【課題】
本発明は、従来のジルコニア部材と比較して、特に局所的なエッチング、それに伴うパーティクル発生が生じにくい耐プラズマ部材及びその製造方法を提供する事を目的とする。
【解決手段】
イットリア及びチタニアを含有するジルコニア焼結体からなる耐プラズマ部材。チタニア含有量が少なくとも３ｍｏｌ％であること、及び、イットリア含有量が少なくとも６ｍｏｌ％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】自然な歯と同等の審美性、同等な色調及び透光性を有し、かつ、高い強度を有するジルコニア焼結体を提供する。
【解決手段】鉄化合物及び２〜４ｍｏｌ％のイットリアを含み、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊が５１以上８０以下であり、相対密度が９９．８０％以上であることを特徴とする着色透光性ジルコニア焼結体を提供する。着色ジルコニア焼結体は試料厚さ１ｍｍ、Ｄ６５光源における全光線透過率が２０％以上であることが好ましい。着色透光性ジルコニア焼結体は、特に歯科用途で使用されるジルコニア焼結体、さらには義歯材料等のミルブランク、歯列矯正ブラケットに適している。 （もっと読む）

【課題】セラミックスとセラミックスとの接合体およびその製造方法を提供する。さらには、セラミックスと透光性を有するセラミックスとの接合体、特にジルコニア焼結体と透光性セラミックスとの接合体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ジルコニア焼結体が接合材を介さずに透光性セラミックスに接合してなるセラミックス接合体である。このようなセラミックス接合体は、透光性セラミックスとジルコニア焼結体を焼成することにより、ジルコニア焼結体を収縮させて透光性セラミックスとジルコニア焼結体とを接合させる。 （もっと読む）

【課題】セラミックスとセラミックスとの接合体およびその製造方法を提供する。さらには、セラミックスと透光性を有するセラミックスとの接合体、特に着色ジルコニア焼結体と透光性セラミックスとの接合体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】着色ジルコニア焼結体１が接合材を介さずに透光性セラミックス２に接合してなるセラミックス接合体である。透光性セラミックス２と着色ジルコニア焼結体１を焼成することにより、着色ジルコニア焼結体１を収縮させて透光性セラミックス２と着色ジルコニア焼結体とを接合させる。 （もっと読む）

【課題】 高屈折率低分散の光学特性を有する透光性セラミックスの製造方法およびその製造方法により得られた透光性セラミックスからなる光学素子を提供する。
【解決手段】 Ｌａ_ｘＡｌ_{（２−ｘ）}Ｏ_３（ｘは０．７５≦ｘ≦０．８０を表す。）から成る結晶粒子の成形体を１６５０℃以上１８００℃以下で焼結する工程を有する透光性セラミックスの製造方法。前記製造方法により得られた透光性セラミックスからなる光学素子。前記透光性セラミックスの屈折率が２．００以上、アッべ数が３５以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 透光性が良好なＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ＬａＡｌＯ３の粉末を４０℃／分以上の昇温速度で１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱した後、前記焼結温度に３分以上４５分以下の時間保持して焼結する焼結工程をＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。ＬａＡｌＯ３の粉末を１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱して焼結して焼結体を得る焼結工程、前記焼結体を９００℃以上１３００℃以下の温度でアニールするアニール工程を有するＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 Ｌａ原子及びＯ原子を有し、着色がない光学部材用の組成物及び、透明な光学部材を提供することを目的とする。
【解決手段】 Ｌａ原子及びＯ原子を有する光学部材用の組成物において、前記組成物がさらに、Ｃａ原子、Ｍｇ原子、Ｂａ原子、Ｓｒ原子、Ｚｎ原子からなる群Ａから選ばれる少なくとも１種の原子と、Ｚｒ原子、Ｔｉ原子、Ｓｎ原子、Ｈｆ原子からなる群Ｂから選ばれる少なくとも１種の原子と、Ｔａ原子、Ｎｂ原子からなる群Ｃから選ばれる少なくとも１種の原子と、を有し、前記組成物の有する原子の総和を１００ｍｏｌ％としたときに、前記Ｌａ原子と、前記Ｏ原子と、前記群Ａから選ばれる少なくとも１種の原子と、前記群Ｂから選ばれる少なくとも１種の原子と、前記群Ｃから選ばれる少なくとも１種の原子の総和が９９ｍｏｌ％以上であることを特徴とする光学部材用の組成物。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体保護膜形成用として、割れやＩｎの溶出がなく製造工程を簡素化でき、高密度が得られる酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ＺｒＯ_２，Ｉｎ_２Ｏ_３，Ｇａ_２Ｏ_３およびＺｎＯを含有し、ＺｒＯ_２相の周囲がＩｎとＺｎとＧａとの酸化物からなる複合酸化物相を含む相で囲まれた組織を有する。好ましくは、不可避不純物を除いた全金属成分量に対する原子比で、Ｚｒ：Ａ％，Ｉｎ：Ｂ％，Ｇａ：Ｃ％およびＺｎ：Ｄ％とされており、これらの成分組成が、０＜Ａ≦４５．５、９．１≦Ｂ≦３１．０、９．１≦Ｃ≦３１．０、Ｂ＋Ｃ≦２Ｄ、Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＝１００の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第１酸化物粉末がＴｉＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた１種の粉末又は２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
遷移金属元素を着色剤として明確な色調及び高い透明性を有し、意匠性および審美性が共に優れる着色透光性ジルコニア焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
イットリアを６ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下含有し、鉄、ニッケル、マンガン、コバルト、クロム、銅及びバナジウムからなる群から選ばれる少なくとも１種以上を酸化物換算で０．０２ｍｏｌ％以上０．５ｍｏｌ％以下含有し、気孔率が高くとも１０００ｐｐｍであることを特徴とする着色透光性ジルコニア焼結体。平均結晶粒径が大きくとも６０μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】組成式ＴｉＯ_ｘ（１．４≦ｘ≦１．８）で表されるチタン酸化物と同等の性能を持ち、安価で、取り扱い時に微粉が発生しないチタン酸化物系の焼結蒸着材料を提供する。
【解決手段】前記蒸着材料は、組成式ＴｉＯ_ｘ（１．４≦ｘ≦１．８）で表されるチタン酸化物からなる主成分と、ガーネット構造をとる化合物と、を含む焼結体とする。あるいは、組成式ＴｉＯ_ｘ（１．４≦ｘ≦１．８）で表されるチタン酸化物からなる主成分と、酸化イットリウムと、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム及び酸化イッテルビウムから選択される少なくとも一種と、を含む焼結体とする。前記ガーネット構造をとる化合物は、希土類アルミニウムガーネットが好ましい。前記酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム及び酸化イッテルビウムから選択される少なくとも一種は、酸化アルミニウムであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
微細な部材としても明確な色調及び高い透明性を有し、意匠性および審美性が共に優れる着色透光性ジルコニア焼結体であり、なおかつ、容易に任意の形状が得られる着色透光性ジルコニア焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
イットリアを６ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下、チタニアを３ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下、ランタノイド系希土類元素を酸化物換算で少なくとも４ｍｏｌ％含有し、気孔率が高くとも１０００ｐｐｍであることを特徴とする着色透光性ジルコニア焼結体。平均結晶粒径が大きくとも６０μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い出力でも安定してスパッタリング可能で、割れの少ないＢｉＴｉ系酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】ＢｉとＴｉとを含む金属酸化物相を含むＢｉＴｉ系酸化物スパッタリングターゲットであって、熱伝導率が、１．４Ｗ／ｍｋ以上である。また、このスパッタリングターゲットの製造方法としては、Ｂｉの酸化物とＴｉの酸化物とを粉砕混合して混合粉末を作製する工程と、該混合粉末を仮焼して仮焼粉とする工程と、該仮焼粉に酸化硼素を１〜９ｍｏｌ％（硼素換算で０．４〜３．６ａｔ％）添加したものを解砕混合して添加仮焼粉とする工程と、該添加仮焼粉を真空または不活性ガス雰囲気中で圧力を加えながら加熱して焼結させる工程と、を有している。 （もっと読む）

【課題】使用時の熱応力に起因する割れが発生しにくい材質からなるＮＤフィルタ用の基板を提供することである。
【解決手段】本発明の基板１０は、スピネル焼結体からなる、ＮＤフィルタ１６用の基板１０である。基板１０は、ヤング率が１５０ＧＰａ以上３５０ＧＰａ以下であり、基板１０を構成するスピネルの焼結体の組成がＭｇＯ・ｎＡｌ_２Ｏ_３ （１．０５≦ｎ≦１．３０）であり、Ｓｉ元素の含有量が２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯと同等以上の導電性を有する透明な酸化チタン系薄膜を工業的に製造するのに適したターゲット材を提供すること。
【解決手段】酸化チタン粉末にホウ素単体粉末またはホウ化チタン粉末を混合して焼結し、ホウ素のドープされた酸化チタン透明薄膜形成に際して使用する直流スパッタ用ターゲット材を製造するターゲット材製造方法である。本発明によれば、ＩＴＯ代替の透明電極等を製造できる工業用途向けのターゲット材を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】高密度で異常放電が発生し難く、安定した膜組成でスパッタリングが可能なＢｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２相を含むＢｉＴｉ系酸化物ターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】ＢｉＴｉ系酸化物ターゲットの金属成分としてのＢｉとＴｉとの原子比が、Ｂｉ：Ｔｉ＝６：ｘ（３＜ｘ＜７）であるターゲットを提供する。特に、ターゲットのＸ線回折によりＴｉＯ_２相の（１１０）面による回折ピークの強度が、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２相の（１７１）面による回折ピークの強度の８．６％未満、またはＢｉ_２Ｏ_３相の（０１３）面による回折ピークの強度が、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２相の（１７１）面による回折ピークの強度の７２．４％未満である。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第１酸化物粉末がＺｒＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた１種の粉末又は２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物との比率が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高出力密度スパッタリングのために有用な、高屈折率を有する酸化物を含有するスパッタリングターゲット及びこのスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】第一酸化物を含むマトリックス材料、及び金属性成分を含む組成物を有するスパッタリングターゲットであって、高屈折率を有する第一酸化物が、任意の酸化物変態にある、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化イットリウム、酸化モリブデン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化タングステン及び酸化ハフニウムからなる酸化物の群、又はその混合物から選択される。 （もっと読む）

【課題】光変換用セラミック複合体の表面形状の蛍光体相を容易に凸状に形成することができる光変換用セラミック複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＡｌ_２Ｏ_３相及び蛍光を発する酸化物結晶相からなる複数の酸化物相が連続的にかつ三次元的に相互に絡み合った組織を有する凝固体をアルカリ水溶液中で加熱処理することにより、前記蛍光を発する酸化物結晶相よりＡｌ_２Ｏ_３相を凹状に形成する工程を備えたことを特徴とする光変換用セラミックス複合体の製造方法である。 （もっと読む）

セラミック複合積層体は、波長変換層と、非発光層とを含み、セラミック複合積層体は、少なくとも０．６５０の波長変換効率（ＷＣＥ）を有する。セラミック複合積層体は、発光材料と散乱材料とを含む波長変換セラミック層をも含むことができ、ここで、積層複合体は、約４０％〜約８５％の全透過率を有する。波長変換層は、プラズマＹＡＧ：Ｃｅ粉末から形成されていてもよい。 （もっと読む）