【課題】 真空蒸着や電子ビーム蒸着の際に蒸着物質の加熱・冷却を繰り返した場合にも、クラック等の欠陥が生じることなく、繰り返し利用が可能なグラファイトるつぼの製造を可能とすることを目的とする。
【解決手段】 高分子フィルムを原料として２０００℃以上の温度で熱処理してグラファイト化させてグラファイトるつぼを形成することにより、真空蒸着や電子ビーム蒸着で蒸着物質の加熱の際に、表面が多孔質でなく溶融金属が表面からグラファイトるつぼ内に浸透することがないため、繰り返し利用が可能なグラファイトるつぼの製造が可能となる。 （もっと読む）