Fターム[4G047LB02]の内容
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超伝導体構造、その製造方法、及び電子素子
【課題】鉄砒素系超伝導体の高品質な超伝導薄膜を備えた超伝導体構造、その製造方法、及び電子素子を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、III-V族半導体から成るバッファ層と、前記バッファ層上に形成され、下記式(1)で表される組成を有する超伝導薄膜と、を含み、前記超伝導薄膜におけるAs−As間隔は、前記III-V族半導体におけるV族原子間距離の約1倍であることを特徴とする超伝導体構造。式(1)LnFeAsO1-pFq(式(1)において、Lnは1種以上のランタノイド元素であり、0<p<1、0≦q<1)
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化合物超伝導体及びその製造方法
【課題】室温超伝導体を開発するための有力な方策は、これまでとは異なる視点から材料
を見つめ、新たな超伝導化合物を見出し、超伝導化合物の系を拡げていくことである。
【解決手段】化学式[Ca24Al28O64]4+・2[xO2−+2yA+2{1−(x+2y)
}e−] (Aはケージに包接された、OH−、O−又はO2−のいずれか1種以上、0≦
x+2y≦0.5)で示されるマイエナイト型結晶構造を有する化合物であることを特徴
とする化合物超伝導体。化学式が[Ca24Al28O64]4+・2[xO2−+2yA] (Aは
ケージに包接された、OH−、O−又はO2−のいずれか1種以上、0≦x≦1、y=1
−x) で示されるマイエナイト型結晶構造を有する化合物を磁性イオンが含有されない方
法で調製し、該化合物のケージに包接されたO2−及びAの合計(x+2y)の50原子
%以上を電子で置換することにより作成できる。
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