後のスラリーSL1からセラミック粒子集合体AScpを取り出す取出ステップ、を備える。 (もっと読む)


【課題】環境汚染がなく、且つ低融点低抵抗金属と同時焼成可能で基板の反りが少なく、白色性が強い無鉛ガラスセラミックス組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は40〜55重量%のガラス粉末と45〜60重量%の無機フィラーを配合・焼成されてなり、該ガラス粉末のガラス組成が、重量%でSiO2を55〜60%、Al2O3を11〜12%、CaOを16〜18%、ZnOを0〜4%含有しており、且つ実質的にPbO、MgOおよびAs2O3、Sb2O3を含有しないことを特徴とする無鉛白色ガラスセラミックス組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】高密度かつ低抵抗のスパッタリングターゲット、電界効果移動度の高い薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】Gaをドープした酸化インジウム、又はAlをドープした酸化インジウムを含み、正4価の原子価を示す金属を、Gaとインジウムの合計又はAlとインジウムの合計に対して100原子ppm超1100原子ppm以下含み、結晶構造が、実質的に酸化インジウムのビックスバイト構造からなる焼結体を含むスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】固形物の発生やセラミックススラリーの均質性を悪化させることなく、脱泡効率を高め、脱泡時間を短縮する。
【解決手段】湿式成形用セラミックススラリーの製造方法は、セラミックス粉末、溶媒およびバインダーを含有する混合物を減圧容器内で撹拌する工程と、減圧下での撹拌により、気泡の膨張により減圧容器内を遡上してきた混合物をセンサーで感知する工程と、感知があったとき、減圧容器上部より混合物に消泡剤を噴射し、膨張した気泡を破壊する工程と、を含む。これにより、固形物の発生やセラミックススラリーの均質性を悪化させることなく、脱泡効率を高め、脱泡時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】 熱処理される原料粉末を汚染することが抑えられ、かつ耐熱衝撃性に優れたリチウムイオン電池用正極活物質用熱処理容器を提供すること。
【解決手段】 本発明のリチウムイオン電池用正極活物質用熱処理容器は、リチウムイオン電池用正極活物質の原料粉末を熱処理するときに原料粉末が配されるリチウムイオン電池用正極活物質用熱処理容器において、全体を100mass%としたときに、60〜95mass%でアルミナと、10〜20mass%でシリカと、を含有するとともに、MgO,ZrO,Li化合物を含まず、かつ熱膨張率が0.584〜0.659%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】強度が高く、耐熱衝撃性に優れた複合セラミック体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】複合セラミック体1は、平均粒径0.5〜1μmのアルミナ粒子11のマトリクスに平均粒径0.3μm以下のジルコニア粒子12を分散させてなり、アルミナ粒子11とジルコニア粒子12との含有量が両者の重量%比で80:20〜95:5である。JIS R 1601に基づく4点曲げ試験を行った複合セラミック体1の破面を観察し、破壊の起点となった内部欠陥の投影面積の平方根を欠陥サイズとした場合に、その欠陥サイズが55μm以下である。 (もっと読む)


【課題】環境に優しく、実用に耐える圧電特性を維持しつつ生産性に優れたKNa(1−x)Nb0を母材とした圧電材料を提供する。
【解決手段】焼結体からなる圧電材料であって、一般式KNa(1−x)Nb0で表されるとともに0.02≦x≦0.5である化合物に、ZnOを最も多く含むZn系ガラスと、Feとが添加されてなる圧電材料とした。より好ましくは、前記Zn系ガラスと前記Feが、ともに0wt%よりも多く、1.0wt%以下の質量比で添加されている圧電材料とすることである。 (もっと読む)


【課題】本発明の態様は、パーティクルの発生を抑制することができるとともに、静電チャック表面の清浄状態を容易に回復させることができる静電チャックを提供する。
【解決手段】被吸着物を載置する側の主面に形成された突起部と、前記突起部の周辺に形成された平面部と、を有する誘電体基板を備えた静電チャックであって、前記誘電体基板は、多結晶セラミックス焼結体から形成され、前記突起部の頂面は曲面とされ、前記頂面には第1の凹部が形成され、前記平面部は、平坦部を有し、前記平坦部には第2の凹部が形成され、前記第1の凹部の深さ寸法は、前記第2の凹部の深さ寸法よりも大きいこと、を特徴とする静電チャックが提供される。 (もっと読む)


【課題】焼成時や使用時の熱による収縮および変形を抑制することができるセラミックス構造体の製造方法およびセラミックス構造体を提供する。
【解決手段】セラミックス構造体10の製造方法は、粒子径がメジアン直径の90〜110%になるまで分球したセラミックス粒子101を焼成(第1焼成工程)し、焼成したセラミックス粒子101を結合剤102と混練した後に所望する構造体の形状に成形し、得られたセラミックス成形体103を第1焼成工程よりも低い温度で焼成(第2焼成工程)する。この製造方法によれば、焼成時や使用時の熱によるセラミックス構造体の熱収縮および変形をより小さく抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善するスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。硫化物を含まない酸化錫粉、酸化亜鉛粉、及び3価以上の元素の酸化物粉を混合して800〜1300℃で仮焼し、粉砕、造粒処理を経て加圧成形を行った後、焼結して製造することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。 (もっと読む)


本発明の対象は、カッティングテンプレート又はソーブロック、好ましくは医療技術において使用するためのカッティングテンプレート又はソーブロックである。 (もっと読む)


【課題】マグネシアクリンカを使用したマグクロれんがにおいて、耐消化性及び熱間強度を向上させること。
【解決手段】耐火原料配合物を混練し、成形後、1700℃以上の温度で焼成して得られるマグクロれんがであって、前記耐火原料配合物が、B含有量が0.2〜1.0質量%、CaO含有量が0.8質量%以下、及びかさ密度が3.20g/cm以上であるマグネシアクリンカ20〜80質量%と、クロム鉱20〜60質量%とからなり、かつ前記耐火原料配合物中のCaO含有量が0.8質量%以下でSiO含有量が2.5質量%以下であるマグクロれんが。 (もっと読む)


本発明は、以下の材料:Znを主成分として、Prを0.1〜3原子%の割合で、Y,Ho,Er,Yb,Luから選択される金属Mを0.1〜5原子%の割合で含む、バリスタセラミックに関する。
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【課題】耐熱性に優れ、十分な触媒性能を有し、燃焼除去の回数を低減させることが可能な触媒付セラミックフィルタを提供すること。
【解決手段】多孔質の隔壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたコーディエライト基材からなるハニカム構造体2を有し、ハニカム構造体2のセルのうち、排ガスを導入する導入通路となるセルの下流端と、多孔質の隔壁を通過した排ガスを排出する排出通路となるセルの上流端とを栓部によって閉塞してなる。ハニカム構造体2は、水銀ポロシメータ法で測定した5μm以下の細孔の細孔容積が0.05mL/g以下である。コーディエライト基材は、コーディエライト相3と、TiO2相4と、MgWO4相5とを有してなる。コーディエライト基材全体を100質量%とすると、Tiは5.8質量%以上であり、Wは4.5質量%以上である。コーディエライト基材は、白金あるいは、白金及びロジウムからなる触媒金属6を担持している。 (もっと読む)


【課題】 安定的な成膜が可能な高密度化した酸化亜鉛系焼結ターゲットを得るための製造方法を提供する。
【解決手段】 B、AlおよびGaからなる群から選ばれる少なくとも1種の添加元素を含有する酸化亜鉛系焼結ターゲットの製造方法であって、酸化亜鉛粉末と、前記添加元素を金属、酸化物もしくは亜鉛との複合酸化物として調整した添加元素を含有する粉末との混合粉末を雰囲気焼結によって相対密度90%以上の仮焼結体を作製した後、該仮焼結体を金属容器に密閉せずに、温度900℃以上かつ圧力80MPa以上の条件の熱間静水圧プレスで相対密度99%以上の焼結体を製造する酸化亜鉛系焼結ターゲットの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】焼成過程において異種接合領域に発生する拡散現象を防止するための拡散防止層を有する低温同時焼成セラミック基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明による低温同時焼成セラミック基板は、第1誘電率を有する物質からなる第1セラミック層と、上記第1誘電率より低い第2誘電率を有する物質からなる第2セラミック層と、上記第1セラミック層と第2セラミック層の間に介在し、上記第1セラミック層物質、上記第2セラミック層物質及びバリウム(Ba)化合物からなる拡散防止層を含む。本発明により焼成過程において高誘電率の第1セラミック層と低誘電率の第2セラミック層の夫々を成す材質のイオンが接合領域において互いに拡散され拡散層のような欠陥の発生を抑制し、これにより従来高誘電率である第1セラミック層の誘電率が落ちる問題点を解消し、信頼性が向上した低温同時焼成セラミック基板を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】ITO膜に迫る高い導電率の膜を高速成膜することができる。
【解決手段】透明導電膜を成膜するために用いられるZnO蒸着材において、ZnOを主成分としたペレットからなり、ペレットがPr、Nd、Pm及びSmからなる群より選ばれた1種又は2種以上の第1元素と、B、Al、Ga及びScからなる群より選ばれた1種又は2種以上の第2元素の双方を含み、第1元素が第2元素よりも含有割合が高く、第1元素の含有割合が0.1〜14.9質量%、第2元素の含有割合が0.1〜10質量%の範囲内であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 記録媒体駆動装置の高容量化に伴い、フェムトスライダ,アトスライダ等の小型化されたスライダが求められているのに対し、スライシング加工等の機械加工で形成されるスライダの側面およびイオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって形成される流路面からの脱粒を抑制させた磁気ヘッド用基板およびこれを用いた磁気ヘッドならびに記録媒体駆動装置を提供する。
【解決手段】 アルミナを35質量%以上70質量%以下、炭化チタンを30質量%以上65質量%以下の範囲で含む焼結体からなる磁気ヘッド用基板1であって、前記焼結体の平均結晶粒径が0.25μm以下(但し、0μmを除く)である磁気ヘッド用基板1である。この磁気ヘッド用基板1によれば、全体にわたって個々の結晶粒子が小さいために、短冊状に切断したり流路面を形成したりしても、大きな脱粒はほとんど発生しない。 (もっと読む)


【課題】 乾燥収縮が小さく乾燥割れの少ない良好なセラミック成形用成形体を製造するための坏土組成物を提供する。
【解決手段】
セラミック粒子、バインダー、水、ポリアルキレンポリオール滑剤並びに(メタ)アクリル酸(塩)(A)及び式(1)で表されるビニルモノマー(B)を必須構成単量体とするビニルポリマー(P)を含有することを特徴とする押出成形用坏土組成物。

1−O−(AO−)pX (1)

{式中、R1は(メタ)アクリロイル基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、pは1〜200の整数、XはH又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。} (もっと読む)


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