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Fターム[4G059AC01]の内容

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【課題】小型化及びコスト低減を実現した紫外線照射装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。 (もっと読む)


【解決手段】半導体用ガラス基板の少なくとも一方の面に非貫通の穴、溝又は段差を有し、非貫通の穴、溝又は段差の側面と基板の非貫通の穴、溝又は段差を有する面との間に第1の面取り部が存在し、上記非貫通の穴、溝又は段差の側面及び底面が鏡面であると共に、上記第1の面取り部が鏡面である、半導体用ガラス基板。
【効果】本発明によれば、IC等の製造に重要な光リソグラフィ法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板やナノインプリント用モールド基板等の非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用ガラス基板おいて、形状精度が高く、底面及び側面が鏡面である非貫通の穴、溝又は段差を有し、非貫通の穴、溝又は段差において割れ及び欠けが発生しにくく、高い強度及び清浄度を有する半導体用合成石英ガラス基板を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】薄膜太陽電池を構成するガラス基板表面に低コストで光閉じ込め効果の大きい凹凸形状を形成することができる基板処理方法を得ること。
【解決手段】ガラス基板の表面にテクスチャ構造を形成する基板処理方法において、ガラス基板の表面に、HFガスと、アルコールガスまたは水蒸気との混合ガスを供給してエッチングする際に、HFガスとアルコールガスまたは水蒸気の流量比を時間的に変化させてエッチングを行う。 (もっと読む)


【課題】表面がタッチパネルのタッチ面を構成している凹部を含む主面を有する調理器用トッププレート用ガラス板であって、除去困難な汚れが付着しにくい調理器用トッププレート用ガラス板を提供する。
【解決手段】調理器用トッププレート用ガラス板1は、表面がタッチパネルのタッチ面を構成する凹部11c、11dを含む主面11を有する。凹部11c、11dの表面の表面粗さは、算術平均粗さRaで0.5μm以下である。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なガラス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 ガラス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すガラス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきガラス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する炭化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたガラス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板に形成した貫通孔の孔内を囲む側壁と貫通孔の孔内に充填した金属材
との気密性を高め、気体のリークを防止する。
【解決手段】ケイ素酸化物を含むガラスを用いて形成されるガラス基板2の表裏面に連通する貫通孔3の孔内に金属材が充填されている基板であって、金属材を充填する前に、貫通孔3の孔内を囲む側壁のケイ素酸化物を選択的にエッチングすることでアンカー部を形成し、アンカー部形成後、貫通孔3の孔内に金属材を充填することで実現する。 (もっと読む)


【課題】基板表面を加工する際に、裏面には加工が施されない基板表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空容器内の基板ステージに基板を載置する基板載置工程と、真空容器内を排気する排気工程と、基板ステージの基板保持面側から不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程と、真空容器内に処理ガスを供給してエッチングするエッチング工程と、エッチングの終了後に不活性ガスの供給を停止する不活性ガス供給停止工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い反射防止性能を有し、かつ防眩性にも優れた太陽電池用積層カバー基板及び太陽電池、並びに太陽電池用積層カバー基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透光基材の片面及び/または両面に、屈折率が1.05〜1.3である積層膜が積層された太陽電池用積層カバー基板であって、受光面側の中心線平均表面粗さRaを0.1μm〜10μmとし、かつ表面粗さの最大高さRmaxを0.1μm〜50μmとする。 (もっと読む)


【課題】薄型、軽量、大画面(大面積)であっても充分な強度を持つ、とくにタッチパネル式の携帯機器に好適にカバーガラスを提供する。
【解決手段】たとえばタッチパネルの携帯電話等の携帯機器に用いられるカバーガラス1は、その板厚が0.3mm〜1.5mmの範囲である。また、携帯機器の表側から見たときに文字または図形として認識しうる、或いは携帯機器の表側から触れたときに認識しうる凹部2が、カバーガラス1の対向する主表面11、12の少なくとも一方の表面に形成されている。この凹部2の表面2aはエッチングで処理されたエッチング面である。 (もっと読む)


【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、耐指紋性、膜と基材表面との密着性がともに良好な耐指紋性被膜を形成するための処理剤、また、さらに該膜の耐摩耗性が良好な耐指紋性被膜を形成するための処理剤、さらに指滑り性を向上させた耐指紋性被膜を形成する処理剤、並びにそれら処理剤からなる被膜を有する耐指紋性ガラス基材の提供。
【解決手段】エチレンオキサイド鎖、プロピレンオキサイド鎖及びブチレンオキサイド鎖からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造を繰り返し単位として含有するモノオール又はポリオールの水酸基がケイ素化合物によって変性された化合物Aを被膜形成成分とすることを特徴とする耐指紋性被膜形成処理剤及び該処理剤によって形成された耐指紋性被膜を有する耐指紋性ガラスを提供する。また、コロイダルシリカ等の微粒子によって基材表面に凹凸を付与し、指滑り性を向上させた耐指紋性ガラス基材についても提供する。 (もっと読む)


【課題】微細な凹凸パターンを有する凹凸ガラス板を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラスペースト層3を形成する工程と、ガラス層を形成する工程と、凹凸を形成する工程とを備える。ガラスペースト層3を形成する工程では、平坦な表面2aを有するガラス板2の該表面2aの一部の上に、ガラス板2よりも軟化点が低いガラス粉末を含むペーストを塗布し、ガラスペースト層3を形成する。ガラス層を形成する工程では、ガラスペースト層3を焼成する。凹凸を形成する工程では、ガラス板2に対するエッチング速度よりもガラス層に対するエッチング速度の方が大きいエッチング液を用いてガラス層をエッチングにより除去すると共に、凹凸を形成する。 (もっと読む)


【課題】 基材の表面に所望の均一な厚さを有するシリカ膜を形成して、該基材を被覆する方法、及び、シリカ膜の厚さが従来よりも薄いものであっても、シリカ膜を紫外線から赤外線までの反射膜として十分に機能させることができるシリカ被覆体を提供する。
【解決手段】 基材の表面をシリカ膜で被覆する方法であって、少なくとも、シリカガラス粒子と、水溶液において熱的要因によりゲル化可能な有機物とを、水に加えてスラリーを作製する工程と、前記スラリーを前記基材の表面に塗布して塗布膜を形成するとともに、該塗布膜を熱的に処理してゲル膜を得る工程と、前記ゲル膜を乾燥させてシリカ粒子層とする工程と、前記シリカ粒子層を加熱して前記基材の表面上に固定させることにより、シリカ膜とする工程とを含むシリカ膜による被覆方法。 (もっと読む)


【課題】 高強度かつ低反射かつ高透過率を有する光学部材を提供する。
【解決手段】 透明基材と、透明基材の上に配置された、スピノーダル型の孔を有する多孔質ガラス層と、を有し、波長領域450nm以上650nm以下で50%以上の透過率を有するように、多孔質ガラス層に形成された孔の平均孔径または多孔質ガラス層の骨格の平均骨格径が設定されていることを特徴とする光学部材。 (もっと読む)


【課題】透明材料をスクライビングないし溶接する方法を提供する。
【解決手段】透明材料をスクライブするため、材料を横切るレーザビームのシングルパスで多重スクライブ造作を創るために、超短レーザパルスを使用し、該スクライブ造作の少なくとも一つは材料の表面下に形成され、クリーンな割断を可能にする。透明材料を溶接するための方法は、局在化された加熱を通して接合を創り出すために、超短レーザパルスを使用する。超短パルス持続時間は、レーザ放射の非線形吸収を起こし、レーザの高繰り返し率は、材料内に熱のパルスからパルスへの蓄積を起こす。レーザは材料の界面近くに集光され、溶接されるための領域に高エネルギーフルーエンスを生成し、材料の残部への損傷を最小化し、きれいな溶接線を可能にする。 (もっと読む)


【課題】応力が過度に集中する鋭角な部分や直角な部分が形成されていない断面形状を有するマイクロ流路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマイクロ流路基板10は、内部にマイクロ流路11が設けられたマイクロ流路本体15を備え、マイクロ流路11の天井部とマイクロ流路11の内側壁が交わる第1の角部16、およびマイクロ流路11の底部と内側壁が交わる第2の角部17が曲面をなしていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaを3〜50000Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、かつ、付着した指紋が布等による乾拭きで拭き取りやすい基材であり、拭き取り部分に再度指紋成分が付着した場合であっても、該指紋成分が目立ちにくい基材、すなわち、優れた耐指紋汚染性を有する基材を提供する。
【解決手段】光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材1の平滑な面2の指が接触する箇所に、該平滑な面2に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴3を有し、該穴3の正面視での投影面積の二乗根の寸法が10〜300μmであり、該穴3の平均深さが0.2〜50μmであり、該穴3の分布頻度が面積比で10〜85%であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材1。 (もっと読む)


【課題】ガラス板とその上に形成された酸化錫膜とを備えた透明導電膜付きガラス板を改良し、可視域から近赤外域にかけての広い波長域において光を効果的に散乱させるに適した構造とする。
【解決手段】本発明による透明導電膜付きガラス板においては、ガラス板1の上に形成された透明導電膜3が、酸化錫を主成分とする層31と、層31の表面上に配置された酸化亜鉛または酸化インジウムを主成分とする島部32とを有し、透明導電膜3の表面に、島部からなる第1凸部32とともに、層の表面に存在する第2凸部33が露出している。 (もっと読む)


【課題】形状が異なる少量多品種の携帯機器用カバーガラスを効率よく製造できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板をエッチングすることによりカバーガラスの形状に形状加工する形状加工工程を含む。この形状加工工程は、ガラス基板の表面に耐エッチング性を有するフィルムを貼着し、当該フィルムに対してレーザ加工または機械加工を施すことにより、ガラス基板の表面のうちエッチングされるべき領域のフィルムを除去してガラスを露出させ、露出したガラスの表面に対してエッチングを行うことで、カバーガラスの形状とする。 (もっと読む)


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