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Fターム[4G030GA32]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 焼結体の処理方法 (314)

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【課題】 絶縁性と圧電性が良好で、鉛とカリウムを含まない圧電材料、前記圧電材料を用いた圧電素子または積層圧電素子を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物からなる圧電材料。
一般式(1)
(1−x){(NaBa1−z)(NbTi1−z)O}−xBiFeO(式中、x、y、zは、0<x≦0.015、0.80≦y≦0.95、0.85≦z≦0.95を表す。)上記の圧電材料と、前記圧電材料に接して設けられた一対の電極とを少なくとも有する圧電素子。上記の圧電材料からなる圧電材料層と、内部電極を含む電極とが交互に積層された積層圧電素子。 (もっと読む)


【課題】費用が安く純度の高いα−アルミナを得るための手段を提供する。
【解決手段】α−アルミナ焼成体を生産する方法のフロー1は、ベーマイトに加水するステップ101、混練するステップ102、脱気するステップ103、押出成形するステップ104、および焼くステップ105を備えている。前記ステップ103およびステップ104において、ベーマイトを脱気し、高圧で押出成形することによりベーマイト内部の気体を排除することができるので、ステップ105において、1回の焼成のみでサファイア単結晶の原料として要求される高い嵩密度を備えたα−アルミナ焼成体を生産することができる。 (もっと読む)


【課題】高強度で、多結晶セラミックス基材の変形が少なく、半導体や液晶の製造装置用部材として使用されてもコンタミネーションの発生が少ない多結晶セラミックス接合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】Yを主体相として含む第1の多結晶セラミックス基材と、AlまたはYを主体相として含む第2の多結晶セラミックス基材とが、接合層を介して接合された多結晶セラミックス接合体であって、前記接合層は、Y、Al、SiOおよびZrOから選ばれる少なくとも3種類の酸化物を含む複合酸化物からなる多結晶セラミックス接合体。 (もっと読む)


【課題】結晶配向を制御したセラミックスの製法の提供。このように結晶配向制御されたセラミックスは電気抵抗に異方性を持ち、熱電変換セラミックスとして利用することができる。
【解決手段】拡散による結晶粒間の変形の緩和が生じうる温度と歪み速度を選定することにより大歪み加工を達成した。即ち、不整合結晶構造を持つCo酸化物から成る多結晶を800℃以上から該結晶の融点の30℃下の温度までの温度範囲にて1.0×10−5〜1.0×10−3−1の歪み速度で圧縮加工を行うことにより、この多結晶の(001)面上ですべり変形を生じさせることができる。 (もっと読む)


【課題】比較的低コストで製造でき、低い静電正接を有し、加工性に優れた酸化アルミニウム焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウムの純度が99.0重量%以上の酸化アルミニウム焼結体であって、酸化チタンおよび二酸化ケイ素が合計で0.2重量%以上0.8重量%以下含有され、酸化アルミニウム粒子の長尺方向の平均粒径が20μm以上である。このように、酸化チタンが含有されることで、酸化アルミニウム粒子が粗大化し、酸化アルミニウム粒子同士の粒界が少なくなるため、誘電正接を低下させることができる。一方で、二酸化ケイ素が含有されるため、安定的に誘電正接を低下させることができる。また、粒子が粗大化することによって加工性を向上させることができる。また、極端に高い酸化アルミニウムの純度は不要であり、低コスト化できる。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットや蒸着用タブレットとして利用され、成膜中にクラック等が発生し難いZn−Sn−O系酸化物焼結体とその製法を提供する。
【解決手段】上記酸化物焼結体は、錫がSn/(Zn+Sn)の原子数比として0.01〜0.6含有され、焼結体中における平均結晶粒径が4.5μm以下で、CuKα線を使用したX線回折によるZnSnO相における(222)面、(400)面の積分強度をそれぞれI(222)、I(400)としたとき、I(222)/[I(222)+I(400)]で表される配向度が0.52以上であることを特徴とする。この酸化物焼結体は機械的強度が改善されているため、焼結体を加工する際に破損が起こり難く、スパッタリングターゲット若しくは蒸着用タブレットとして使用された際においても透明導電膜の成膜中に焼結体の破損やクラック発生が起こり難い。 (もっと読む)


【課題】耐熱性無機基板上に塗布法で形成された高い仕事関数を有する有機EL用透明導電性基材とその製造方法、有機EL素子を提供する。
【解決手段】基板1上に、主成分として有機インジウム化合物、または有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液、あるいは、主成分として有機錫化合物、または有機錫化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を無機化して、酸化インジウム、またはドーパント金属酸化物を含む酸化インジウムである導電性酸化物を主成分とする無機膜、あるいは酸化錫、またはドーパント金属酸化物を含む酸化錫を主成分とする無機膜を形成する無機化工程の各工程からなる塗布法により透明導電膜3を形成する有機EL用透明導電性基材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング用ターゲットとして好ましく使用され得る導電性酸化物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶質In23と、結晶質Ga2ZnO4とを含む導電性酸化物であって、導電性酸化物において、Znの原子濃度比を1とした場合に、Inの原子濃度比が0.4以上1.8以下であり、かつ、Gaの原子濃度比が0.4以上1.8以下の導電性酸化物とし、In−Ga−Zn−O酸化物のスパッタリング用のターゲットとして用いること。 (もっと読む)


【課題】従来よりも抵抗値の低いIn−ZnO系酸化物導電膜を形成することができるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム元素(In)、亜鉛元素(Zn)及び下記のA群から選択される少なくとも1つの元素(A)を含有し、In、Zn及びAの金属元素の組成(原子比)がInZn(1-x)で表わされる酸化物からなり、x及びyが下記式(1)及び(2)を満たすスパッタリングターゲット。
A群:Al、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、Ga、B、Si、Ge、ランタノイド
0.68≦ x ≦0.95 (1)
0.0001≦ y ≦0.0045 (2) (もっと読む)


【課題】バーナーの小型化、少台数化、短時間の熱交換を図ることができ、しかも熱膨張、酸化、腐食等により損耗し難い蓄熱部材及び熱交換器を提供する。
【解決手段】理論密度比で95%以上の緻密質セラミックスからなる蓄熱部材であって、
前記緻密質セラミックスが、平均結晶粒径2〜50μm、平均アスペクト比4以上10未満、純度85質量%以上のアルミナ質セラミックスを含み、該アルミナ質セラミックスが、アルミナ以外の成分系として、それぞれ0.1〜6質量%の、マグネシア(MgO)、シリカ(SiO)、希土類酸化物(RE及び/又はREO、RE:希土類元素)、酸化鉄(Fe及び/又はFe)、カルシア(CaO)、クロミア(Cr)、前記以外の遷移金属酸化物、又は、これらの複合酸化物の少なくとも1種以上を含有することを特徴とする蓄熱部材。 (もっと読む)


【課題】高精度に加工された複合セラミックス部材に生じる精度変化を抑制できる複合セラミックス部材の保管方法を提供する。
【解決手段】正膨張の材料および負膨張の材料から成り、高精度に加工された複合セラミックス部材の保管方法であって、複合セラミックス部材を真空パックし、真空パックされた複合セラミックス部材が置かれる環境の温度を18℃以上28℃以下、かつ、湿度を70%RH以下に管理する。これにより、温度変化や湿度変化に対して、複合セラミックス部材に精度変化が生じるのを抑制できる。正膨張の材料とは、少なくとも室温近傍の所定の温度範囲で熱膨張係数が正となる材料をいい、負膨張の材料とは、少なくとも室温近傍の所定の温度範囲で熱膨張係数が負となる材料をいう。 (もっと読む)


【課題】予備スパッタ工程に要する時間を短縮化し、そのばらつきも小さくなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛を主成分とする焼結体からなり、焼結体の表面の水との接触角が80°以下である。これは、アセトン又はアルコールを用いて表面が洗浄されることによる。そして、この洗浄後、湿度が40〜80%、温度が室温から100℃以下の環境化で1時間以上静置されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】KNa(1−x)Nb0を母材として、環境に優しく、圧電特性に優れる圧電材料をより安価に提供する。
【解決手段】一般式KNa(1−x)Nb0で表される化合物を主成分として含んだ圧電材料であって、0.1≦x≦0.7であるとともに、Cu酸化物が10mol%以下、BaTiOが、1.0mol%以上、20mol%以下添加されている圧電材料とした。また。さらに、ガラスが0.1wt%以上10wt%以下添加されている圧電材料とすればより好ましい。 (もっと読む)


【課題】環境に優しく、実用に耐える圧電特性を維持しつつ生産性に優れたKNa(1−x)Nb0を母材とした圧電材料を提供する。
【解決手段】焼結体からなる圧電材料であって、一般式KNa(1−x)Nb0で表されるとともに0.02≦x≦0.5である化合物に、ZnOを最も多く含むZn系ガラスと、Feとが添加されてなる圧電材料とした。より好ましくは、前記Zn系ガラスと前記Feが、ともに0wt%よりも多く、1.0wt%以下の質量比で添加されている圧電材料とすることである。 (もっと読む)


【課題】安定放電可能な酸化物焼結体ターゲット、および低抵抗かつ可視光域から近赤外域の広範囲で高い透過率を有する透明導電膜を提供する。
【解決手段】亜鉛、元素L(Lはアルミニウムおよび/またはガリウム)、スカンジウム並びに酸素から成る複合酸化物焼結体であって、原子比が、
L/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.001〜0.100
スカンジウム/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.001〜0.100
である酸化物焼結体から成るスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により成膜し、原子比が
L/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.002〜0.100
スカンジウム/(亜鉛+L+スカンジウム)=0.002〜0.100
である透明導電膜を得て、それを受光素子に使用する。 (もっと読む)


【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性、耐熱性等の化学的耐久性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜形成材料は、酸化亜鉛を主成分とし、フッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムのうち少なくとも一方を含み、さらにチタンを含む酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であり、全金属原子数に対するチタンの原子数の割合が2%超10%以下であり、全金属原子数に対するフッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムの一方または両方の金属原子数の割合が0.1%以上5%以下であり、かつチタン源として、一般式:TiO2-X(X=0.1〜1)で表される低原子価酸化チタンを用いた酸化物焼結体である。 (もっと読む)


【課題】血流促進効果を備え、しかも自由に色をつけることが可能なセラミックス成形体と、そのようなセラミックス成形体を利用して構成された皮膚血流促進用装身具の提供。
【解決手段】ブレスレット1は、顔料で色が付けられた球状のセラミックス成形体2を26個と、各セラミックス成形体2を一列に並べた状態において各セラミックス成形体2の間に一つずつ配置されるビーズ4とを備えている。セラミックス成形体2は、ピロリン酸カルシウム及び焼結助剤を主成分とするセラミックス母材100重量部に対して、五酸化アンチモンを含有する酸化スズである五酸化アンチモン含有酸化スズが0.1〜70重量部配合された原料組成物を、成形、焼成したものである。ブレスレット1の一端に設けられた円柱状磁石5とブレスレット1の他端に設けられた球体状磁石7を磁着させるとブレスレット1が環状になる。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの製造時およびスパッタリング時に割れを生じることのない高強度な酸化亜鉛焼結体および高抵抗な酸化亜鉛薄膜を提供する。
【解決手段】ジルコニウムを10〜1000ppm含有し、抵抗率が10Ω・cm以下である円筒形状の酸化亜鉛焼結体から成るスパッタリングターゲットを作製する。
またジルコニウムを10〜2000ppm含有し、抵抗率が10Ω・cm以上であり、膜厚100nmのとき、波長500nmの透過率が75%以上の酸化亜鉛薄膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、例えば船底塗料に添加して使用されて静電気を帯電、放電等することにより、海棲生物が船底に付着するのを防止できる静電気吸収帯電放電剤及びその製造方法を提供する。
【解決手段】静電気吸収帯電放電剤は粉体のセラミックス体と、このセラミックス体の表面及び微細孔の内面に結合された炭素から構成されている。前記セラミックス体はマグネシウム、アルミニウム、珪素、鉄等を含有している。前記セラミックス体は直径が300μm〜600μmの粉体状に形成されている。 (もっと読む)


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